安裝電源裝置的真空器件和電源方法
2023-08-09 13:26:56
專利名稱：安裝電源裝置的真空器件和電源方法
技術領域：
本發明涉及用於將電功率提供給真空室內的旋轉體的設備的電源裝置，更具體地說，涉及用於將射頻功率提供給在其上安裝沉積襯底的襯底圓頂的設備的電源裝置，可旋轉地排列襯底圓頂。
背景技術：
在真空沉積方法中，使真空室中引入的氣體電離以便生成陽離子，由此使蒸發分子壓向襯底，由此形成相干性強和緻密的薄膜的方法通常稱為離子輔助沉積(在下文中簡寫為「IAD」)。
圖4表示使用IAD方法，基於射頻電壓直接應用系統的光學薄膜真空沉積設備的示意圖。下文概述使用該圖中所示的系統的薄膜的形成。
在真空室30中，排列沉積襯底23、安裝沉積襯底23的襯底圓頂、襯底圓頂旋轉機構24、襯底加熱器33，用於加熱沉積襯底23、沉積材料34、填充沉積材料的坩堝35、用於將沉積材料34加熱到蒸發溫度的電子槍36、用於當完成沉積以便保護沉積材料時關閉的開閉器37、用於將氣體引入真空室的進氣口、用於在正旋轉的襯底圓頂22兩端施加射頻電壓的電源裝置22，以及用於發出電子的中和器38。
當通過同一圖中的設備執行沉積時，沉積襯底23首先連接到襯底圓頂22以及坩堝35填充沉積材料34。通過排氣系統(未示出)，從真空室30排出空氣，此後，通過襯底圓頂旋轉裝置24旋轉襯底圓頂22以及在襯底加熱器33下，加熱沉積襯底23。在真空度和襯底的溫度達到目標值時，用來自電子槍36的電子束照射沉積材料34以便使其溫度升高到蒸氣溫度。同時，通過進氣口31，使氣體留在真空室中，以及從中和器38發出電子。使用電源裝置32，在襯底圓頂22兩端施加射頻電壓以便電離從進氣口31引入的氣體，從而在真空室30中生成等離子。打開開閉器37使沉積材料34噴射到真空室內並在離子的幫助下，沉積在沉積襯底23上，從而形成緻密薄膜。在薄膜的厚度達到目標值時，關閉該開閉器37，然後，停止電子槍36、襯底加熱器33、電源裝置32、氣體引入以及中和器38。在冷卻後，將空氣引入真空室中，然後，可以取出在其上形成薄膜的沉積襯底23。
例如，在專利文獻1中公開了上述真空沉積設備。
圖5(b)表示在圖4中所示的電源裝置32的示意平面圖。圖5(a)表示圖5(b)中，沿線Z-Z』的示意截面圖。當從底板向頂板看時，圖5(b)所示的平面圖示例說明在真空室中所排列的電源裝置32。圖6表示電源裝置32及其外設的詳細示意圖。在下文中，將參考圖5和6，描述傳統的電源裝置32。
電源裝置32由通過鋼板28，從安裝在真空室30外的射頻電源(未示出)提供射頻功率的盤狀底座40、作為用於將旋轉本體連接到電源的電極的觸點41、用於固定和排列觸點41的觸點基座42、固定到並排列在基座上，用於保持觸點基座的兩個管腳43、幫助從基座40，將射頻功率提供觸點基座42的電源薄板44，以及排列在基座40和觸點基座42間的兩個彈簧45組成。觸點41、觸點基座42、管腳43、彈簧45和電源薄板44形成一個觸點單元。多個觸點單元排列在基座40上。例如，將四個觸點單元安裝在其襯底圓頂直徑為約Φ700至1200的一個器件上。
