一種塗層導體多層結構超導膜及其製備方法

2023-07-26 14:11:01 1

專利名稱：一種塗層導體多層結構超導膜及其製備方法
技術領域：
本發明屬於高溫超導材料技術領域，具體涉及一種塗層導體多層結構超導膜及其製備方法。
背景技術：
塗層導體是由金屬基帶/阻隔層/超導層/保護層構成的多層結構型實用高溫超導材料，已經成為目前國際超導材料領域的研究熱點。由於高溫超導體的相干長度很小，而且呈現強的各向異性特徵，人工引入缺陷結構作為有效釘扎中心是提高塗層導體超導性能的重要途徑。對於三氟乙酸金屬有機沉積(TFA-MOD)工藝，人工引入離子缺陷可以通過改變前驅溶液的組成來進行，同時改變厚度以及相關熱處理工藝來控制缺陷結構的形成與分布。在人工引入離子缺陷方面，日本超導研究中心(SRL-ISTEC)採用貧鋇化前驅液提高樣品性能。將Ba/Y比例控制為1. 5，獲得YBai.5Cu30y塗層導體，通過析出的第二相^O3 作為釘扎中心，但是第二相尺寸較大，起到釘扎作用的並不是第二相本身，而是在第二相周圍形成的缺陷結構。美國超導公司(AMSC)在前驅溶液中摻入Dy，促使納米點缺陷密度的增加，有利於超導層的強釘扎。他們研發出YDya5BCOABCO兩層複合帶材，提高塗層導體在 H//c方向上的釘扎能力。然而他們沒有漸進改變離子缺陷含量，不利於實現界面釘扎。本發明提出對釔為離子進行部分替代形成缺陷結構，這種缺陷結構小於第二相。同時將塗層增加到3層，有效的提高界面釘扎作用，將更有利於提高樣品性能。

發明內容
本發明所要解決的技術問題在於針對上述現有技術的不足，提供一種Jc大於 IMA/cm2的塗層導體多層結構超導膜。為解決上述技術問題，本發明採用的技術方案是一種塗層導體多層結構超導膜， 其特徵在於，該塗層導體多層結構超導膜為YB￡i2Cu30y/Ya JEaiBEt2Cu3CVZYa7REa3BEi2Cu3Oy ；所述RE為Sm或Ho。所述多層結構超導膜的層數為3層。本發明還提供了一種塗層導體多層結構超導膜的製備方法，其特徵在於，該方法包括以下步驟(1)將乙酸釔、乙酸鋇和乙酸銅按原子比Y Ba Cu = 1 2 3溶解於去離子水中得到初始溶液A ；(2)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.9 2 3 0.1溶解於去離子水中得到初始溶液B;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥或乙酸釤；(3)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.7 2 3 0.3溶解於去離子水中得到初始溶液C;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥或乙酸
(4)分別向步驟(1)中所述初始溶液A、步驟O)中所述初始溶液B和步驟(3)中所述初始溶液C中加入三氟乙酸，80°C回流4h，同時在80°C，攪拌速率為50轉/分鐘 100 轉/分鐘條件下攪拌得到溶膠A、溶膠B和溶膠C ；將溶膠A、溶膠B和溶膠C分別減壓蒸餾得到藍色透明膠體A、膠體B和膠體C，採用甲醇對膠體A、膠體B和膠體C分別提純3 5 次，將提純後的膠體A、膠體B和膠體C分別溶解於甲醇中配製成1. 5mol/L 2mol/L的前驅液A、前驅液B和前驅液C ；所述三氟乙酸的加入量為初始溶液中鋇元素摩爾量的15倍；(5)採用浸塗法將步驟(4)中所述前驅液A、前驅液B和前驅液C逐層塗覆於NiW/ La2&207/Ce02緩衝層上，每塗覆完一層後將塗覆前驅液的緩衝層在溫度為120°C 150°C條件下乾燥，然後置於管式爐中進行熱解，形成厚度為1 μ m 2 μ m的熱解膜，反應結束後， 停止通氣隨爐降溫，再進行下一層的塗覆；塗覆三層後形成總厚度為3 μ m 6 μ m的TOCO/ Y0.9Sm0. !BCO/Yo. 7Sm0.3BC0 或 TOCO/Y。. 9Ho0. PCO/Y。. 7Ho0.3BC0 三層熱解膜；所述浸塗過程中的提拉速度為2mm/s IOmm/s ；(6)將步驟(5)中所述三層熱解膜置於高溫晶化爐中，以10°C /min 25V /min 的速率升溫至730°C 830°C，在氧分壓為IOppm 500ppm，水汽分壓為3. 