具有通過等離子cvd法形成的蒸鍍膜的塑料成形品的製作方法

2023-08-10 07:38:21 2

專利名稱：：具有通過等離子cvd法形成的蒸鍍膜的塑料成形品的製作方法
技術領域：
：本發明涉及一種具有通過等離子CVD法形成的蒸鍍膜的塑料瓶等塑料成形品及成膜方法。
背景技術：
：以往，為了改善各種基體的特性，進行在其表面形成通過等離子CVD法形成的蒸鍍膜。例如，公知在包裝材料領域中，對容器等塑料基材通過等離子CVD法形成蒸鍍膜，從而提高氣體隔斷性。例如，已知一種塑料容器的製造方法，其特徵在於，至少使用有機矽化合物和氧氣或具有氧化能力的氣體，在利用等離子CVD法在塑料容器的至少一側上形成阻隔層(蒸鍍層)，其中，所述阻隔層含有矽氧化物和至少l種由碳、氫、矽和氧中的至少1種或2種以上的元素構成的化合物，此時，使有機矽化合物的濃度變化(參照專利文獻l)。專利文獻l:日本特開2000-255579號/>才艮
發明內容但是，用專利文獻l的方法形成的蒸鍍膜雖然對氧氣等各種氣體的阻隔效果優異，但存在產生臭氣的問題，特別是在如聚乳酸那樣的生物降解性塑料的表面形成蒸鍍膜的情況下，該趨勢更大。為此，在塑料容器的內表面形成上述蒸鍍膜時，有使容器內容物的風味保持性降低的顧慮，因此正尋求其改善。因此，本發明的目的在於提供一種塑料成形品及成膜方法，該塑料成形品具有不僅阻氣性良好、且還可有效防止臭氣產生的通過等離子CVD法形成的蒸鍍膜。根據本發明，提供一種塑料成形品，所述塑料成形品包含塑料基板和通過等離子CVD法形成於該塑料基板表面的蒸鍍膜，其特徵在於，所述蒸鍍膜具有形成於所述塑料基板表面側的第一蒸鍍層和形成於該第一蒸鍍層上的第二蒸鍍層，所述第一蒸鍍層為不含有氧作為構成元素的有機金屬蒸鍍層。在本發明的塑料成形品中，優選為(1)所述第二蒸鍍層是氧化物蒸鍍層，(2)所述有機金屬蒸鍍層由有機矽聚合物構成，(3)所述塑料基板由生物降解性樹脂、特別是聚乳酸構成,(4)該塑料成形品是容器。根據本發明，提供一種成膜方法，所述成膜方法為通過向塑料基板上供給反應性氣體的等離子CVD而在塑料基板表面形成蒸鍍膜的方法，其中，該方法包括通過使用分子中不含氧的有機金屬化合物的氣體作為反應性氣體的等離子CVD而在塑料基板表面形成第一蒸鍍層的工序，然後，通過使用不同的反應性氣體的等離子CVD而在第一蒸鍍層上形成第二蒸鍍層的工序。在本發明的成膜方法中，優選為(1)在形成第二蒸鍍層的工序中，使用所述有機金屬化合物的氣體與氧化性氣體的混合氣體作為反應性氣體。(2)使用有機矽化合物作為所述有機金屬化合物，(3)作為所述有機矽化合物，使用選自六曱基二矽烷、乙烯基三甲基矽烷、甲基矽烷、二曱基矽烷、三甲基矽烷、二乙基矽烷、丙基矽烷、苯基矽烷和矽氮烷所組成的組中的至少一種，(4)在形成第二蒸鍍層的工序中，作為反應性氣體，使用分子中含氧的有機金屬化合物的氣體與氧化性氣體的混合氣體，(5)使用矽氧烷作為分子中含氧的有機金屬化合物，(6)使用聚乳酸基板作為所述塑料基板，(7)使用塑料容器作為所述塑料基板，(8)所述塑料容器為瓶。在本發明的塑料成形品中，通過等離子CVD法在塑料基板表面形成的蒸鍍膜，由位於基板表面側的第一蒸鍍層和形成於該第一蒸鍍層上的第二蒸鍍層構成，特別重要的特徵是，上述第一蒸鍍層是不含氧的有機金屬蒸鍍層，換言之，該第一蒸鍍層是如下這樣的作為反應性氣體使用不具有氧原子的有機金屬化合物的氣體且作為反應性氣體不使用氧氣，利用等離子CVD法來形成。