襯底傳送方法、傳送系統和光刻投影設備的製作方法

2023-07-18 04:17:01 1

專利名稱：襯底傳送方法、傳送系統和光刻投影設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種通過採用傳送單元基於有效傳送數據將襯底從第 一襯底保持器傳送至第二襯底保持器的方法以及使其能夠執行前述方法 的用計算機可執行代碼編碼的計算機可讀介質。本發明還涉及一種用於 基於傳送數據的傳送襯底的傳送系統、 一種包括該傳送系統的光刻投影 設備、 一種採用該光刻投影設備製造器件的方法以及使其能夠執行上述 器件製造方法的用計算機可執行代碼編碼的計算機可讀介質。
背景技術：
光刻設備是一種將所需圖案應用到襯底上(通常到所述襯底的目標
部分上)的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(ic)的製造中。
在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版(retide)的圖案形成裝置 用於生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉移到襯 底(例如，矽晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、 一個或多 個管芯)上。典型地，經由成像將所述圖案轉移到在所述襯底上設置的 輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。通常，單獨的襯底將包含連續形成圖案 的相鄰目標部分的網絡。公知的光刻設備包括所謂步進機，在所述步 進機中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標 部分；以及所謂掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向("掃 描"方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描 所述襯底來輻射每一個目標部分。還可以通過將所述圖案壓印
(imprinting)到所述襯底上，將所述圖案從所述圖案形成裝置轉移到所 述襯底上。
在採用光刻設備的器件製造方法中，生產中的一個重要因素，即已 正確製造器件的百分比，是被印刷的層和與之相關的先前形成的層之間 的準確度。已知的重疊以及重疊誤差預計通常是10nm或者以下。為了達到這樣的準確度，襯底應當在很高的準確度下對準將被轉移的掩模圖案。 為了得到很好的圖像清晰度以及層的重疊精度，襯底的被輻射表面 應當準確的放置在支撐面(即襯底保持器)上，並且在曝光的過程中盡 可能的保持其在襯底保持器上的平坦和平穩。通常，為了實現上述目的， 襯底保持器包括具有多個凸出物的平板，凸出物也指節塊或突起。在這 種襯底保持器上，襯底可以被放置以使其背面與全部位於明確定義的平 面上的節塊形成接觸。通過與真空產生裝置連接的襯底保持器上的連接 孔，襯底背面可以相對於節塊被牢固的夾住。採用這種方式的節塊可以 確保僅僅一部分背面區域事實上相對於固體表面而被壓住；這樣，晶片 背面上的任何微粒汙染物的形變效應都被最小化，因為該汙染物更有可 能處在節塊之間的空隙而不是被壓在節塊的上表面。
但是，如果襯底如上所描述的那樣被固定在襯底臺上，則襯底將在 節塊上彎曲。其結果是在襯底上曝光的圖像將局部的偏移。當顯影后的 襯底再一次被放置在襯底臺上進行第二次曝光時，因為相對於節塊的位 置的不同，第二次曝光期間的局部圖像的偏移將不同於第一次曝光期間 的局部圖像的偏移。因此，重疊誤差被引入。
由於對更小的圖案成像從而製造具有更高密度的器件的持續需求， 迫切需要減小重疊誤差，這便帶來了在具有節塊的襯底臺上對襯底的放 置方式進行改進的要求。

發明內容
旨在提供一種比已知技術具有更高定位準確度的襯底傳送方法和 傳送系統。為此，本發明提供了一種通過採用基於有效傳送數據的傳送 單元將襯底從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器的方法，該方法包 括
在第一襯底保持器上提供襯底； 測量襯底的位置誤差；
在己測量的位置誤差的基礎上計算位置調整數據；
根據位置調整數據相對於參考位置移動第二襯底保持器；
根據傳送數據並通過傳送單元將襯底從第一襯底保持器傳送到第二襯底保持器，並放置襯底至已移動的第二襯底保持器上。