由襯底圓頂22、圓頂制動器51、圓頂適配器50和電源板52組成的旋轉本體與真空室30電絕緣並可旋轉地排列在真空室30內並整體旋轉。電源板52固定和排列在圓頂適配器50上以及電源裝置32排列在電源板52上。圖8示意性地表示接觸電源板52的觸點41的狀態。該圖表示當從真空室中的頂板向底板看時的電源板52。排列四個觸點單元以及僅顯示觸點41。電源板52為盤狀以及在其中心處具有同心圓孔。以從電源板52的旋轉中心徑向地排列縱向方向的方式，連接每一單元的觸點41。
電源裝置32通過瓷絕緣體27排列在真空室的頂板上以及從真空室電絕緣。作為電極的觸點41觸摸電源板52以便在旋轉本體兩端施加射頻電壓。由於使用絕緣體等等，在真空室中排列旋轉本體，將電功率僅提供給接觸電源裝置的旋轉本體。因此，將射頻電壓施加到作為旋轉本體的襯底圓頂22兩端允許使用IAD方法沉積。
將兩個管腳43插入在觸點基座42中提供的兩個通孔46中。沿管腳43可移動地保持觸點基座42以及固定到其上的觸點41。彈簧45排列在管腳43的外圍周圍以及彈簧45的彈力為觸點41提供將電源板52推過觸點基座42的力。觸點41的橫截面為弧形，以及其弧形曲面接觸電源板52。觸點41由材料，諸如磷青銅和銅製成。
當由於旋轉，已經磨損觸點時，將觸點41固定到基座40可能使觸點41和電源板52間的接觸不穩定，不能將射頻功率穩定地提供給襯底圓頂22，導致放電失敗。每次完成沉積時，去除襯底圓頂22，以致每次固定襯底圓頂22時，在電源板52和基座40間，在距離方面產生小的誤差。為此，在傳統的電源裝置中，將管腳43垂直地提供給電源板52的平面以便可沿管腳43移動地保持觸點基座42，從而允許將觸點41垂直地推動到電源板52的平面上。
專利文獻1日本專利申請公開號No.2001-73136。
具有傳統的觸點接觸旋轉本體並進入與電源板線性接觸的面積小，加速觸點的磨損的問題。這是因為傳統的電源板遭受軟氮化過程來硬化其表面，增加電源板的耐滑性。觸點的磨損來自與電源板的接觸，導致生成電弧放電以致顯著地擦掉觸點部的尖頭的問題。除上述以外，存在軟氮化過程易於增加電阻的另一問題。高的耐滑性由於磨損，使得電源板變粗糙，增加用來降低電源效率的電阻。
傳統的觸點進入根據形狀，進入與旋轉本體的線性接觸，以致觸點面積不可避免地變小以及增加阻抗。此外，存在觸點部的磨損改變接觸面積，導致新和磨損觸點間的阻抗改變的另一問題。
此外，傳統的觸點單元沿相對於作為旋轉本體的電源板垂直排列的兩個管腳往復運動，這導致操作故障。施加到傳統裝置中的觸點的外力參考圖7描述。使觸點41經受其自己的重量以及等於通過彈簧的彈力，從觸點41施加到電源板52的力的力f4。另外，使觸點41經受通過襯底圓頂22的旋轉，來自電源板52的旋轉方向(即由圖中的箭頭「C」表示的方向)中的力f5。使觸點41經受由力f4和f5的總和組成的合力f6，然而，在傳統裝置中，施加到觸點41的合力f6在觸點41的運動方向(即圖中所示的箭頭「d」的方向)中不一致，這導致操作故障。在傳統的裝置中，以相對於旋轉中心徑向排列其縱向的方式，排列觸點41，以便根據觸點41接觸電源板52的位置，旋轉方向中的力f5不同。圖8示意性地表示施加到傳統觸點41的每一點的力的方向和大小。由於旋轉方向(即該圖中所示的箭頭「e」的方向)中的力f5與速度成比例。力的大小從速度更低的中心(f5』)改變到速度更高(f5」)的外圍，這產生接觸扭轉(由圖中的箭頭「f」表示)。