具有這樣結構的蒸鍍膜的本發明的塑料成形品中，使密合於塑料基板表面的有機金屬蒸鍍層(第一蒸鍍層)成膜時，由於不存在氧，可以有效避免塑料基板表面的由氧導致的分解或氧化。另外，通過將這樣的有機金屬蒸鍍層設置為第一蒸鍍層，在其上使用例如包括氧氣的反應性氣體使氧化物蒸鍍層成膜為第二蒸鍍層時，有機金屬蒸鍍層起到作為保護膜的作用，且可以有效避免成膜時的由氧導致的塑料基板的分解和氧化。因此，本發明的塑料成形品可以有效抑制成膜時臭氣的產生和由成膜導致的性能降低，將其作為例如包裝容器使用時，可以有效防止由臭氣的產生導致容器內容物的風味的減少。另外，通過形成氧化物蒸鍍層作為第二蒸鍍層，可以確保優異的阻氣性。另外，還已知在塑料基板表面通過蒸鍍形成如類金剛石碳(DLC)的無機膜，形成這樣的無機膜時，看不到臭氣的產生。不過，這樣的無機膜與矽氧化物膜不同，存在著色的問題，在要求例如透明性的包裝材料等領域，其適用受到限制。另一方面，在本發明的塑料成形品中，作為第一蒸鍍層的有機金屬蒸鍍層沒有著色的問題，因此，形成作為第二蒸鍍層的以矽氧化物蒸鍍層為代表的氧化物蒸鍍層的方案，也可以有效適用於要求透明性的包裝材料領域。並且，在本發明中，作為第一蒸鍍層設置的有機金屬蒸鍍層，由於不含氧而撓性優異。因此，可確保蒸鍍膜與塑料基板表面之間的高密合性，有效避免剝離和裂紋的發生等，並可以充分發揮形成於有機蒸鍍金屬層上的第二蒸鍍層的特性，例如，在將氧化物蒸鍍層設為第二蒸鍍層時，可以穩定發揮高的阻氣性。圖l表示本發明的塑料成形品中蒸鍍膜的層結構的代表例的截面圖。具體實施例方式參照圖1，本發明的塑料成形品包含塑料基板l和形成於其表面的蒸鍍膜3，另外，蒸鍍膜3由形成於塑料基板1的表面側的第一蒸鍍層3a和形成於其上的第二蒸鍍層3b構成。另外，在圖l的例子中，僅在塑料基板1的一側表面形成有蒸鍍膜3，當然，這樣的蒸鍍膜3也可以形成於塑料基板1的兩面。(塑料基板l)在本發明中，作為應形成蒸鍍膜3的塑料基板1，由其自身公知的熱塑性樹脂形成，例如由下述物質形成低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚l-丁烯、聚(4-曱基)-l-戊烯、或者乙烯、丙烯、l-丁烯、4-曱基-l-戊烯等a-烯烴之間的無規或嵌段共聚物等聚烯烴，環狀烯烴共聚物，乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯基醇共聚物、乙烯-氯乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、聚丙烯酸曱酯、聚曱基丙烯酸曱酯等乙烯系樹脂，聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物、ABS、a-曱基苯乙烯-苯乙烯共聚物等苯乙烯系樹脂，尼龍6、尼龍6-6、尼龍6-10、尼龍ll、尼龍12等聚醯胺，聚對苯二曱酸乙二酯、聚對苯二曱酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚羥基丁酸酯(PHB)、3-幾基丁酸酯與3-羥基戊酸酯的無規共聚物(PHBHV)、3-羥基丁酸酯與3-羥基己酸酯的無規共聚物(PHBH)、聚(s-己內酯)(PCL)、聚琥珀酸亞乙酯、聚琥珀酸亞丁酯(PBS)、聚琥珀酸亞丁酯-己二酸酯(PBAS)、聚對苯二曱酸乙二酯-己二酸酯(PETA)、聚對苯二曱酸丁二酯-己二酸酯(PBTA)等聚酯，聚碳酸酯，聚苯醚，聚乳酸(PLA)、聚乙醇酸(PGA)、乳酸-乙醇酸共聚物、醋酸纖維素等生物降解性樹脂，及它們的混合物；等。