在一個實施例中，本發明提供了一種用計算機可執行代碼編碼的計
算機可讀介質，當該介質被加載到計算機組件上時，可使計算機組件控
制上面所描述的傳送方法。
另外，在一個實施例中，本發明還提供了一種基於有效傳送數據來
傳送襯底的傳送系統，該傳送系統包括
第一襯底保持器，其被配置用作保持襯底；
位置傳感器，其被配置用作測量位於第一襯底保持器上的襯底的位 置誤差；
第二襯底保持器，其被配置用作保持襯底；
傳送單元，其被配置為根據傳送數據將襯底從第一襯底保持器傳送 至第二襯底保持器；
處理器，其通信連接到位置傳感器，並被配置為在己測量的位置誤 差的基礎上來計算位置調整數據；
控制單元，其通信連接到處理器，並被配置為根據已計算的位置調 整數據而相對於參考位置移動第二襯底保持器。
此外，在一個實施例中，本發明還提供了一種光刻投影設備，包括
照射系統，其被配置用作提供輻射束；
支撐結構，其被配置用作支撐圖案形成裝置，該圖案形成裝置用作 將圖案在輻射束的截面上賦予輻射束； 襯底臺，其被配置用作保持襯底；
投影系統，其被配置為將已圖案化的輻射束曝光到襯底上； 其中，光刻設備還包括上面所描述的傳送系統，而襯底臺正是第二 襯底保持器。
在一個實施例中，本發明還提供了一種包括如上面所描述的釆用光 刻投影設備將已圖案化的輻射束投影到襯底上來製造器件的方法。
最後，在一個實施例中，本發明提供了一種用計算機可執行代碼編 碼的計算機可讀介質，當該計算機可讀介質被加載到計算機組件中時， 其能夠使計算機組件控制上面所描述的製造器件的方法。


現在僅通過舉例並參考所附示意圖來描述本發明的實施例，附圖中 相應的附圖標記表示相應的部分，且其中
圖l描述了根據本發明的一個實施例的光刻設備； 圖2a-2c示意性的描述了本領域所公知的在襯底臺上襯底的放置形
式；
圖2d示意性的描述了如圖2c所示的在襯底臺上放置的襯底的細節； 圖3示意性的描述了一種可以在本發明實施列中使用的傳送系統； 圖4示意性的描述了一種根據本發明實施例的將襯底從第一襯底保 持器傳送至第二襯底保持器的方法；
圖5示意性的描述了一種可用於本發明實施例的計算機組件的實施例。
具體實施例方式
圖l示意性地示出根據本發明的一個實施例的光刻設備。所述設備
包括
照射系統(照射器)IL，配置用於調節輻射束B (例如，紫外(UV)
輻射或極紫外(EUV)輻射)；
支撐結構(例如掩模臺)MT，配置用於支撐圖案形成裝置(例如 掩模)MA並與配置用於根據確定的參數精確地定位圖案形成裝置的第 一定位裝置PM相連；
襯底保持器，例如襯底臺(例如晶片臺)WT，配置用於保持襯底 (例如塗覆有抗蝕劑的晶片)W，並與配置用於根據確定的參數精確地
定位襯底的第二定位裝置PW相連；以及
投影系統(例如折射式投影透鏡系統)PS，所述投影系統PS配置用 於將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標部分C
(例如包括一根或多根管芯)上。
所述照射系統可以包括各種類型的光學部件，例如折射型、反射型、 磁性型、電磁型、靜電型或其它類型的光學部件、或其任意組合，以引 導、成形、或控制輻射。支撐結構支撐，即承受圖案形成裝置的重量。支撐結構以依賴於圖 案形成裝置的取向、光刻設備的設計以及諸如圖案形成裝置是否保持在 真空環境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置。所述支撐結構可以採 用機械的、真空的、靜電的或其他夾持技術保持圖案形成裝置。所述支 撐結構可以是框架或臺，例如，其可以根據需要成為固定的或可移動的。 所述支撐結構可以確保圖案形成裝置位於所需的位置上(例如相對於投 影系統)。在這裡任何使用的術語"掩模版"或"掩模"都可以認為與更 上位的術語"圖案形成裝置"同義。
這裡所使用的術語"圖案形成裝置"應該被廣義地理解為表示能夠 用於將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上 形成圖案的任何裝置。應當注意，被賦予輻射束的圖案可能不與在襯底 的目標部分上所需的圖案完全相符(例如如果該圖案包括相移特徵或所 謂輔助特徵)。通常，被賦予輻射束的圖案將與在目標部分上形成的器件 中的特定的功能層相對應，例如集成電路。