另外，小彈簧對熱靈敏以致易於喪失彈性，阻礙平滑垂直運動。
根據本發明的第二方面，提供一種真空設備，特徵在於包括真空室，排列在真空室內並與真空室電絕緣的旋轉電極，以及電源裝置，通過旋轉電極上的觸點部，提供電功率；其中，旋轉電極具有環形形狀，以及相對於環形形狀的中心軸水平地旋轉，以及電源裝置由電極構件組成，以及電極構件可移動到與由旋轉電極施加的力的方向基本上重合的方向。
根據本發明的第三方面，提供一種真空設備，特徵在於包括真空室，排列在真空室內並與真空室電絕緣的旋轉電極，以及電源裝置，接觸旋轉電極以便向其提供電功率；其中，旋轉電極具有圓柱形狀以及相對於圓柱形狀的中心軸水平旋轉，以及電源裝置由電極構件組成，以及電極構件和旋轉電極在至少一個觸點部彼此接觸，以及觸點部至少位於旋轉電極的側面上。此外，電極構件可移動到兩個方向之間的插入方向，一個方向是放置電極構件的方向，該方向垂直於觸點部，另一方向是旋轉電極旋轉的方向，該方向與觸點部正切，以及可移動到與插入方向對稱的方向。
在本發明的第二和第三方面中，電極構件由一個支點支撐，該支點位於實際上垂直於力或合力的方向的直線上的任何點上並通過電極構件上的一個點，以及電極構件可繞支點移動。
在本發明的第一至第三方面中，電源裝置進一步具有固定電極構件的電極基座、支撐電極基座的單元基座，以及將電極構件基座緊固到單元基座的管腳，以及電極構件基座和電極可使用管腳作為支點移動。此外，觸點部或接觸面位於旋轉電極的內側中。此外，該真空設備具有至少一個彈簧，使電極構件壓向旋轉電極。旋轉電極由旋轉圓柱和觸點部或接觸面組成，所述旋轉圓柱具有在其上安裝沉積襯底的襯底圓頂。此外，電源裝置進一步具有使彈簧固定到基座單元的彈簧基座，將電功率從單元基座提供給電極的電源薄板，通過夾在其間的電源薄板，使電極緊固到電極基座的埋頭螺釘，以及將電源薄板固定到彈簧基座的電源薄板保持器。
根據本發明的第四方面，提供一種在電源裝置中提供電功率的方法，電源裝置由將電功率提供給排列在真空室中並與真空室電絕緣的環形形狀旋轉電極的電極構件組成，該方法的特徵在於包括相對於環形形狀的中心軸，水平地旋轉旋轉電極；使電極構件和旋轉電極在至少一個接觸面彼此面接觸；以及使接觸面的面積保持恆定。
根據本發明的第五方面，提供一種在電源裝置中提供電功率的方法，電源裝置由將電功率提供給排列在真空室中並與真空室電絕緣的環形形狀旋轉電極的電極構件組成，該方法的特徵在於包括相對於環形形狀的中心軸，水平地旋轉旋轉電極；使電極構件和旋轉電極在至少一個接觸面彼此面接觸；以及使電極構件可移動到與由旋轉電極施加的力的方向基本上重合的方向。
在上述第四或第五方面中，旋轉電極由電連接到在其上安裝沉積襯底的襯底圓頂和電源裝置的電源本體組成。
本發明允許將穩定的電功率提供給旋轉本體以及為電源裝置提供良好的可維護性。
圖1表示根據本發明的電源裝置的示意圖；圖2表示根據本發明的電源裝置和外圍裝置的示意圖；圖3是描述根據本發明，施加到電源裝置的外力的圖；
圖4表示真空設備的示意圖；圖5表示傳統的電源裝置的示意圖；圖6表示傳統的電源裝置及其外圍裝置的示意圖圖7表示傳統的電源裝置的示意圖；以及圖8表示傳統的電源裝置的示意平面圖。