的條件下恆溫Ih 3h，然後在乾燥的氬氧混合氣氛中降溫，待溫度降至525°C時將氣氛更換為乾燥的氧氣氛，最後在450°C恆溫Ih 池進行滲氧處理，得到塗層導體多層結構超導膜；所述氬氧混合氣氛中氧氣的體積含量為IOppm 500ppm，氬氣為餘量；所述塗層導體多層結構超導膜的厚度為0. 9 μ m 1. 8 μ m。上述步驟中所述甲醇為分析純試劑。上述步驟(5)中所述熱解的制度為以5°C /min的速率升溫至150 200°C，然後以0. 1°C /min 0. 5°C /min的速率繼續升溫至250°C，再以1°C /min 5°C /min的速率升溫至320°C 400°C，氣氛控制為流動的氧氣氛，在溫度高於120°C時通入溼氧氣，水汽分壓控制為0. 6% 3. 1%，當溫度升至320°C 400°C時反應結束，停止通氣隨爐降溫。本發明與現有技術相比具有以下優點1、本發明在NiW/LZ0/Ce02緩衝層上製備多層結構超導膜，結合稀土離子在析出相中的固溶度，通過改變陽離子化學計量比，逐步提高缺陷結構在塗層導體中的分布，通過控制熱處理工藝，控制缺陷結構的尺寸。2、本發明通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能。與傳統製備的純YBCO 膜相比，本發明的多層結構超導膜不僅引入了缺陷釘扎，同時提高超導層厚度，3次塗覆的膜厚度達到0. 9 μ m 1. 8 μ m，Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。下面通過附圖和實施例，對本發明的技術方案做進一步的詳細說明。


圖1 為本發明實施例 1 的 NiW/L￡i2&207/Ce02/YBC0/Y。.9Ho。. 3C0/Y。. 7Ho0.3BC0 薄膜的 X衍射θ-2 θ掃描圖。圖2 為本發明實施例 1 的 Niwzli^r2Oyceo2ABaVYa9Hoa1BaVYa7Hoa3Bco 薄膜的表面形貌的掃描電鏡(SEM)圖。圖3 為本發明實施例 1 的 NiW/L￡i2&207/Ce02/YBC0/Y。.9Ho。. !BCO/Y。. 7Ho0.3BC0 薄膜的臨界電流密度與磁場的曲線(Jc-B)圖。
具體實施例方式實施例1(1)將乙酸釔、乙酸鋇和乙酸銅按原子比Y Ba Cu = 1 2 3溶解於去離子水中得到初始溶液A ；(2)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.9 2 3 0.1溶解於去離子水中得到初始溶液B;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥；(3)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.7 2 3 0.3溶解於去離子水中得到初始溶液C;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥；(4)分別向步驟(1)中所述初始溶液A、步驟⑵中所述初始溶液B和步驟(3)中所述初始溶液C中加入三氟乙酸，80°C回流4h，同時在80°C，攪拌速率為50轉/分鐘條件下攪拌得到溶膠A、溶膠B和溶膠C ；將溶膠A、溶膠B和溶膠C分別減壓蒸餾得到藍色透明膠體A、膠體B和膠體C，採用甲醇(分析純試劑)對膠體A、膠體B和膠體C分別提純3次，將提純後的膠體A、膠體B和膠體C分別溶解於甲醇(分析純試劑)中配製成1. 5mol/L的前驅液A、前驅液B和前驅液C ；所述三氟乙酸的加入量為初始溶液中鋇元素摩爾量的15倍；(5)採用浸塗法將步驟(4)中所述前驅液A、前驅液B和前驅液C逐層塗覆於NiW/ La2Zr207/Ce02緩衝層上，每塗覆完一層後將塗覆前驅液的緩衝層在溫度為120°C條件下乾燥，然後置於管式爐中進行熱解，形成厚度為1 μ m的熱解膜，反應結束後，停止通氣隨爐降溫，再進行下一層的塗覆；塗覆三層後形成總厚度為3 μ m的TOaVYa9H0aiBaVYa7H0a3BCO 三層熱解膜；所述浸塗過程中的提拉速度為2mm/s ；所述熱解的制度為以5°C /min的速率升溫至150°C，然後以0. I0C /min的速率繼續升溫至250°C，再以1°C /min的速率升溫至320°C，氣氛控制為流動的氧氣氛，在溫度高於120°C時通入溼氧氣，水汽分壓控制為 0. 6%，當溫度升至320°C時反應結束，停止通氣隨爐降溫；(6)將步驟(5)中所述三層熱解膜置於高溫晶化爐中，以10°C /min的速率升溫至 730°C，在氧分壓為lOppm，水汽分壓為3. 