圖案形成裝置可以是透射式的或反射式的。圖案形成裝置的示例包 括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在 光刻中是公知的，並且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、 衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型。可編程反射 鏡陣列的示例採用小反射鏡的矩陣布置，可以獨立地傾斜每一個小反射 鏡，以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦 予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束。
應該將這裡使用的術語"投影系統"廣義地解釋為包括任意類型的 投影系統，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電 型光學系統、或其任意組合，如對於所使用的曝光輻射所適合的、或對 於諸如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。這裡使用的任 何術語"投影透鏡"可以認為是與更上位的術語"投影系統"同義。
如這裡所示的，所述設備是透射型的(例如，採用透射式掩模)。 替代地，所述設備可以是反射型的(例如，採用如上所述類型的可編程 反射鏡陣列，或採用反射式掩模)。
所述光刻設備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和/或兩個或更多的支撐結構，例如掩模臺)的類型。在這種"多臺"機器中，可以 並行地使用附加的臺和/或支撐結構，或可以在將一個或更多個其它臺和 /或支撐結構用於曝光的同時，在一個或更多個臺上執行預備步驟。
光刻設備也可以是以下類型的，其中襯底的至少一部分被具有相對 高折射率的液體，例如水，所覆蓋，以填充投影系統和襯底之間的空間。 浸沒液也可以用於光刻設備中的其他空間，例如用於掩模和投影系統之 間。浸沒技術是本領域中所公知的增加投影系統數值孔徑的技術。本文 中所使用的術語"浸沒"並不意味著例如襯底的結構必須浸沒在液體中， 而僅僅意味著在曝光期間液體處於投影系統和襯底之間。
參照圖l，所述照射器IL接收從輻射源SO發出的輻射束。該源和 所述光刻設備可以是分立的實體(例如當該源為準分子雷射器時)。在這 種情況下，不會將該源考慮成光刻設備的組成部分，並且通過包括例如
合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統BD的幫助，將所述輻射束 從所述源SO傳到所述照射器IL。在其他情況下，所述源可以是所述光 刻設備的組成部分(例如當所述源是汞燈時)。可以將所述源SO和所述 照射器IL、以及如果需要時的所述束傳遞系統BD —起稱作輻射系統。
所述照射器IL可以包括用於調整所述輻射束的角強度分布的調整 器AD。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述 外部和/或內部徑向範圍(一般分別稱為^-外部和"-內部)進行調整。 此外，所述照射器IL可以包括各種其它部件，例如積分器IN和聚光器 CO。可以將所述照射器用於調節所述輻射束，以在其橫截面中具有所需 的均勻性和強度分布。
所述輻射束B入射到保持在支撐結構(例如，掩模臺MT)上的所 述圖案形成裝置(例如，掩模MA)上，並且通過所述圖案形成裝置來 形成圖案。已經穿過圖案形成裝置MA之後，所述輻射束B通過投影系 統PS，所述PS將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通過第 二定位裝置PW和位置傳感器IF (例如，幹涉儀器件、線性編碼器或電 容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同 的目標部分C定位於所述輻射束B的路徑中。類似地，例如在從掩模庫 的機械獲取之後，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器(圖1中未明確示出)用於將圖案形成裝置MA相對於所