符號描述1 電源裝置2 觸點3 觸點基座4 彈簧基座5 彈簧6 電源薄板7 管腳8 埋頭螺釘9 單元基座10 電源薄板保持器11 制動部12 固定孔13 通孔20 電源環21 圓頂適配器22 襯底圓頂23 沉積襯底24 旋轉裝置25 瓷絕緣體26 基座27 瓷絕緣體28 鋼板30 真空室
31 進氣口32 電源裝置33 襯底加熱器34 沉積材料35 坩堝36 電子槍37 開閉器38 中和器40 基座41 觸點42 觸點基座43 管腳44 電源薄板45 彈簧46 通孔50 圓頂適配器51 圓頂制動器52 電源板具體實施方式
參考圖1和2，描述與本發明有關的電源裝置的實施例。與傳統技術相同的部件賦予相同的參考字符以便省略其重複描述。圖1表示電源裝置的示意圖，以及圖2表示電源裝置及其外圍裝置的示意圖。圖1和2所示的裝置可以安裝在例如圖4所示的真空設備上。
圖1所示的電源裝置1由單元基座9、為接觸旋轉本體以便向其提供電功率的電極的觸點2、固定到並排列在單元基座9上並具有凹口的彈簧基座4、用於將觸點基座3固定到單元基座9的管腳7、固定到彈簧基座4和觸點基座3的凹口中的彈簧5、用於將電功率從單元基座9提供到觸點2的電源薄板6、用於通過夾在兩者間的電源薄板6的一端，將觸點1固定到觸點基座3的埋頭螺釘8，以及通過夾在保持器和彈簧基座間的電源薄板6的另一端，將電源薄板6固定到彈簧基座4的電源薄板保持器10。圖1(a)表示示意側視圖。圖1(b)表示當從底板向頂板看時，安裝並排列在真空室內的電源裝置1的示意平面圖。圖1所示的電源裝置1表示一個單元。兩個觸點單元可以連接到例如其襯底圓頂直徑為Φ700至1200的器件。
圖2所示的電源環20、圓頂適配器21和襯底圓頂22包括旋轉本體且排列在真空室內並與其電絕緣。具體地，電源環20經瓷絕緣體25，固定到旋轉裝置24，以及圓頂適配器21和襯底圓頂22分別連接並固定到電源環20和圓頂適配器21。在本實施例中，可以通過螺絲緊固上述組成元件以便整體旋轉這些元件，因為考慮可維護性，單獨地構成旋轉本體。將電功率從電源裝置1提供給與外圍裝置電絕緣的旋轉本體。將沉積襯底23安裝在襯底圓頂22上，以及將射頻功率從電源裝置1提供給襯底圓頂22以便使用IAD方法，沉積緻密薄膜。這與傳統的方法相同。
電源裝置1連接到基座26，以及基座26固定和排列在真空室內，並與之電絕緣。在本實施例名，單元基座9通過固定孔12固定到基座26的下面部分，該基座26經瓷絕緣體27固定並排列在真空室的頂板上，由此允許在維護時，移除每一單元。通過單元基座9、彈簧基座4、電源薄板6和觸點2，將通過連接到安裝在真空室外的射頻電源(未示出)的鋼板28，施加到基座26的射頻功率提供給電源環20，然後，經圓頂適配器21，施加到襯底圓頂22。在圖2中，使在真空室中施加射頻(RF)的部件著色並遮擋瓷絕緣體。組成施加上述RF功率的路線的元件最好使用高導電材料，諸如銅。
使電源裝置1的觸點2與旋轉電源環20接觸將電功率從電源裝置1提供給旋轉本體。電源環20是圓柱的，以及觸點2接觸圓柱的內壁表面。在本實施例中，電源環20將傳統的圓頂制動器用作電源部件，從而減少部件的數量。觸點2的特徵在於其成形為與電源環20表面接觸，從而增加穩定電源的接觸面積。在本實施例名，將矩形平行六面體的一個面用作曲率等於電源環20的曲面的曲面，以及使曲面接觸電源環20，允許在開始使用新觸點時，接觸面積為圖5所示的傳統裝置的接觸面積的13倍寬。這解決進入線接觸的傳統觸點和由進入點接觸的球體形成的觸點的觸點面積太小以致增加阻抗的問題，或觸點的末端體積太小以致快速磨損觸點的問題，由此使得穩定提供電功率，改進放電的穩定性，以及降低電源的負擔。