本發明中，使用由聚乳酸等生物降解性塑料構成的塑料基板l時，表現了最顯著的效果。即，原因在於，在這樣的生物降解性塑料基板上形成蒸鍍膜時，臭氣產生是最明顯的，但本發明中使用這樣的生物降解性塑料的情況下也可可靠地防止臭氣產生。塑料基板l的形態沒有特別限制，可以是薄膜或薄片，還可以是瓶、杯、管等容器和其他的成形品的形狀，可以是根據其用途具有適當形狀的容器。當然，其成形方法等也沒有限制，如雙軸拉伸吹塑成形等。另外，塑料基板1也可以是將上述熱塑性樹脂(優選烯烴系樹脂)作為內外層、且在這些內外層之間具有氧吸收性層的阻氣性的多層結構物。(蒸鍍膜3)一第一蒸鍍層3a—本發明中，在蒸鍍膜3中，形成於塑料基板l的表面的第一蒸鍍層3a是不含氧的有機金屬蒸鍍層，是通過使用不含氧原子的有機金屬化合物的氣體作為反應氣體並完全不使用氧氣來進行等離子CVD而形成的層。即，由於在完全不存在或不產生氧的狀態下進行成膜，所以可以可靠地抑制該成膜工序中的塑料基板l因氧導致的分解或氧化，可以可靠地避免臭氣的發生和塑料基板l的性能降低。另外，該有機金屬蒸鍍層3a大量含有金屬元素和碳元素，其結果是撓性提高，對塑料基板l的密合性也優異。作為這種有機金屬蒸鍍層3a的形成中使用的有機金屬化合物，只要是不含氧、且可通過在不存在氧的狀態下的等離子反應而形成有機金屬聚合膜的物質，就沒有特別限制，例如，可以例示三烷基鋁等有機鋁化合物、四烷基鈦等有機鈦化合物、各種有機矽化合物等，尤其是從成膜性等的觀點考慮，優選使用有機矽化合物。作為這種不含氧原子的有機矽化合物的例子，其並沒有限定，可以列舉出六曱基二矽烷、乙烯基三甲基矽烷、甲基矽烷、二甲基矽烷、三曱基矽烷、乙基三曱基矽烷、三甲基乙烯基矽烷、二乙基矽烷、丙基矽烷、苯基矽烷、二甲基苯基矽烷等矽烷化合物和矽氮烷等。這種有機矽化合物可以單獨使用，也可以並用2種以上。另外，在有機金屬蒸鍍層3a的成膜時，如先前所述，不使用氧氣等氧化性氣體，但為了調整反應氣體的濃度等，可以與上述有機金屬化合物的氣體一起適當使用氬氣或氦氣等惰性氣體作為載氣。另外，在本發明中，如上所述的有機金屬蒸鍍層3a，其厚度優選為塑料基板l的表面粗糙度(Ra)以上，特別優選該表面粗糙度(Ra)+511111以上。若該厚度比塑料基板l的表面粗糙度薄，則以下所述的第二蒸鍍層3b的成膜工序中，該有機金屬蒸鍍層3a作為保護膜的功能不充分，其結果是容易產生臭氣的發生和塑料基板l的性能低下等。另外，由於通常塑料基板l的表面粗糙度(Ra)有界限，所以通常只要有機金屬蒸鍍層3a的厚度為0.1nm以上、尤其是0.5nm以上，就可以滿足上述條件。進而，即使有機金屬蒸鍍層3a厚度形成較厚在需要以上，也沒有更多的效果，反而在成本上是不利的，因此，有機金屬蒸鍍層3a的厚度將在上述範圍內作為條件，優選50nm以下的範圍。另夕卜，塑料基板l的表面粗糙度(Ra)是以JISB0601-1994規定的算術平均粗糙度(十點平均粗糙度)。一第二蒸鍍層3b—本發明中，形成於上述有機金屬蒸鍍層3a上的第二蒸鍍層3b,可以是根據塑料成形品(基板l)的用途具有適當特性的層，可以是用於提高阻氣性的氧化物蒸鍍層，還可以是用於提高耐水性等的烴系蒸鍍層。氧化物蒸鍍層是通過將有機金屬化合物的氣體與氧化性氣體一起作為反應氣體使用的等離子CVD來形成的層。作為這種氧化物蒸鍍層形成中使用的有機金屬化合物，可以使用具有氧原子的物質和不具有氧原子的物質的任一種。