薄玻璃成形的輻射屏蔽的製作方法
2023-08-04 04:41:31 3
技術領域
本申請根據35U.S.C.§119，要求2014年5月23日提交的美國臨時申請系列第62/002,563號的優先權，本文以該申請為基礎並將其全文通過引用結合於此。
本文一般地涉及對玻璃結構進行成形的方法和系統，更具體地，涉及用於對薄玻璃進行彎曲中使用的輻射屏蔽。
技術背景
對薄玻璃片進行熱成形和形成的能力正越來越與各種工業，例如汽車工業相關。生產用於車輛的玻璃面板是複雜工藝，由于越來越嚴格的環境和安全要求，其經常發生改變。由於政府法規所要求的燃料經濟性增加以及排放減少，對於具有高光學質量和輕量化的複雜玻璃形狀的需求不斷增長。從更薄的玻璃製造車輛部件的能力可轉化為更低的汽車重量、改善的燃料經濟性、排放減少和/或改善的汽車重量分布(例如，更低的重心)。
對玻璃進行成形的現有技術方法包括：將玻璃片放在成形模具上，將玻璃運輸通過爐，使得片材均勻加熱和軟化，以及使得軟化的玻璃在重力下發生鬆弛至設想的所需形狀。成形模具起到了表面的作用，環繞該表面，玻璃片可以形成至所需形狀。對於較厚的常規玻璃，例如厚度約為3-6mm的玻璃，此類常規成形系統可良好地工作。較厚的玻璃片通常可發生粘性形變，同時避免本領域已知的「浴缸效應」，其中玻璃的邊緣處顯示出陡峭下降而中心是平坦的。
但是，當採用這些常規方法對(例如，厚度小於約3mm的)較薄玻璃進行加工時，玻璃傾向於發生扭曲和伸長，這導致邊緣處的過度粘性變薄，並且在重力荷載下遠離玻璃的塊體中心。
可以在玻璃韌化爐中對大的薄玻璃片進行成形，所述玻璃韌化爐包括多個串聯布置的爐，其中，玻璃片的溫度發生逐步提升以完成重力鬆弛。但是，無法通過簡單地爐加熱變化來完成實現所需的薄玻璃成形的溫差，因為來自爐壁的熱區和冷區的輻射視角因素對玻璃的中心和邊緣兩者都造成影響。需要額外裝置來阻擋輻射，例如阻擋來自熱爐區的輻射到達玻璃邊緣以及來自冷爐區的輻射達到玻璃中心。
因此，提供對較薄玻璃片進行成形和回火的方法和系統，更具體來說，提供能夠在薄玻璃片的邊緣和中心之間實現足夠溫差的系統，會是有利的。例如，在一個實施方式中，提供具有如下溫差的系統可能是有利的，該系統使得玻璃邊緣加熱的溫度低於玻璃中心。為了降低製造成本和/或加工時間，提供可對於用於常規(例如，較厚)玻璃的彎曲和回火的現有系統(至少部分)起作用的系統可能是額外有利的。
技術實現要素：
在各種實施方式中，本文涉及對玻璃結構進行成形的系統，其包括：成形模具、輻射加熱源以及輻射屏蔽，其中，輻射屏蔽基本上布置在輻射加熱源與玻璃結構之間，以及其中，輻射屏蔽包括外壁，所述外壁限定了腔體，所述腔體具有布置成朝向玻璃結構的第一開口以及布置成朝向輻射加熱源的第二開口。
在某些實施方式中，輻射加熱源可包括多個輻射加熱元件。根據各種實施方式，輻射屏蔽可通過成形模具或爐支撐並與它們附連。輻射屏蔽的外壁可形成具有任意橫截面形狀的腔體，例如，在一些實施方式中，橫截面形狀可以是圓形、卵形、三角形、正方形、矩形、菱形、或者多邊形。在其他實施方式中，可以在玻璃結構和輻射熱屏蔽之間放置不止一個輻射屏蔽，例如兩個或更多個輻射屏蔽。例如，根據非限制性實施方式，可以布置第二輻射屏蔽，所述第二輻射屏蔽包括限定了第二腔體的內壁，例如，所述第二輻射屏蔽同軸地布置在由第一輻射屏蔽的外壁限定的腔體內。