觸點2的上述形狀即使磨損其表面時，也不改變接觸面積，以及使用將不改變阻抗以便允許穩定地提供電功率。觸點2的形狀不限於上述實施例，但可以是使處於與旋轉本體的接觸面法線方向並且與接觸面的距離相等的面總是面積相等的形狀。
使觸點2接觸圓柱電源環20的壁面將不產生觸點2的扭轉，與傳統技術不同，允許減少操作故障。這是因為通過電源環20，施加到觸點2的旋轉方向的力在電源環20接觸觸點2的接觸面中相等。提供功率的旋轉本體和觸點2間的接觸面不限於上述實施例，而是可以排列在與旋轉本體的中心軸同心的圓上。
將磷青銅用作用於觸點2的材料允許觸點2變為高耐熱性以及進入與電源環20面接觸，因為即使在開始使用新觸點時，觸點2的形狀與電源環20的形狀不完成重合，也會在短時間中擦掉其凸起。此外，使用由經受由Teflon(註冊商標)無電鎳或無電鎳表面處理的不鏽鋼製成的材料允許使導電率維持到高電平，以及降低耐性性。真空氮化處理可以用來增加表面硬度。將由經受由Teflon(註冊商標)無電鎳或無電鎳的表面處理的不鏽鋼製成的材料用於電源環20也用來降低電阻和耐滑性以及提高耐熱性和耐熱磨性。在本實施例中，經受真空氧化處理的不鏽鋼用於比觸點2更大和昂貴的電源環20以便增加耐磨性，以及磷青銅用於觸點2以便使其成為消耗品。
彈簧基座4和觸點基座3的凹口零件可以是具有這種形狀的池以便允許彈簧5安裝在其中，但最好形狀等於彈簧5。彈簧基座4和觸點基座3安置在觸點2接觸電源環20以及凹口彼此面對的位置。圖1(e)表示沿圖1(b)所示的線Y-Y』的示意截面圖。彈簧基座4通過螺絲或其他固定到單元基座9以及觸點基座3通過一定自由度連接到單元基座9。具體地，在觸點基座3中形成通孔13以及將管腳7插入其中，以便將觸點基座3連接到單元基座9，從而允許觸點基座3將管腳7用作支點旋轉。圖1(d)表示在圖1(b)中所示的線X-X』的示意截面圖。將二硫化鉬烘烤在管腳7上或使其經受其他表面處理以便減少摩擦是可取的。通過收縮和彈性處理的彈簧，將彈簧5放在凹口中，以便使觸點2壓向電源環20。
參考圖3描述施加到觸點2的外力。
由於通過彈簧5，將觸點2壓向電源環20，通過在推回觸點2的方向中，通過電源環20，使觸點2經受力f1。另一方面，當襯底圓頂2開始旋轉時，通過電源環20，使觸點2在旋轉方向或由該圖中的箭頭「a」所示的方向中經受力f2。這表示觸點2經受由力f1和f2的合組成的合力f3。此時，在本實施例中，觸點2的可移動方向或由該圖中的箭頭「b」所示的方向基本上與合力f3的方向重合，確保總是穩定的旋轉操作。由於施加到觸點2的合力f3隨彈簧5的旋轉速度和彈力而改變，根據所需旋轉速度和其他，預先確定施加到觸點2的合力f3以便使觸點2可在等於合力f3的方向中移動。在本實施例中，使觸點2構成使用管腳7作為支點，在弧上往復運動，以便可以使管腳7位於通過接觸電源環20並與合力f3的方向垂直的表面的線上。