述輻射束B的路徑精確地定位。通常，可以通過形成所述第一定位裝置 PM的一部分的長行程臺模塊(粗定位)和短行程臺模塊(精定位)的 幫助來實現掩模臺MT的移動。類似地，可以採用形成所述第二定位裝 置PW的一部分的長行程臺模塊和短行程臺模塊來實現所述襯底臺WT 的移動。在步進機的情況下(與掃描器相反)，所述掩模臺MT可以僅與 短行程致動器相連，或可以是固定的。可以使用圖案形成裝置對準標記 Ml、 M2和襯底對準標記P1、 P2來對準掩模MA和襯底W。儘管所示 的襯底對準標記P1、 P2佔據了專用目標部分，但是他們可以位於目標 部分之間的空隙(這些公知為劃線對齊標記)上。類似地，在將多於一 個的管芯設置在圖案形成裝置MA上的情況下，所述掩模對準標記可以 位於所述管芯之間。
可以將所述設備用於以下模式的至少一種
1. 在步進模式中，在將賦予所述輻射束的整個圖案一次投影到目 標部分C上的同時，將掩模臺MT和襯底臺WT保持為基本靜止(即， 單一的靜態曝光)。然後將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得 可以對不同目標部分C曝光。在步進模式中，曝光場的最大尺寸限制了 在單一的靜態曝光中成像的所述目標部分C的尺寸。
2. 在掃描模式中，在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標部分C 上的同時，對掩模臺MT和襯底臺WT同步地進行掃描(即，單一的動 態曝光)。襯底臺WT相對於掩模臺MT的速度和方向可以通過所述投 影系統PS的(縮小)放大率和圖像反轉特徵來確定。在掃描模式中， 曝光場的最大尺寸限制了單一的動態曝光中的所述目標部分的寬度(沿 非掃描方向)，而所述掃描運動的長度確定了所述目標部分的高度(沿所 述掃描方向)。
3. 在另一個模式中，將用於保持可編程圖案形成裝置的掩模臺MT 保持為基本靜止狀態，並且在將賦予所述輻射束的圖案投影到目標部分 C上的同時，對所述襯底臺WT進行移動或掃描。在這種模式中，通常 採用脈衝輻射源，並且在所述襯底臺WT的每一次移動之後、或在掃描 期間的連續輻射脈衝之間，根據需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易於應用於利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型 的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻中。
也可以採用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。
圖2a-2c示意性的描述了本領中公知的襯底在襯底臺上的放置模式。 襯底臺WT配備有多個突出物1，也可稱為突起或者節塊。在本文中，採
用節塊來表示。
如圖2a所示，襯底W向襯底臺WT移動，直到襯底與配備在襯底臺 表面上的多個節塊相接觸。
襯底W位於襯底臺WT上，其背面與襯底臺WT表面上的多個節塊1 相接觸，如圖2b示意性描述的情況。
在這一階段，在多個節塊之間的空隙中的空氣，通過與真空產生裝 置5相連接的在襯底臺WT中的連接孔3被吸走。空氣的抽吸在圖2c中用箭
頭示意性的示出。
圖2d示意性的描述了一個細節，即如圖2c中放置在襯底臺WT上的 襯底W中的虛線圓圈所示的部分。因為介於襯底W和襯底臺WT之間的真 空以及由於多個節塊1所造成的襯底臺WT上的非平坦表面，襯底W局部 變形。因此，在襯底W上被曝光的圖像將相對於所期望的圖案而局部偏 移。當顯影后的襯底W再次被放置在襯底臺WT上進行第二次曝光時，因 為相對於多個節塊l的位置不同，第二次曝光期間的局部圖像的偏移將不 同於第一次曝光期間的局部圖像的偏移。因此，重疊誤差被引入。
圖3示意性的描述了本發明一個實施例採用的傳送系統。圖3中所描 述的傳送系統適用於光刻投影設備。它被配置為基於有效傳送數據來傳 送襯底。該傳送系統包括第一襯底保持器ll、位置傳感器13、第二襯底 保持器15、傳送單元17、處理器19以及控制單元21。
第一襯底保持器11被配置用來保持襯底12。在一個實施例中，第一 襯底保持器ll可圍繞其中心旋轉，即該襯底被保持所在的表面的中心。 因此，旋轉軸大致垂直於上述表面。
第二襯底保持器15同樣被配置用來在其表面上保持襯底12。第二襯 底保持器15的上述表面可裝備有多個節塊。如果傳送系統用於光刻投影設備，則第二襯底保持器15對應於襯底 臺WT，而被保持的襯底12對應於襯底W。而且，第一襯底保持器ll可以
對應於在預對準單元中使用的襯底臺。
位置傳感器13被配置用來測量放置在第一襯底保持器11上的襯底 12的位置誤差。該位置誤差對應於第一襯底保持器11上的襯底12的測量 位置與第一襯底保持器11上的襯底12的理想位置之間的差值。在圖3中，