本文還涉及對玻璃結構進行成形的方法，其包括：將玻璃結構放在成形模具上，將成形模具和玻璃結構引入包含輻射加熱源的爐中，以及對玻璃結構進行加熱，其中，輻射屏蔽基本上布置在玻璃結構和輻射加熱源之間，以及其中，輻射屏蔽包括外壁，所述外壁限定了腔體，所述腔體具有布置成朝向玻璃結構的第一開口以及布置成朝向輻射加熱源的第二開口。
在各種實施方式中，將玻璃結構加熱至約為400-1000℃的溫度，停留時間約為1-60分鐘，或更久。根據某些非限制性實施方式，玻璃結構的厚度可以小於約3mm，例如，約為0.7-1.5mm或者約為0.3-1.5mm。
在以下的詳細描述中給出了本文的其他特徵和優點，其中的部分特徵和優點對本領域的技術人員而言，根據所作描述就容易看出，或者通過實施包括以下詳細描述、權利要求書以及附圖在內的本文所述的方法而被認識。
應理解，前面的一般性描述和以下的詳細描述都表示本文的各種實施方式，用來提供對於權利要求的性質和特性的總體理解或框架性理解。包括的附圖提供了對本文的進一步的理解，附圖被結合在本說明書中並構成說明書的一部分。附圖以圖示形式說明了本文的各種實施方式，並與說明書一起用來解釋本文的原理和操作。
附圖說明
結合以下附圖閱讀本發明，便可以最好地理解下文中的發明詳述，圖中相同的結構用相同的編號表示：
圖1顯示根據本文一個實施方式的用於對玻璃進行成形的系統；
圖2的偏差圖顯示採用現有技術均勻輻射加熱方法獲得的理論預測部件形狀；
圖3A的理論分布顯示根據本文一個實施方式進行成形的玻璃結構的邊緣與中心之間的理論溫差；
圖3B的理論模型顯示採用圖3A的差異熱分布獲得的預測部件形狀；
圖3C的偏差圖顯示採用圖3A的差異熱分布獲得的理論預測部件形狀；
圖4的理論模型顯示執行根據本文一個實施方式的差異熱分布和輻射屏蔽的系統；
圖5顯示採用現有技術方法和根據本文各種實施方式的方法的玻璃溫度與相對於玻璃中心的距離的關係圖；
圖6顯示玻璃溫度與相對於玻璃中心的距離的關係圖，其與輻射屏蔽的長度(L)以及玻璃結構與輻射加熱源之間的距離(H)之比相關；
圖7的理論模型顯示執行根據本文一個實施方式的差異熱分布和兩個同軸輻射屏蔽的系統；以及
圖8顯示採用現有技術方法和根據本文各種實施方式的方法的玻璃溫度與相對於玻璃中心的距離的關係圖。
具體實施方式
本文揭示了用於對玻璃結構進行成形的系統和方法，其包括：成形模具、輻射加熱源以及輻射屏蔽，其中，輻射屏蔽基本上布置在輻射加熱源與玻璃結構之間，以及其中，輻射屏蔽包括外壁，所述外壁限定了腔體，所述腔體具有布置成朝向玻璃結構的第一開口以及布置成朝向輻射加熱源的第二開口。示例性玻璃結構包括但不限於，單片玻璃、單個堆疊中的多片玻璃、玻璃-玻璃層疊結構以及玻璃-聚合物層疊結構等。
系統
參見圖1，顯示了根據本文用於對玻璃結構進行成形的示例性系統的一個實施方式，其包括成形模具110，可以在所述成形模具110上放置玻璃結構G。成形模具可包括任意具有表面的物體，在所述表面上或者繞著其可以對玻璃進行成形。成形模具可具有適合生產用於特定應用的具有形狀的玻璃產品的任意形狀和尺寸。例如，成形模具可設計成向玻璃片賦予所需曲率，例如，擋風玻璃以及車輛的後窗或側窗的情況。其他形狀和構造也屬於和包括在本申請的範圍內。在一些實施方式中，成形模具可以是重力彎曲環模具、固定形狀的重力環、多形環接重力鬆弛環、任選具有真空輔助的全表面模具。上述模具可以使用例如任選的預拉伸機制。當然，本文所述的實施方式不應限於本文所述重力彎曲方法，還可適用於壓制輔助的彎曲方法。