將管腳7用作支點，使觸點基座3在弧上移動可以使彈簧5插入凹口中以便衝出，除非適當地限制運動範圍。在本實施例中，觸點基座3由L形構成並配置成在L形的一端與彈簧基座4碰撞的指定角度內移動。可以適當地成形觸點基座3和彈簧基座4以便在所需角度內移動。例如，可以將管腳單獨地提供為止動部件，用於將觸點基座3的運動限制到運動範圍。在本實施例中，用觸點基座3和彈簧基座4形成止動零件11用來縮減部件數量。圖1(c)表示通過止動零件，阻止觸點的狀態。
在本實施例中，觸點2以不同於傳統的方式移動，允許將直徑和導線直徑更大的材料用於彈簧5。這允許抑制由於熱，彈簧收縮引起的壓緊力的減小。儘管通過彈簧5增加壓緊力，但因為觸點2和電源環20經受用於減少耐滑性的表面處理，減輕磨損。這允許提供電功率，同時以高速旋轉襯底圓頂22。
與傳統的裝置相比，能顯著地延長觸點單元的維持周期，因為每一部件製成足夠厚，彈簧5直徑更大，能選擇最佳材料和表面處理，以及觸點2的可用體積更大。
此外，如該圖所示，基本上減少可消耗部件的數量，顯示出價格的巨大優勢。
此外，至於所關心的電源性能，觸點面接觸以及彈簧的強壓緊力允許將阻抗維持在更低值。觸點2的磨損將不改變接觸面積，以致當使用該觸點時，也不改變阻抗。
儘管在上述實施例中，將電源裝置用於將RF功率提供到真空設備中，該裝置可以用於提供直流功率。可以將其他材料和表面處理用於除上述外的觸點和電源環，只要它們特性相同。
此外，儘管在本實施例中，觸點2接觸電源環20的內側，可以將觸點2配置成接觸其外側。另外，儘管在本實施例中，使觸點2進入與電源環20面接觸，甚至線性或點接觸也能防止彈簧5損壞，只要使觸點接觸電源環20的側面，從而不產生施加到觸點的扭轉，以及如上所述，確定觸點的可移動方向。
在上文中，描述了用於將電功率提供給在真空設備內可旋轉排列的襯底圓頂。然而，根據本發明的電源裝置適合於將電功率提供給在真空室內排列的旋轉電極以及上述實施例。當在使用噴射的沉積方法中，在旋轉沉積材料兩端施加電壓時，例如，能通過根據本發明、具有裝載有用作旋轉電極的沉積材料的容器等等的電源裝置，施加電功率。
權利要求
1.一種真空設備，特徵在於包括真空室；旋轉電極，排列在所述真空室內並與所述真空室電絕緣；以及電源裝置，接觸所述旋轉電極以便向其提供電功率；其中，所述旋轉電極具有環形形狀以及相對於環形形狀的中心軸水平旋轉，以及所述電源裝置由電極構件組成，以及所述電極構件和所述旋轉電極在至少一個接觸面彼此接觸。
2.如權利要求1所述的真空設備，其中，所述電極構件具有在與觸點表面的距離相等的平面中得到的橫截面積恆定的形狀。
3.一種真空設備，特徵在於包括真空室；旋轉電極，排列在所述真空室內並與所述真空室電絕緣；以及電源裝置，通過旋轉電極上的觸點部，提供電功率；其中，旋轉電極具有環形形狀，以及相對於環形形狀的中心軸水平地旋轉，以及所述電源裝置由電極構件組成，以及所述電極構件可移動到與由所述旋轉電極施加的力的方向基本上重合的方向。
4.一種真空設備，特徵在於包括真空室；旋轉電極，排列在所述真空室內並與所述真空室電絕緣；以及電源裝置，接觸所述旋轉電極以便向其提供電功率；其中，所述旋轉電極具有圓柱形狀以及相對於圓柱形狀的中心軸水平旋轉，以及所述電源裝置由電極構件組成，以及所述電極構件和所述旋轉電極在至少一個觸點部彼此接觸，以及所述觸點部至少位於所述旋轉電極的側面上。