第一襯底保持器ll對應於預對準單元中的襯底保持器。這種預對準單元 可與光刻投影設備一同使用來對準襯底12，以使得其能夠被傳送給光刻 投影設備中的襯底臺WT，並能夠被放置在其上的預定區域內。在預對 準單元中的位置傳感器13可為偏心傳感器，更確切的是邊緣傳感器。通 過以襯底12的不同方向測量襯底12的邊緣，偏心傳感器可確定襯底的偏 心。為了能夠沿不同方向對襯底實施測量，襯底臺通常是可旋轉的。
傳送單元17被配置用於將襯底12從第一襯底保持器11傳送至第二 襯底保持器15。該傳送根據前述的傳送數據來完成。如圖3示意性描述的 實施例中，傳送單元17包括兩個子單元，即夾持器單元18以及至少三個 可延長的銷，所述夾持器單元18被配置為從第一襯底保持器11拾起襯底 12並將襯底12向第二襯底保持器15移動，而所述銷處於第二襯底臺15中， 又被稱為E-銷23。可通過由本地電子設備控制的E-銷致動器25 (例如洛 倫茲電動機)來控制E-銷23的位置和移動。當電力故障發生時，作為安 全檢測，E-銷23可被配置為在其重力的作用下而下落到其最低的位置。 這可以保證E-銷23不被損壞。正如箭頭51和52分別示意性描述的那樣， 傳送單元17可用來控制被夾持器單元18所保持的襯底12的移動而與E-銷 23的移動協同操作。傳送單元17可控制夾持器單元18向E-銷23的方向移 動，在圖3中，向左邊方向移動，以使得襯底12可放置在E-銷23上方的合 適位置。然後，傳送單元17控制E-銷向襯底12的延伸，在圖3中向上，直 至它們與襯底12接觸為止。接著，傳送單元17控制襯底12從夾持器單元 18的分離，且然後將夾持器單元18從E-銷23移開，例如在圖3中向右邊移 動，直至夾持器單元18不再阻擋襯底12向第二襯底保持器15移動為止。 最後，傳送單元17可以控制E-銷23的回縮，直至襯底12被放置在第二襯 底保持器15上為止。處理器19通信連接到位置傳感器13。處理器19被配置用於基於由位 置傳感器13測量並從位置傳感器13接收的位置誤差(如圖中箭頭53所示) 計算定位調整數據。在一個實施例中，處理器19還被配置為將己測量的 位置誤差劃分為第一部分和第二部分，在傳送數據和位置誤差的第一部 分的基礎上計算修正的傳送數據以及在已測量的位置誤差的第二部分的 基礎上計算位置調整數據。在該實施例中，通信連接到處理器19的傳送 單元17被配置為根據上述的修正的傳送數據將襯底12從第一襯底保持器 11傳送至第二襯底保持器15。從處理器19向傳送單元17的前述修正的傳 送數據的通信在圖3中以箭頭54示意性的示出。
控制單元21通信連接到處理器19。控制單元21被配置為根據由處理 器19所計算得出的位置調整數據來相對於參考位置移動第二襯底保持器 15。從處理器19向控制單元的位置調整數據的通信在圖3中以箭頭55示意 性的示出。
應該理解的是，儘管在圖3中處理器19和控制單元21被描述成分立 元件，但是處理器19也可併入控制單元21，例如在參照圖5所描述的情況 下，控制單元21採取計算機組件的形式。
在光刻投影設備中，襯底臺WT的定位通常是通過所謂長行程臺模 塊和所謂短行程臺模塊來實現的，在圖3中分別由附圖標記27和29所示 出。這兩個臺模塊27、 29的聯合定位能力可提供準確並且快速的定位。 長行程臺模塊29通常在若干個方向上，通常是3個方向上，為短行程臺模 塊27提供粗糙的定位和移動。短行程臺模塊27通常以六個自由度來對放 置在其上的襯底W進行準確的移動和定位。短行程臺模塊27可以通過空 氣軸承31而與長行程臺模塊29分隔開，並且可以由至少一個的洛倫茲電 動機(未示出)驅動。
控制單元21可包括分立的控制模塊來控制短行程臺模塊27和長行 程臺模塊29獨立地移動和定位。在本發明實施例所涉及的光刻投影設備 中的傳送系統中，當涉及配置用於根據用處理器19計算得出的位置調整 數據來控制第二襯底保持器15的移動的控制單元21時，事實上，配置用 於控制短行程臺模塊27的移動和定位的控制模塊被實現。可選的，同一 的控制單元21也可被配置用來控制長行程臺模塊29和短行程臺模塊27兩者的移動和定位，這種情形在圖3中分別以箭頭56和57示出。然而，還是 在這種情形下，當位置調整數據涉及的是短行程臺模塊27的移動時將得 到更準確的結果。
如圖3所描述的那樣，第二襯底臺15不僅包括短行程臺模塊27，還 包括附加元件33。該附加元件可以配置有用於容納襯底12的足夠大的凹 槽區。凹槽的表面可以包括多個節塊並且在所述多個節塊之間設置有孔， 從而建立如圖2a-d所述那樣的真空環境。在浸沒式光刻投影設備中，附 加元件33中的凹槽還具有容納及控制浸沒液的目的。