可以將玻璃結構G運輸或者任意其他方式引入到爐(或者包含輻射加熱源120的任意其他加熱裝置)中。輻射加熱源至少向一部分的玻璃結構提供輻射熱。理解的是，雖然在某些實施方式中，輻射加熱可以是主要加熱源，但是玻璃加熱可涉及所有熱傳遞模式，包括對流和感應加熱。例如，在一些實施方式中，輻射加熱可佔據全部加熱的大於約50％，例如總加熱的大於約60％、大於約70％、大於約80％或者大於約90％。本申請的範圍包括和涵蓋了加熱模式的其他組合。
在某些示例性實施方式中，輻射加熱源可包括多個輻射加熱元件。因此，爐或加熱裝置可分成兩個或更多個溫差區，例如，包括至少一個第一加熱元件(例如第一組多個加熱元件115)的第一區135以及包括至少一個第二加熱元件(例如，第二組多個加熱元件125)的第二區145。第一組多個加熱元件115運行的溫度可以不同於第二組多個加熱元件125，例如，第一加熱元件115可以比第二加熱元件125較為冷卻，或者反之亦可。第一區135可以基本上與玻璃結構G的第一部分對準，以及第二區145可以基本上與玻璃結構G的第二部分對準。在一些實施方式中，例如如圖1所示的實施方式中，第一區135可以與玻璃結構G的外周對準，以及第二區145可以與玻璃結構G的中心區域對準。
雖然未示出，可以採用運行在不同溫度的多個加熱元件或者額外的加熱元件來產生數個加熱區。因此，圖1所示情況不應對所附權利要求書的範圍造成限制。例如，可以將玻璃結構的數個部分加熱至不同溫度。在一些實施方式中，玻璃結構的中心區域可以加熱至第一溫度，玻璃結構的較外區域可以加熱至第二溫度，以及玻璃結構的外周區域可以加熱至第三溫度，任選地，這些區域是相互同軸的。輻射屏蔽和加熱區可以以任意方式排列，從而按需在玻璃結構的各個部分之間產生所需的溫差，以製造具有所需形狀的玻璃部件。
可以基本上在成形模具110和輻射加熱源120之間放置輻射屏蔽130。在某些示例性實施方式中，輻射屏蔽可起到將輻射熱導向遠離玻璃結構的一個部分並導向到玻璃結構的另一個部分的作用，從而在玻璃結構的所述部分之間建立所需溫差。例如，輻射屏蔽可以將具有較高溫度的輻射熱導向遠離玻璃邊緣並導向到玻璃中心，和/或將具有較冷溫度的輻射熱導向遠離玻璃中心並導向到玻璃邊緣。輻射屏蔽130可以基本上放置在輻射加熱源120和玻璃結構G之間，從而對輻射熱進行再導向和產生所需的溫差。
雖然未示出，但是輻射屏蔽可以與成形模具120附連並由其支撐。或者，當爐包括輻射加熱源時，成形模具可以與爐附連並由其支撐，例如與爐的根部附連。輻射屏蔽可類似地與罩住輻射加熱源的任意結構附連。輻射屏蔽130可包括限定了腔體的外壁。在一些實施方式中，外壁可以是限定了腔體的連續壁，例如環面。在圖1中，輻射屏蔽130顯示為圓形環面，包括腔體，所述腔體具有布置成朝向玻璃結構G的第一開口140和布置成朝向輻射加熱源120的第二開口150。但是，輻射屏蔽130可以具有未在圖1中示出的任意各種形狀和橫截面，例如，卵形、正方形、矩形、菱形或者多邊形橫截面形狀等。
輻射屏蔽還可具有垂直長度L。玻璃結構G與輻射加熱源120之間的距離，或者在某些實施方式中，爐根部的高度，可以表示為H。可以改變L/H比以實現例如待成形的玻璃結構G的邊緣與中心之間所需的溫差(ΔT)。較高的L/H比可導致較多屏蔽從而導致更高的ΔT，而較低的L/H比可提供較少屏蔽從而提供較低的ΔT。在某些非限制性實施方式中，輻射屏蔽130可具有沿著垂直長度L的縱軸，其可基本垂直於玻璃結構傳輸(例如進入爐或離開爐)的方向。