作為不具有氧原子的有機金屬化合物的例子，可以舉例有機金屬蒸鍍層3a的形成中使用的物質，另外，作為具有氧原子的有機金屬化合物的例子，可以列舉出烷氧基鈦等有機鈦化合物、矽氧烷化合物例如曱基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三曱氧基矽烷、四曱氧基矽烷、四乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、曱基三曱氧基矽烷、曱基三乙氧基矽烷等有機矽烷化合物，八甲基環四矽氧烷、1，1,3,3-四曱基二矽氧烷、六甲基二矽氧烷等有機矽氧烷化合物等。這些有機金屬化合物可以單獨4吏用，也可以2種以上並用。另外，在本發明中，在成膜作為第二蒸鍍層3b的氧化物蒸鍍層的過程中，可以使用成膜有機金屬蒸鍍層3a過程中所用的反應氣體，從成膜工序簡便的觀點考慮，可以優選使用在有機金屬蒸鍍層3a的成膜中使用的不含氧原子的有機金屬化合物。另外，作為氧化物蒸鍍層成膜中使用的氧化性氣體，可以使用氧氣或NOx。當然，在這樣的成膜氧化物蒸鍍層的工序中，也可以將前述的惰性氣體適當地作為載氣使用。本發明中，該氧化物蒸鍍層理想的是具有MOx(M:有機金屬化合物所具有的金屬原子)的組成，在該膜中，也可以含有源自有機金屬化合物的有機基團的碳(C)成分。例如，通過在有機金屬蒸鍍層3a(第一蒸鍍層)側的區域較多分布碳(C)成分，可以提高與有機金屬蒸鍍層3a的密合性，另外，通過使表面側區域較多分布碳(C)成分，從而可提高耐水性。通常，以金屬(M)、氧(0)和碳(C)這三元素為基準，在確保優異的阻氣性方面，優選以4nm以上的厚度形成碳(C)濃度為5%以下的區域。另外，在提高耐水性、抑制金屬(M)向水中溶出方面，優選以上述三元素為基準，在外表面側(與塑料基板l相反的表面側)以0.2nm以上的厚度形成碳(C)濃度為15原子%以上的區域。另外，氧化物蒸鍍層由於其厚度越厚越顯示高的阻氣性，所述根據用途，設定為顯示目標阻氣性那樣的厚度。通常在容器的領域，特別是由聚乳酸等生物降解性樹脂構成的塑料容器(尤其是瓶)等要求特別高的阻氣性，因此，其厚度可以設定在5nm以上，特別是可以設定在1050nm左右的範圍。另外，烴系蒸鍍層作為所謂的DLC(類金剛石碳)是公知的，所述層通過使用各種烴氣體作為反應性氣體的等離子CVD來成膜。作為可用作反應性氣體的烴，並沒有特別限制，從氣化容易的觀點出發，優選不飽和脂肪族烴和芳香族烴，具體地，作為不飽和脂肪族烴，可以列舉出，乙烯、丙烯、丁烯、戊烯等烯烴類，乙炔、甲基乙炔等炔烴類，丁二烯、戊二烯等二烯烴類，環戊烯、環己烯等環烯烴類，作為芳香族烴，可以列舉出苯、曱苯、二曱苯、茚、萘、菲等，優選不飽和脂肪族烴，特別優選乙烯、乙炔。這種烴系蒸鍍層雖然存在著色的問題，但具有耐水性優異的特性，因此，在不要求透明性而特別要求耐水性的用途中適用塑料成形品的情況下，在第一蒸鍍層3a上以適宜的厚度設置第二蒸鍍層3b。另外，在本發明中，還可以由前述的氧化物蒸鍍層和烴系蒸鍍層形成第二蒸鍍層3b。此時，優選在第一蒸鍍層3a上形成氧化物蒸鍍層，進一步優選在其上形成烴系蒸鍍層，由此，不僅可以確保優異的阻氣性和耐水性，而且也可以可靠地防止金屬成分從氧化物蒸鍍層溶出。&—J"rw、j，。(實驗方法)將由作為生物降解性樹脂的聚乳酸(PLA)形成的容器(容器內表面的表面粗糙度Ra二5nm、透氧量0.5cc/瓶/天)設置於腔室內後，將容器內外進行真空排氣，並在蒸鍍時導入必要的反應性氣體後，達到^見定的壓力時，導入2.45GHz的孩i波並進行等離子蒸鍍，蒸鍍工序中連續進行形成由有機矽聚合膜形成的第一蒸鍍層以及形成由氧化矽膜或烴系蒸鍍膜形成的第二蒸鍍層。