圖4示意性的描述了根據本發明實施例的將襯底從第一襯底保持器 傳送至第二襯底保持器的方法。該傳送是由傳送單元基於其附有的有效 傳送數據來實現的。
首先，在步驟61中，襯底被提供到第一襯底保持器上。然後，在步 驟63中，通過位置傳感器測量得出襯底的位置誤差。
在一個實施例中，位置誤差就是偏心誤差。在該實施例中，該位置 傳感器包括偏心傳感器。
在另一實施例中，位置誤差可劃分為偏心誤差和取向誤差。在該實 施例中，位置傳感器可包括被配置用來測量偏心誤差的偏心傳感器以及 被配置用來測量取向誤差的取向傳感器，也就是設置在第一襯底臺上的 襯底的取向與第一襯底臺上襯底的理想取向之間的誤差。可選的，採用 單一傳感器，通常為邊緣傳感器。該邊緣傳感器可被配置用來將己測量 的邊緣數據(即對在旋轉期間產生凹陷的襯底半徑的測量)轉換為偏心 數據(即表示前述凹陷偏移量的數據)和取向(即襯底中具體元件的位 置)。前述凹陷例如是一個缺口。
接著，在步驟65中，計算位置調整數據，該位置調整數據是基於已 測量的位置誤差。
然後，在步驟67中，第二襯底保持器相對於參考位置移動。本領域 技術人員公知的是，通過類似於圖3中分別描述的長行程臺模塊29和短行 程臺模塊27那樣來聯合控制長行程臺模塊和短行程臺模塊的移動，可實 現第二襯底保持器的運動，以使第二襯底保持器能放置在前述的參考位 置。在圖3所示的光刻投影設備的情況下，該參考位置對應於在沒有平移偏移量存在的情況下，被放置在e-銷頂部並位於大致中心位置的襯底所
處的位置。在一個實施例中，相對於參考位置的移動是通過單獨控制短
行程臺模塊(例如圖3所示的短行程臺模塊27)的移動來實現的。相對於
第二襯底保持器的參考位置的移動是根據計算得出的位置調整數據來實 現的。應當理解的是，該移動並不一定限於沿著平行於保持襯底的襯底 保持器的表面的方向所進行的平移。在本發明的實施例中，還可以通過 旋轉移動來實現，例如，用於補償位於第一襯底臺上的襯底的取向誤差。
最後，在步驟69中，根據傳送數據並利用傳送單元將襯底從第一襯 底保持器傳送至第二襯底保持器並且放置在已移動的第二襯底保持器 上。
在一個實施例中，在步驟63中測量位置誤差之後，首先，在步驟71 中，己測量的位置誤差被劃分為第一部分和第二部分。在步驟73中，在 傳送數據和位置誤差的第一部分的基礎上計算修正的傳送數據。接著， 在步驟65中，在位置誤差的第二部分的基礎上計算位置調整數據。進而 注意到，在步驟69中將襯底從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器， 是根據已修正的傳送數據進行的。
將位置誤差劃分為第一部分和第二部分可按如下程序進行。如果該 位置誤差保持低於預先設定的閾值誤差，則將整個位置誤差指定為第一 部分。否則，也就是如果位置誤差超過預先設定的閾值誤差，則將預先 設定的閾值誤差指定為第一部分，並且將整個位置誤差與預先設定的閾 值誤差之間的差值指定為第二部分。
圖5示意性的示出了可用於本發明實施例的計算機組件的實施例。 這種計算機組件100可以是以控制單元(例如控制單元21)的形式的專用 計算機。該計算機組件100可被設置用來加載用計算機可執行代碼編碼的
計算機可讀介質。當計算機可讀介質上的計算機可執行編碼被加載時， 這能夠使計算機組件100執行實施例中的前述方法，即採用傳送單元基於
有效傳送數據將襯底從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器的方法。 額外的或者可選的，當計算機可讀介質被加載時，這能夠使計算機組件 IOO執行器件的製造方法，即通過包括這種傳送系統的光刻投影設備的實 施例將襯底的目標部分圖案化。計算機組件100包括處理器101，例如與控制單元21通信的處理器
19，計算機組件100還包括存儲器105。與處理器101連接的存儲器105包 括多個存儲組件，例如硬碟11K只讀存儲器(ROM) 112、電可擦寫可 編程只讀存儲器(EEPROM) 113以及隨機存取存儲器(RAM) 114。並 不需要引入所有上述的存儲組件。此外，上述存儲組件在物理上接近處 理器101或者它們兩兩之間物理接近也不是必須的。它們可以相隔一段距 離放置。
處理器101也可以連接到某些類型的用戶接口，例如鍵盤115或者鼠 標116。也可釆用本領域技術人員所公知的觸控螢幕、軌跡球、語音轉換器 或者其他接口。