雖然圖1顯示輻射加熱源120的位置在玻璃結構G上方，但是該布置的目的不是限制性的，因為輻射加熱源120可以布置在玻璃結構G的下方，或者同時布置在上方和下方，以及各種變化形式。玻璃結構和輻射加熱源的取向可以發生改變，只要存在一個或多個輻射屏蔽並且位置基本上在玻璃結構與輻射源之間即可。在某些實施方式中，輻射屏蔽130可以阻擋來自第一區135的輻射到達玻璃結構的中心，以及來自第二區145的輻射到達玻璃結構的邊緣。第一開口140可基本上與玻璃的中心對準，以及第二開口150可基本上與第二區145對準。雖然未示出，但是可以使用一個或多個額外的輻射屏蔽，例如，同軸使用，與各個加熱區配合，從而產生多步階差異加熱曲線。結合圖7進一步討論該實施方式。
根據各種實施方式，輻射屏蔽的外壁可以包括各種材料，例如，金屬合金如合金，如INCONEL陶瓷，如碳化矽、耐火材料以及高溫金屬如鎳。在某些實施方式中，屏蔽腔的壁可以塗覆至少一種反射性材料。例如，可以在屏蔽壁上作為例如膠態溶液沉積金或玉鏡(jade mirror)。或者，可以向屏蔽壁施塗箔。反射性材料的厚度可以是如下範圍，例如約為1-500μm，例如約為5-400μm，約為10-300μm、約為20-200μm、或者約為50-100μm，包括其間所有範圍和子範圍。作為非限制性例子，可以通過如下方式實現在上沉積金：首先用環氧樹脂中的碳化矽粉末懸液噴塗屏蔽腔壁，之後真空沉積金。
輻射屏蔽可具有寬範圍的輻射係數值，這取決於各種參數，例如，屏蔽材料、任選的反射性塗層，以及其他參數，例如屏蔽紋理等。在一些實施方式中，輻射屏蔽可具有如下輻射係數範圍，例如，約為0.01-1、約為0.02-0.9、約為0.03-0.8、約為0.05-0.7、約為0.1-0.6、約為0.2-0.5、或者約為0.3-0.4，包括其間的所有範圍和子範圍。作為非限制性實施方式，包含電鍍鎳的輻射屏蔽可具有約為0.03的輻射係數，而黑體可具有約為1的輻射係數。根據各種實施方式，可以對屏蔽進行機械加工從而在表面上產生紋理或微紋理，這可進一步有助於輻射的再導向。
不希望受限於理論，相信本文所揭示的系統，例如如圖1所示的系統，可以起到在玻璃結構表面上產生兩個或更多個具有離散溫度的區域的作用，這兩個區域的溫度存在明顯差異。在鬆弛彎曲成形工藝的情況下，可以通過例如阻擋冷輻射因子到達玻璃結構的中心以及阻擋熱輻射因子到達玻璃結構的邊緣，來實現該溫差。因而，相比於採用均勻加熱曲線的現有技術方法，本文所揭示的系統可提供對於實現目標形狀方面明顯的改善。此類現有技術方法進一步如圖2所示，該附圖顯示在鬆弛彎曲工藝期間，對於0.7mm厚的玻璃結構，執行均勻加熱曲線所獲得的目標部件形狀和預測部件形狀之間的形狀偏差(mm)。「A」所示區域表示鬆弛過度，以及「B」所示區域表示鬆弛不足。偏差圖顯示，緊接位於結構的4個邊緣內的玻璃區域的鬆弛過度高至約20mm，而結構的中心具有近似的目標形狀。當對薄的玻璃結構，例如厚度小於約3.0mm、例如約為0.3-2.0mm、或者約為0.5-1.5mm(包括其間的所有範圍和子範圍)的玻璃結構進行成形時，該「浴缸」現象特別普遍。對於較厚的玻璃結構，例如，大於約3.0mm，例如約為3.2-5.0mm的常規厚度的那些而言，模型結果顯示「浴缸」效應沒有那麼嚴重。