另外，容器的表面粗糙度Ra是根據JISB0601-1994使用表面粗糙度計AFM(DigitalInstruments,^司製造的NanoScopeIII)進行測定，並以算術平均粗糙度表示。以下的實施例1~4和比較例中，第二蒸鍍層的形成中使用六曱基二矽氧烷(HMDSO)與氧氣的混合氣體(混合容積比=1:10)作為反應性氣體，第一蒸鍍層的形成中變換了各種反應性氣體。所得蒸鍍膜的特性中風味保持'性和阻隔性用以下方法進行評價，另外蒸鍍膜的厚度用以下方法進行測定。(風味保持性)向蒸鍍膜形成後的瓶中填充水，在37°C經過4周後由小組討論的風味保持四分評定法進行實施，評價結果的評分如下。1:瓶內的水無味。2:瓶內的水稍微有味。(仔細品味時有區別)3:瓶內的水有味。(入口的瞬間有區別)4:瓶內的水相當有味。(明顯帶味)(阻隔性)使用MOCON公司製造的氧氣阻隔性試驗機OX-TRAN(37。C)測定透氧量，由該透過量評價阻隔性。(蒸鍍膜的厚度)使用PhillipsCo.製造的X射線衍射裝置(X，PertProMRD),利用X射線反射率法測定各蒸鍍層的厚度。(實施例1)準備三曱基乙烯基矽烷(TMVS)作為不具有氧原子的有機金屬化合物。僅使用該TMVS作為反應性氣體，以500W功率使微波振蕩2秒鐘，形成作為第一蒸鍍層的有機金屬蒸鍍層，然後，使用六甲基二矽氧烷(HMDSO)與氧氣的混合氣體，以微波功率為500W的功率使微波振蕩8秒鐘，形成成為第二蒸鍍層的氧化物蒸鍍層。在所得的蒸鍍膜中，有機金屬蒸鍍層的厚度為8nm,氧化物蒸鍍層的厚度為20nm。另外，蒸鍍時沒有臭氣，且風味保持性也良好。氧氣阻隔性能為0.03cc/瓶/天，是良好的。這些結果示於表l。(實施例2)準備乙基三曱基矽烷(ETMS)作為不具有氧原子的有機金屬化合物。僅使用該ETMS作為反應性氣體，與實施例l同樣操作形成作為第一蒸鍍層的有機金屬蒸鍍層，然後與實施例l完全同樣操作形成成為第二蒸鍍層的氧化物蒸鍍層。在所得的蒸鍍膜中，有機金屬蒸鍍層的厚度為8nm,氧化物蒸鍍層的厚度為20nm。另外，蒸鍍時沒有臭氣，且風味保持性也良好。氧氣阻隔性能為0.03cc/瓶/天，是良好的。這些結果示於表l。(比較例l)準備六甲基二矽氧烷(HMDSO)作為具有氧原子的有機金屬化合物。<又4吏用該HMDSO作為反應性氣體，與實施例l同樣操作形成作為第一蒸鍍層的有機金屬蒸鍍層，然後與實施例l完全同樣操作形成成為第二蒸鍍層的氧化物蒸鍍層。在所得蒸鍍膜中，有機金屬蒸鍍層的厚度為8nm，氧化物蒸鍍層的厚度為20nm。另外，蒸鍍時產生臭氣，且風味保持性也降低。氧氣阻隔性能為0.03cc/瓶/天，是良好的。這些結果示於表l。(實施例3)準備由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)形成的容器(容器內表面的表面粗糙度Ra-lnm,透氧量0.05cc/瓶/天)。使用該PET瓶，僅使用TMVS作為反應性氣體，以500W功率使微波振蕩l秒鐘，形成第一蒸鍍層(有機金屬蒸鍍層)，除此以外，與實施例l完全同樣操作，形成第二蒸鍍層(氧化物蒸鍍層)。在所得蒸鍍膜中，有機金屬蒸鍍層的厚度為3nm,氧化物蒸鍍層的厚度為20nm。另外，蒸鍍時沒有臭氣，且風味保持性也良好。氧氣阻隔性能為0.002cc/瓶/天，是良好的。這些結果示於表l。