處理器101可連接到用於讀出數據的讀出單元in，該讀出單元117 (例如以計算機可執行代碼的形式)從計算機可讀介質(如軟盤118或者 CDROM 119)和在某些情況下將數據存儲於該上計算機可讀介質。也可 採用本領域技術人員所公知的DVD或其它計算機可讀介質。
處理器101還可以連接到印表機120以將輸出數據列印到紙上以及 顯示到顯示器121上，顯示器121例如是監視器或LCD (液晶顯示器)或
者是本領域技術人員所公知的其他類型的顯示器。
處理器101可連接到通信網絡122，例如通過負責輸入/輸出(I/O) 123的發射機/接收機連接公共交換電話網絡(PSTN)、區域網(LAN)、 廣域網(WAN)等等。處理器101可被設置經由通信網絡122來與其他通 信系統進行通信。在本發明的一個實施例中，外部計算機(未示出)，例 如是操作員的個人計算機，可通過通信網絡122登錄到處理器101。
處理器101可作為一個獨立的系統或作為多個並行運行的處理單元
實施，其中每個處理單元被安排用來執行大型程序的子任務。該處理單 元還可劃分為至少一個具有複數個子處理單元的主處理單元。處理器101
的某些處理單元甚至可以位於其他處理單元一段距離以外並通過通信網 絡122進行通信。
儘管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設備用於製造ic，
但應當理解這裡所述的光刻設備可以有其他的應用，例如，集成光學系 統、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCDs)、薄膜磁頭等的製造。本領域技術人員應該理解的是，在這種替代應用的 情況中，可以將其中使用的任意術語"晶片"和"管芯"分別認為是與 更上位的術語"襯底"或"目標部分"同義。這裡所指的襯底可以在曝 光之前或之後進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層塗到襯底 上，並且對己曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗工具 中。在可應用的情況下，可以將所述公開內容應用於這種和其他襯底處
理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產生多層ic，使
得這裡使用的所述術語"襯底"也可以表示己經包含多個已處理層的襯 底。
這裡使用的術語"輻射"和"束"包含全部類型的電磁輻射，包括
紫外輻射(例如具有約365、 355、 248、 193、 157或126 nm的波長)。
在上下文允許的情況下，所述術語"透鏡"可以表示各種類型的光
學部件中的任何一種或它們的組合，包括折射式、反射式、磁性式、電
磁式和靜電式的光學部件。
儘管以上已經描述了本發明的特定的實施例，但是應該理解的是本
發明可以以與上述不同的形式實現。例如，本發明可以採取包含用於描
述上述公開的方法的一個或更多個機器可讀指令序列的電腦程式的形
式，或者採取具有在其中存儲的這種電腦程式的數據存儲介質的形式 (例如，半導體存儲器、磁碟或光碟)。
以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領域的技術人
員應當理解，在不背離所附的權利要求的保護範圍的條件下，可以對本
發明進行修改。
權利要求
1. 一種採用傳送單元基於有效傳送數據將襯底從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器的方法，該方法包括在所述第一襯底保持器上提供所述襯底；測量所述襯底的位置誤差；在所測量的所述位置誤差的基礎上計算位置調整數據；根據所述位置調整數據相對於參考位置移動所述第二襯底保持器；根據所述傳送數據並採用所述傳送單元將襯底從第一襯底保持器傳送到第二襯底保持器，並且將所述襯底放置到已移動的所述第二襯底保持器上。
2. 根據權利要求l的方法，其中該方法還包括以下步驟，在所述測 量之後將所測量的所述位置誤差劃分為第一部分和第二部分； 在所述傳送數據和位置誤差的所述第一部分的基礎上，計算修正的 傳送數據；以及其中，該計算位置調整數據的步驟基於所測量的位置誤差的所述第 二部分，且所述傳送步驟根據所述修正的傳送數據來執行。