因此，特別是對於較薄的玻璃，申請人尋求提供在玻璃結構上執行差異加熱曲線的成形系統和方法。例如，在圖2的目標部件形狀的情況下，採用如下差異加熱曲線會是有利的，其中，玻璃結構的外周區域以較低溫度進行加熱，從而維持較高的玻璃粘度和有限的粘性流動，而玻璃結構的中心區域以較高溫度進行加熱，從而實現所需的形狀。該差異加熱曲線如圖3A所示，其中，示例性熱分布預期玻璃結構的中心區域約為720℃，以及玻璃結構的外周區域約為640℃。因此，在圖3A的理論模型中，存在近似80℃的溫差(ΔT)。圖3B顯示通過在鬆弛彎曲工藝中執行差異加熱曲線所獲得的預測部件形狀，表述為超出平面的變形(mm)。圖3C顯示在鬆弛彎曲工藝期間，對於0.7mm厚的玻璃結構，執行圖3A的差異加熱曲線所獲得的目標部件形狀和預測部件形狀之間的形狀偏差(mm)。在圖3C中，中心區域A近似處於目標形狀，以及外周區域B略微鬆弛不足。因此，相比於現有技術圖1，外周處存在的過度鬆弛明顯下降。
圖4顯示採用ANSYS FLUENT軟體建立的二維熱模型，其中，將爐400分成2個區：(i)運行溫度約為650℃的熱區445，以及(ii)運行溫度約為400℃的冷區435。在爐頂壁(其包含輻射加熱源)與玻璃結構G之間存在長度L的輻射屏蔽430。H表示爐頂壁與玻璃結構G之間的距離。採用以下假設：(i)爐的側壁405假定是絕熱的，(ii)玻璃結構G的初始溫度假定約為400℃，以及(iii)爐400中的停留時間假定約為5分鐘。在模型中沒有顯示成形模具，但是假定存在該成形模具。此外，模具僅顯示了系統的一部分，以及假定沿著線A』和B』存在對稱。
圖5顯示採用圖4的模型，在5分鐘的停留時間之後的玻璃表面溫度分布。繪製玻璃溫度與相對於玻璃中心的距離的函數。曲線A表示採用具有反射壁的輻射屏蔽(ε＝0.1)實現的玻璃溫度分布。曲線B表示採用沒有塗覆反射材料的輻射屏蔽(ε＝0.9)實現的玻璃溫度分布。圖C表示在不存在輻射屏蔽的情況下實現的玻璃溫度分布。因此，圖5證實了在沒有輻射屏蔽的情況下(曲線C)，發生了或多或少的來自玻璃結構中心的線性溫度跌落，而引入輻射屏蔽可以產生較熱的玻璃中心和明顯更為冷卻的玻璃邊緣。此外，可以通過調節輻射屏蔽壁的反射係數，來調節玻璃結構的熱區域與冷區域之間的溫差(ΔT)，其中，較大的反射係數(曲線A)導致相比於沒有反射係數的輻射屏蔽(曲線B)更大的ΔT。
還可通過相對於玻璃結構與爐頂壁(或輻射加熱源)之間的距離H調節屏蔽的長度L，來調節溫差(ΔT)。圖6證實L/H之比對玻璃ΔT的影響。曲線D表示採用L/H的比例＝0.84實現的玻璃溫度分布。曲線E表示採用L/H的比例＝0.6實現的玻璃溫度分布。曲線F表示採用L/H的比例＝0.4實現的玻璃溫度分布。曲線G表示沒有屏蔽的情況下(L/H＝0)實現的玻璃溫度分布。如圖6所證實，隨著輻射屏蔽的長度L增加，例如，隨著L/H之比增加，在玻璃結構上產生熱區域與冷區域之間更明顯的區分，以及在玻璃結構的中心與邊緣之間更大的ΔT。