1 %的條件下恆溫池，然後在乾燥的氬氧混合氣氛中降溫，待溫度降至525°C時將氣氛更換為乾燥的氧氣氛，最後在450°C恆溫Ih進行滲氧處理，得到厚度為0. 9 μ m的塗層導體多層結構超導膜(NiW/L￡i2&207/Ce02ABC0/Ya9HOaiBC0/ Ya7Hoa3BCO)；所述氬氧混合氣氛中氧氣的體積含量為lOppm，氬氣為餘量。圖1是本實施例製備的塗層導體多層結構超導膜(NiW/La2&207/Ce02ABC0/ Ya9H0aiBC(VYa7H0a3BCO)的χ衍射圖(圖中縱坐標為衍射強度，任意單位；橫坐標為2Theta 衍射角，單位為度)，從圖中可看出多層結構超導膜具有良好的外延織構，其中，YHoBCO為釔鈥鋇銅氧多層超導膜，Niff為鎳鎢的縮寫，LZO為La2Zr207的縮寫。圖2是本實施例製備的塗層導體多層結構超導膜的掃描電鏡圖，放大倍數為 20000倍，表面緻密且無a軸晶。圖3是本實施例製備的塗層導體多層結構超導膜的臨界電流密度與磁場的曲線 (縱坐標為臨界電流密度，單位安培每平方釐米；橫坐標為磁場，單位為特斯拉)，結果顯示塗層導體多層結構超導膜77K零場下Jc達到2. 3MA/cm2,磁場下Jc明顯高於未摻雜超導層薄膜性能。實施例2本實施例與實施例1的製備方法相同，其特徵在於所述稀土乙酸鹽為乙酸釤，得到 TOCO/Y。. 9Sm0. iBCO/Yo. 7Sm0.3BC0 三層熱解膜。本實施例通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能，製備的塗層導體多層結構超導膜Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。實施例3(1)將乙酸釔、乙酸鋇和乙酸銅按原子比Y Ba Cu = 1 2 3溶解於去離子水中得到初始溶液A ；(2)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.9 2 3 0.1溶解於去離子水中得到初始溶液B;所述稀土乙酸鹽為乙酸釤；(3)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.7 2 3 0.3溶解於去離子水中得到初始溶液C;所述稀土乙酸鹽為乙酸釤；(4)分別向步驟(1)中所述初始溶液A、步驟⑵中所述初始溶液B和步驟(3)中所述初始溶液C中加入三氟乙酸，80°C回流4h，同時在80°C，攪拌速率為100轉/分鐘條件下攪拌得到溶膠A、溶膠B和溶膠C ；將溶膠A、溶膠B和溶膠C分別減壓蒸餾得到藍色透明膠體A、膠體B和膠體C，採用甲醇(分析純試劑)對膠體A、膠體B和膠體C分別提純5次， 將提純後的膠體A、膠體B和膠體C分別溶解於甲醇(分析純試劑)中配製成2mol/L的前驅液A、前驅液B和前驅液C ；所述三氟乙酸的加入量為初始溶液中鋇元素摩爾量的15倍；(5)採用浸塗法將步驟(4)中所述前驅液A、前驅液B和前驅液C逐層塗覆於NiW/ La2Zr207/Ce02緩衝層上，每塗覆完一層後將塗覆前驅液的緩衝層在溫度為150°C條件下乾燥，然後置於管式爐中進行熱解，形成厚度為2 μ m的熱解膜，反應結束後，停止通氣隨爐降溫，再進行下一層的塗覆；塗覆三層後形成總厚度為6 μ m的TOaVYa9SmaiBaVYa7Sma3BCO 三層熱解膜；所述浸塗過程中的提拉速度為10mm/S ；所述熱解的制度為以5°C /min的速率升溫至200°C，然後以0. 50C /min的速率繼續升溫至250°C，再以5°C /min的速率升溫至400°C，氣氛控制為流動的氧氣氛，在溫度高於120°C時通入溼氧氣，水汽分壓控制為 3. 1%，當溫度升至320°C時反應結束，停止通氣隨爐降溫；(6)將步驟(5)中所述三層熱解膜置於高溫晶化爐中，以25°C /min的速率升溫至 830°C，在氧分壓為500ppm，水汽分壓為3. 的條件下恆溫lh，然後在乾燥的氬氧混合氣氛中降溫，待溫度降至525°C時將氣氛更換為乾燥的氧氣氛，最後在450°C恆溫池進行滲氧處理，得到厚度為1.8μπι的塗層導體多層結構超導膜；所述氬氧混合氣氛中氧氣的體積含量為IOppm,氬氣為餘量。本實施例通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能，製備的塗層導體多層結構超導膜Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。