3. 根據權利要求2的方法，其中所述劃分步驟通過下述步驟執行 如果位置誤差保持低於預先設定的閾值誤差，則將整個位置誤差指定為第一部分；以及否則，將預先設定的閾值誤差指定為第一部分並且將整個位置誤差與預先 設定的閾值誤差之間的差值指定為第二部分。
4. 根據權利要求1-3中任何一項所述的方法，其中位置誤差是通過 偏心傳感器測量到的偏心誤差。
5. 根據權利要求1-3中任何一項所述的方法，其中位置誤差可劃分 為通過偏心傳感器測量所得的偏心誤差和通過取向傳感器測量所得的取 向誤差。
6. —種用計算機可執行代碼編碼的計算機可讀介質，當其被加載到 計算機組件上時，其能夠使計算機組件控制根據權利要求1-5中任何一項所述的傳送方法。
7. —種基於有效傳送數據來傳送襯底的傳送系統，該傳送系統包括第一襯底保持器，其被配置用作保持襯底；位置傳感器，其被配置用作測量放置在所述第一襯底保持器上的所 述襯底的位置誤差；第二襯底保持器，其被配置用作保持襯底；傳送單元，其被配置為根據所述傳送數據將所述襯底從第一襯底保 持器傳送至第二襯底保持器；處理器，其與所述位置傳感器進行通信，並被配置為在所測量的所 述位置誤差的基礎上來計算位置調整數據；控制單元，其與所述處理器進行通信，並被配置為根據所計算的所 述位置調整數據相對於參考位置移動所述第二襯底保持器。
8. 根據權利要求7的傳送系統，其中所述第二襯底保持器被放置在 第一可移動臺模塊上，且所述第一可移動級模塊被放置在第二可移動臺 模塊上，所述第一和第二可移動臺模塊與所述控制單元進行通信，控制 單元還被配置用來移動所述第二可移動臺模塊和所述第一可移動臺模 塊，以使得所述第二襯底保持器可以放置在所述參考位置，且控制單元 還被配置用來移動所述第一可移動臺模塊，以使得根據所計算的所述位 置調整數據相對於所述參考位置移動所述第二襯底保持器。
9. 根據權利要求7或8的傳送系統，其中所述處理器還被配置為 將所測量的位置誤差劃分為第一部分和第二部分； 在傳送數據以及位置誤差的第一部分的基礎上計算修正的傳送數據；以及在所測量的位置誤差的第二部分的基礎上計算位置調整數據；以及 其中所述傳送單元與所述處理器進行通信，並被配置為根據所述修 正的傳送數據將所述襯底從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器。
10. 根據權利要求7-9任何之一的傳送系統，其中所述位置傳感器 包括被配置為用作測量偏心誤差的偏心傳感器。
11. 根據權利要求10的傳送系統，其中所述位置傳感器還包括被配置用作測量取向誤差的取向傳感器。
12. 根據權利要求7-ll任何之一的傳送系統，其中所述第一襯底臺 可圍繞其中心旋轉。
13. 根據權利要求7-12任何之一的傳送系統，其中所述傳送單元包括至少三個位於所述第二襯底臺中的可延伸的銷。
14. 根據權利要求13的傳送系統，其中所述傳送系統還包括被配置 用來控制所述至少三個可延伸銷的延伸的致動器。
15. —種光刻投影設備，包括 照射系統，其被配置用作提供輻射束；支撐結構，其被配置用作支撐圖案形成裝置，該圖案形成裝置用作 將圖案在輻射束的橫截面上賦予所述輻射束； 襯底臺，其被配置用作保持襯底；投影系統，其被配置為用於將所述圖案化的輻射束曝光在所述襯底上；其中所述光刻投影設備還包括根據權利要求7-14中任何一項的傳 送系統，且所述襯底臺是第二襯底保持器。
16. —種器件製造方法，包括採用如權利要求15所述的光刻投影設 備將已圖案化的輻射束投影到襯底上。
17. —種用計算機可執行代碼編碼的計算機可讀介質，其中，當其 被加載到計算機組件上時，其能夠使計算機組件控制根據權利要求16的 器件製造方法。
全文摘要
本發明涉及一種襯底傳送方法，傳送系統和光刻投影設備。該襯底傳送方法通過採用傳送單元基於有效傳送數據將襯底從第一襯底保持器(例如預對準單元)傳送至第二襯底保持器(例如光刻設備中的襯底臺)的方法。首先，在第一襯底保持器上提供襯底，接著，測量襯底的位置誤差並在已測量的位置誤差的基礎上計算位置調整數據。然後，根據位置調整數據，相對於參考位置移動第二襯底保持器。最後，根據傳送數據將襯底通過傳送單元從第一襯底保持器傳送至第二襯底保持器並放置到已移動的第二襯底保持器上。
文檔編號H01L21/677GK101441419SQ200810184298
公開日2009年5月27日 申請日期2008年10月10日 優先權日2007年10月10日
發明者F·E·格倫斯密特, G·P·M·范努恩, J·A·M·阿爾貝蒂, R·T·P·孔佩 申請人:Asml荷蘭有限公司