如上文所述，某些實施方式可以採用不止一個輻射屏蔽。例如，可以結合不同加熱區使用多個同軸輻射屏蔽，從而在玻璃表面上產生多個離散溫度區域。圖7顯示一個非限制性的此類構造，其中，將爐700分成3個區：(i)運行溫度約為650℃的熱區745，(ii)運行溫度約為500℃的中等區755，以及(ii)運行溫度約為400℃的冷區735。在爐頂壁與玻璃結構G之間存在長度為L的兩個同軸輻射屏蔽730。因而，輻射屏蔽730可形成限定了內腔體和外腔體的內壁和外壁。
屏蔽730可以對準從而形成熱區745與中等區755之間以及中等區755與冷區735之間的輻射阻隔。因此，熱區745可以與玻璃結構的中心區域對準，而中等區755可以與玻璃結構G的外區域對準，以及冷區735可以與玻璃結構G的外周區域對準，但是本文也考慮和包括了其他構造。對於本領域技術人員顯而易見的是，可以結合具有額外加熱區的爐使用額外屏蔽，從而在玻璃結構的表面上產生多個離散溫度區域。在模型中沒有顯示成形模具，但是假定存在該成形模具。此外，模具僅顯示了系統的一側，以及假定沿著線A』存在對稱。
圖8顯示採用圖7的模型，在5分鐘的停留時間之後的玻璃表面溫度分布。繪製玻璃溫度與相對於玻璃中心的距離的函數。曲線H表示採用具有反射壁的同軸輻射屏蔽(ε＝0.1)實現的玻璃溫度分布。曲線I表示採用沒有塗覆反射材料的同軸輻射屏蔽(ε＝0.1)實現的玻璃溫度分布。圖J表示在不存在輻射屏蔽的情況下實現的玻璃溫度分布。圖8還證實了在沒有輻射屏蔽的情況下(曲線J)，發生了或多或少的來自玻璃結構中心的線性溫度跌落，而使用兩個同軸輻射屏蔽可以在玻璃表面上產生3個離散溫度區域。同樣地，可以通過調節輻射屏蔽壁的反射係數，來調節玻璃結構的不同區域之間的溫差(ΔT)，其中，較大的反射係數(曲線H)導致相比於沒有反射係數的輻射屏蔽(曲線I)更大的ΔT。
本文所揭示的系統可用於對玻璃結構進行成形，所述玻璃結構比通過現有系統進行成形的那些更薄。例如，本文所揭示的方法和系統可用於對厚度約為0.3-3mm，例如約為0.5-2mm、或者約為0.7-1.5mm(包括其間的所有範圍和子範圍)的薄玻璃結構進行成形。或者，本文所揭示的系統可用於對較厚的玻璃結構進行成形，例如，厚度大於約3mm，例如大於約4mm或者大於約5mm的玻璃結構。如上文所述，示例性玻璃結構包括但不限於，單片玻璃、單個堆疊中的多片玻璃、玻璃-玻璃層疊結構以及玻璃-聚合物層疊結構。
方法
根據本文所揭示的方法，可以將玻璃結構放在成形模具上，並引入包含輻射加熱源的爐中。然後可以將玻璃結構加熱至例如其形成溫度或軟化溫度。可以將輻射屏蔽布置在基本上玻璃結構與輻射加熱源之間，所述輻射屏蔽包括限定了腔體的外壁，所述腔體具有布置成朝向玻璃結構的第一開口以及布置成朝向輻射加熱源的第二開口。
可以以本領域已知的任意方式將玻璃結構引入到爐中或者其他加熱裝置中。根據各種實施方式，可以採用傳輸機(例如，輥或帶式傳輸機)將玻璃結構引入爐中。在某些實施方式中，可以將玻璃結構加熱至形成點或軟化點，例如，可以將結構有效地模製成新形狀的點。根據各個實施方式，可以將玻璃結構加熱至約為400-1000℃的溫度範圍，例如約為500-900℃，約為600-800℃，或者約為650-750℃，包括其間的所有範圍和子範圍。