實施例4本實施例與實施例3的製備方法相同，其特徵在於所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥，得到 TOCO/Y。. 9Ho0. iBCO/Yo. 7HO0. 3BC0 三層熱解膜。本實施例通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能，製備的塗層導體多層結構超導膜Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。實施例5(1)將乙酸釔、乙酸鋇和乙酸銅按原子比Y Ba Cu = 1 2 3溶解於去離子水中得到初始溶液A ；(2)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.9 2 3 0.1溶解於去離子水中得到初始溶液B;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥；(3)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.7 2 3 0.3溶解於去離子水中得到初始溶液C;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥；(4)分別向步驟(1)中所述初始溶液A、步驟⑵中所述初始溶液B和步驟(3)中所述初始溶液C中加入三氟乙酸，80°C回流4h，同時在80°C，攪拌速率為75轉/分鐘條件下攪拌得到溶膠A、溶膠B和溶膠C ；將溶膠A、溶膠B和溶膠C分別減壓蒸餾得到藍色透明膠體A、膠體B和膠體C，採用甲醇(分析純試劑)對膠體A、膠體B和膠體C分別提純4次，將提純後的膠體A、膠體B和膠體C分別溶解於甲醇(分析純試劑)中配製成1.8mol/L的前驅液A、前驅液B和前驅液C ；所述三氟乙酸的加入量為初始溶液中鋇元素摩爾量的15倍；(5)採用浸塗法將步驟(4)中所述前驅液A、前驅液B和前驅液C逐層塗覆於 Niff/La2Zr207/Ce02緩衝層上，每塗覆完一層後將塗覆前驅液的緩衝層在溫度為135°C條件下乾燥，然後置於管式爐中進行熱解，形成厚度為1. 5 μ m的熱解膜，反應結束後，停止通氣隨爐降溫，再進行下一層的塗覆，塗覆三層後形成總厚度為4. 5μπι的YBCO/Yo^Hoo^BCO/ Ya7Hoa3BCO三層熱解膜；所述浸塗過程中的提拉速度為6mm/s ；所述熱解的制度為以5°C/ min的速率升溫至175°C，然後以0. 3°C /min的速率繼續升溫至250°C，再以3°C /min的速率升溫至360°C，氣氛控制為流動的氧氣氛，在溫度高於120°C時通入溼氧氣，水汽分壓控制為1. 9%，當溫度升至360°C時反應結束，停止通氣隨爐降溫；(6)將步驟(5)中所述三層熱解膜置於高溫晶化爐中，以17°C /min的速率升溫至 7800C，在氧分壓為250ppm，水汽分壓為3. 1 %的條件下恆溫池，然後在乾燥的氬氧混合氣氛中降溫，待溫度降至525°C時將氣氛更換為乾燥的氧氣氛，最後在450°C恆溫2h進行滲氧處理，得到厚度為1.3μπι的塗層導體多層結構超導膜；所述氬氧混合氣氛中氧氣的體積含量為250ppm，氬氣為餘量。本實施例通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能，製備的塗層導體多層結構超導膜Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。實施例6本實施例與實施例5的製備方法相同，其特徵在於所述稀土乙酸鹽為乙酸釤，得到 TOCO/Y。. 9Sm0. iBCO/Yo. 7Sm0.3BCO 三層熱解膜。本實施例通過漸進改變離子缺陷含量彌合層界面差異，實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，使不同摻雜含量的多層膜在同一晶化條件下生長更趨於一致性，同時有效的提高了界面釘扎能力，提高了超導層的性能，製備的塗層導體多層結構超導膜Jc大於IMA/cm2，相比於不摻雜樣品在高場下具有高的Jc。以上所述，僅是本發明的較佳實施例，並非對本發明作任何限制，凡是根據本發明技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效變化，均仍屬於本發明技術方案的保護範圍內。
權利要求