(實施例4)僅使用TMVS作為反應性氣體，以500W功率使;敞波振蕩1秒鐘，第一蒸鍍層(有機金屬蒸鍍層)的厚度替換為3nm,除此以外，與實施例l相同，在聚乳酸制容器(內表面表面粗糙度Ra=5nm)的內表面形成第一蒸鍍層(有機金屬蒸鍍層)和第二蒸鍍層(氧化物蒸鍍層厚度20nm)。該結果為，在蒸鍍時稍微產生臭氣，但沒有達到比較例l的程度。另外，風味保持性與實施例l比較稍有降低，但比比較例l要好。(實施例5)與實施例1同樣操作形成作為第一蒸鍍層的有機金屬蒸鍍層，然後，作為第二蒸鍍層使用乙炔氣體作為反應性氣體並形成烴系蒸鍍層(厚30nm)。在所得蒸鍍膜中，有機金屬蒸鍍層的厚度為8nm,氧化物蒸鍍層的厚度為20nm。另外，蒸鍍時沒有臭氣，且風味保持性也良好。氧氣阻隔性能為0.03cc/瓶/天，是良好的。這些結果示於表l。表ltableseeoriginaldocumentpage17權利要求1.一種塑料成形品，所述塑料成形品包含塑料基板和通過等離子CVD法形成於該塑料基板表面的蒸鍍膜，其特徵在於，所述蒸鍍膜具有形成於所述塑料基板表面側的第一蒸鍍層和形成於該第一蒸鍍層上的第二蒸鍍層，所述第一蒸鍍層為不含有氧作為構成元素的有機金屬蒸鍍層。2.根據權利要求l所述的塑料成形品，其中，所述第二蒸鍍層為氧化物蒸鍍層。3.根據權利要求l所述的塑料成形品，其中，所述有機金屬蒸鍍層由有機矽聚合物構成。4.根據權利要求l所述的塑料成形品，其中，所述塑料基板由生物降解性樹脂構成。5.根據權利要求l所述的塑料成形品，其中，該塑料成形品為答器o6.—種成膜方法，所述成膜方法為通過向塑料基板上供給反應性氣體的等離子CVD而在塑料基板表面形成蒸鍍膜的方法，其中，該方法包括通過使用分子中不含氧的有機金屬化合物的氣體作為反應性氣體的等離子CVD而在塑料基板表面形成第一蒸鍍層的工序，然後，通過使用不同的反應性氣體的等離子CVD而在第一蒸鍍層上形成第二蒸鍍層的工序。7.根據權利要求6所述的成膜方法，在形成第二蒸鍍層的工序中，使用所述有機金屬化合物的氣體與氧化性氣體的混合氣體作為反應性氣體。8.根據權利要求6所述的製造方法，使用有機矽化合物作為所述有機金屬化合物。9.根據權利要求8所述的製造方法，作為所述有機矽化合物，使用選自六曱基二矽烷、乙烯基三甲基矽烷、曱基矽烷、二甲基矽烷、三甲基矽烷、二乙基矽烷、丙基矽烷、苯基矽烷和矽氮烷所組成的組中的至少一種。10.根據權利要求6所述的成膜方法，在形成第二蒸鍍層的工序中，使用分子中含氧的有機金屬化合物的氣體與氧化性氣體的混合氣體作為反應性氣體。11.根據權利要求10所述的成膜方法，使用矽氧烷作為分子中含氧的有機金屬化合物。12.根據權利要求6所述的成膜方法，使用生物降解性樹脂基板作為所述塑料基板。13.根據權利要求6所述的成膜方法，使用塑料容器作為所述塑料基板。14.根據權利要求13所述的成膜方法，所述塑料容器為瓶。全文摘要本發明的塑料成形品在塑料基板表面形成有通過等離子CVD法形成的蒸鍍膜，該蒸鍍膜包含有機矽系蒸鍍層和矽氧化物系蒸鍍層，所述有機矽系蒸鍍層形成於塑料基板1的表面側、不含氧，所述矽氧化物系蒸鍍層形成於有機矽系蒸鍍層上。該塑料成形品不僅阻氣性良好，還可以有效防止成膜時臭氣的產生，且風味保持性優異。文檔編號B65D23/00GK101511583SQ200780033290公開日2009年8月19日申請日期2007年7月26日優先權日2006年7月28日發明者家木敏秀,山田幸司,藍原武志申請人:東洋制罐株式會社