在某些實施方式中，輻射加熱源可以是差式輻射加熱源，並且可包括運行在不同溫度的兩個或更多個輻射加熱元件或者兩組或更多組多個輻射加熱元件。例如，第一加熱元件或者第一組多個加熱元件可運行在大於約600℃至約為1000℃的溫度範圍，例如，約為650-900℃、或者約為700-800℃，以及第二加熱元件或者第二組多個加熱元件可運行在約為400-700℃的不同溫度範圍，例如，約為450-650℃、或者約為500-600℃，包括其間的所有範圍和子範圍。其他溫度範圍組合也是可以的，並且包括在本文的部分中。在該情況下，可以將爐有效地分成兩個或更多個區，它們分別運行在不同溫度。
在額外的實施方式中，可以將爐分成3個或更多個區，使得差式輻射加熱源包括3個或更多個輻射加熱元件或者3組或更多組多個輻射加熱元件。例如，第一加熱元件或者第一組多個加熱元件可運行在約為400-600℃的溫度範圍，第二加熱元件或者第二組多個加熱元件可運行在約為500至小於約700℃的不同溫度範圍，以及第三加熱元件或者第三組多個加熱元件可運行在約為600-1000℃的不同溫度範圍。其他溫度範圍組合也是可以的，並且包括在本文的部分中。此外，本文不限於任何數量的輻射屏蔽、爐區或輻射加熱元件。
在引入爐中或者加熱裝置中之後，可以如上文所述對玻璃結構進行加熱，持續給定的停留時間。停留時間可取決於特定系統和應用發生變化。作為非限制性例子，停留時間可以約為1-60分鐘或更久，例如，約為5-45分鐘、約為6-30分鐘、約為12-24分鐘、或者約為15-20分鐘，包括其間所有範圍和子範圍。在給定的停留時間之後，然後玻璃結構可以離開爐或加熱裝置，並且可經受本領域技術人員已知的各種額外加工步驟。
應理解，多個揭示的實施方式可涉及與特定實施方式一起描述的特定特徵、元素或步驟。應理解的是，雖然在結合一個具體的實施方式描述了具體特徵、元素或步驟，但是不同實施方式可以以各種未示出的組合或變換形式相互交換或結合。
還應理解的是，本文所用的冠詞「該」、「一個」或「一種」表示「至少一個(一種)」，不應局限為「僅一個(一種)」，除非明確有相反的說明。因此，例如，對「一種輻射屏蔽」的引用包括具有兩種或更多種此類屏蔽的例子，除非文本中有另外的明確表示。類似地，「多個」旨在表示「不止一個」。因而，「多個輻射加熱元件」包括兩個或更多個此類加熱元件，例如，3個或更多個此類加熱元件等。
本文中，範圍可以表示為從「約」一個具體值和/或到「約」另一個具體值的範圍。當表述這種範圍時，例子包括自某一具體值始和/或至另一具體值止。類似地，當使用先行詞「約」表示數值為近似值時，應理解，具體數值構成另一個方面。還應理解的是，每個範圍的端點值在與另一個端點值有關和與另一個端點值無關時，都是有意義的。
除非另有表述，否則都不旨在將本文所述的任意方法理解為需要使其步驟以具體順序進行。因此，當方法權利要求實際上沒有陳述為其步驟遵循一定的順序或者其沒有在權利要求書或說明書中以任意其他方式具體表示步驟限於具體的順序，都不旨在暗示該任意特定順序。
雖然會用過渡語「包括」來公開特定實施方式的各種特徵、元素或步驟，但是應理解的是，這暗示了包括可採用過渡語「由......構成」、「基本由......構成」描述在內的替代實施方式。因此，例如，對包含A+B+C的系統的隱含的替代性實施方式包括系統由A+B+C組成的實施方式和系統主要由A+B+C組成的實施方式。
對本領域的技術人員而言，顯而易見的是，可以在不偏離本發明的範圍和精神的情況下對本發明進行各種修改和變動。因為本領域的技術人員可以想到所述實施方式的融合了本發明精神和實質的各種改良組合、子項組合和變化，應認為本文包括所附權利要求書範圍內的全部內容及其等同內容。