5.如權利要求4所述的真空設備，其中，所述電極構件可移動到兩個方向之間的插入方向，其中一個方向是放置所述電極構件的方向，該方向垂直於所述觸點部，另一個方向是所述旋轉電極旋轉方向，該方向與所述觸點部正切，以及可移動到與插入方向對稱的方向。
6.如權利要求5所述的真空設備，其中，所述電極構件可移動到由與所述觸點部垂直和正切的力組成的合力的方向，由所述旋轉電極施加力的方向，以及可移動到與合力的方向對稱的方向。
7.如權利要求3、5或6所述的真空設備，其中，所述電極構件由一個支點支撐，該支點位於實際上垂直於力或合力的方向的直線上的任何點上並通過所述電極構件上的一個點，以及所述電極構件可繞所述支點移動。
8.如權利要求1至7的任何一個所述的真空設備，其中，所述電源裝置進一步具有固定所述電極構件的電極基座、支撐所述電極基座的單元基座，以及將所述電極構件基座緊固到所述單元基座的管腳，以及所述電極構件基座和所述電極可使用管腳作為支點移動。
9.如權利要求1至8的任何一個所述的真空設備，其中，所述觸點部或接觸面位於所述旋轉電極的內側中。
10.如權利要求1至9的任何一個所述的真空設備，其特徵在於進一步包括至少一個彈簧，該彈簧將所述電極構件壓向所述旋轉電極。
11.如權利要求1至10的任何一個所述的真空設備，其中，所述旋轉電極由旋轉圓柱和觸點部或接觸面組成，所述旋轉圓柱具有襯底圓頂，在所述襯底圓頂上安裝沉積襯底。
12.如權利要求10或11所述的真空設備，其中，所述電源裝置進一步具有彈簧基座，使所述彈簧固定到所述基座單元；電源薄板，將電功率從所述單元基座提供給所述電極；埋頭螺釘，通過夾在其間的所述電源薄板，使所述電極緊固到所述電極基座；以及電源薄板保持器，將所述電源薄板固定到所述彈簧基座。
13.一種在電源裝置中提供電功率的方法，所述電源裝置由將電功率提供給排列在真空室中並與所述真空室電絕緣的環形形狀旋轉電極的電極構件組成，所述方法的特徵在於包括相對於所述環形形狀的中心軸，水平地旋轉所述旋轉電極；使所述電極構件和所述旋轉電極在至少一個接觸面彼此面接觸；以及使所述接觸面的面積保持恆定。
14.一種在電源裝置中提供電功率的方法，所述電源裝置由將電功率提供給排列在真空室中並與所述真空室電絕緣的環形形狀旋轉電極的電極構件組成，所述方法的特徵在於包括相對於環形形狀的中心軸，水平地旋轉所述旋轉電極；使所述電極構件和所述旋轉電極在至少一個接觸面彼此面接觸；以及使所述電極構件可移動到與由所述旋轉電極施加的力的方向基本上重合的方向。
15.如權利要求13或14所述的提供電功率的方法，其中，所述旋轉電極由電連接到在其上安裝沉積襯底的襯底圓頂和所述電源裝置的電源本體組成。
全文摘要
改進排列在真空室內的旋轉電極和接觸該旋轉電極以便向其提供電功率的電源裝置間的接觸狀態。真空設備具有真空室、排列在真空室內並與真空室電絕緣的旋轉電極，以及接觸旋轉電極以便向其提供電功率的電源裝置，其中，旋轉電極具有環形形狀以及相對於環形形狀的中心軸水平旋轉，以及電源裝置由電極構件組成，以及電極構件和旋轉電極在至少一個接觸面彼此接觸。
文檔編號H01R39/00GK1946869SQ200580012669
公開日2007年4月11日 申請日期2005年1月24日 優先權日2004年7月12日
發明者瀧本昌行, 小室弘之, 布施豐, 阿部辰彌, 青名端一仁 申請人:株式會社昭和真空