1.一種塗層導體多層結構超導膜，其特徵在於，該塗層導體多層結構超導膜為 YBii2Cu3OyZYa9REci.^Ei2Cu3OyZYa7REa3Bii2Cu3Oy ；所述 RE 為 Sm 或 Ho。
2 根據權利要求1所述的一種塗層導體多層結構超導膜，其特徵在於，所述多層結構超導膜的層數為3層。
3.一種製備如權利要求1所述的塗層導體多層結構超導膜的方法，其特徵在於，該方法包括以下步驟(1)將乙酸釔、乙酸鋇和乙酸銅按原子比Y Ba Cu = 1 2 3溶解於去離子水中得到初始溶液A ；(2)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.9 2 3 0.1溶解於去離子水中得到初始溶液B;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥或乙酸釤；(3)將乙酸釔、乙酸鋇、乙酸銅和稀土乙酸鹽按原子比Y Ba Cu RE = 0.7 2 3 0.3溶解於去離子水中得到初始溶液C;所述稀土乙酸鹽為乙酸鈥或乙酸釤；(4)分別向步驟(1)中所述初始溶液A、步驟⑵中所述初始溶液B和步驟(3)中所述初始溶液C中加入三氟乙酸，80°C回流4h，同時在80°C，攪拌速率為50轉/分鐘 100轉 /分鐘條件下攪拌得到溶膠A、溶膠B和溶膠C ；將溶膠A、溶膠B和溶膠C分別減壓蒸餾得到藍色透明膠體A、膠體B和膠體C，採用甲醇對膠體A、膠體B和膠體C分別提純3 5次， 將提純後的膠體A、膠體B和膠體C分別溶解於甲醇中配製成1. 5mol/L 2mol/L的前驅液 A、前驅液B和前驅液C ；所述三氟乙酸的加入量為初始溶液中鋇元素摩爾量的15倍；(5)採用浸塗法將步驟中所述前驅液A、前驅液B和前驅液C逐層塗覆於NiW/ La2&207/Ce02緩衝層上，每塗覆完一層後將塗覆前驅液的緩衝層在溫度為120°C 150°C條件下乾燥，然後置於管式爐中進行熱解，形成厚度為1 μ m 2 μ m的熱解膜，反應結束後， 停止通氣隨爐降溫，再進行下一層的塗覆；塗覆三層後形成總厚度為3 μ m 6 μ m的TOCO/ Y0.9Sm0. !BCO/Yo. 7Sm0.3BC0 或 TOCO/Y。. 9Ho0. PCO/Y。. 7Ho0.3BC0 三層熱解膜；所述浸塗過程中的提拉速度為2mm/s IOmm/s ；(6)將步驟(5)中所述三層熱解膜置於高溫晶化爐中，以IOtVmin 25°C/min的速率升溫至730°C 830°C，在氧分壓為IOppm 500ppm，水汽分壓為3. 1 %的條件下恆溫Ih 3h，然後在乾燥的氬氧混合氣氛中降溫，待溫度降至525°C時將氣氛更換為乾燥的氧氣氛， 最後在450°C恆溫Ih 池進行滲氧處理，得到塗層導體多層結構超導膜；所述氬氧混合氣氛中氧氣的體積含量為IOppm 500ppm，氬氣為餘量；所述塗層導體多層結構超導膜的厚度為 0. 9μπ 1. 8μ 。
4.根據權利要求3所述的一種塗層導體多層結構超導膜的製備方法，其特徵在於，步驟中所述甲醇為分析純試劑。
5.根據權利要求3所述的一種塗層導體多層結構超導膜的製備方法，其特徵在於， 步驟(5)中所述熱解的制度為以5°C /min的速率升溫至150 200°C，然後以0. TC / min 0. 5°C /min的速率繼續升溫至250°C，再以1°C /min 5 °C /min的速率升溫至 320°C 400°C，氣氛控制為流動的氧氣氛，在溫度高於120°C時通入溼氧氣，水汽分壓控制為0. 6% 3. 1%，當溫度升至320°C 400°C時反應結束，停止通氣隨爐降溫。
全文摘要
本發明公開了一種塗層導體多層結構超導膜及其製備方法，該塗層導體多層結構超導膜為YBa2Cu3Oy/Y0.9RE0.1Ba2Cu3Oy/Y0.7RE0.3Ba2Cu3Oy，其中RE為Sm或Ho。其製備方法包括製備前驅液，將前驅液逐層塗覆於NiW/La2Zr2O7/CeO2緩衝層上，每塗覆一層進行一次熱解，最後進行高溫晶化得到厚度為0.9μm～1.8μm的多層結構超導膜。本發明實現了超導層中的缺陷結構在樣品橫截面上的定向可控分布，同時有效的增加了界面釘扎能力與超導層厚度，提高了超導層性能。
文檔編號H01B13/00GK102157246SQ201010583260
公開日2011年8月17日 申請日期2010年12月12日 優先權日2010年12月12日
發明者於澤銘, 盧亞鋒, 李成山, 金利華 申請人:西北有色金屬研究院