一種氧化鋯真空鍍膜的製作方法

2023-07-26 04:25:21 3

一種氧化鋯真空鍍膜的製作方法
【專利摘要】本發明公開了一種氧化鋯真空鍍膜，包括中間基層和兩層氧化鋯層，所述兩層氧化鋯層分別位於所述中間基層的上下兩側，所述中間基層為氧化矽或氧化鈣，所述中間基層上層的所述氧化鋯層的厚度大於所述中間基層下層的所述氧化鋯層的厚度。本發明的氧化鋯真空鍍膜耐磨耐腐蝕，透光性好。
【專利說明】一種氧化鋯真空鍍膜

【技術領域】
[0001 ] 本發明涉及一種氧化鋯真空鍍膜。

【背景技術】
[0002]真空鍍膜是目前得到廣泛使用的材料，種類較多。不同的使用條件下需要設計不同成分和理化性能的鍍膜材料。


【發明內容】

[0003]本發明主要解決的技術問題是提供一種氧化鋯真空鍍膜，該氧化鋯真空鍍膜耐磨耐腐蝕，透光性好。
[0004]為解決上述技術問題，本發明採用的一個技術方案是:提供一種氧化鋯真空鍍膜，包括中間基層和兩層氧化鋯層，所述兩層氧化鋯層分別位於所述中間基層的上下兩側，所述中間基層上層的所述氧化鋯層的厚度大於所述中間基層下層的所述氧化鋯層的厚度。
[0005]在本發明一個較佳實施例中，所述中間基層為氧化矽或氧化鈣。
[0006]在本發明一個較佳實施例中，所述中間基層上層的所述氧化鋯層的厚度為
0.03-0.08mm,所述中間基層下層的所述氧化錯層的厚度為0.01-0.03mm。
[0007]在本發明一個較佳實施例中，所述中間基層的厚度為0.03-0.06mm。
[0008]在本發明一個較佳實施例中，所述冷卻流道的所述另一端的軸線與所述燈絲杆內腔的軸線平行。
[0009]本發明的有益效果是:本發明的氧化鋯真空鍍膜耐磨耐腐蝕，透光性好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖，其中:
圖1是本發明的氧化鋯真空鍍膜的結構示意圖。
[0011]附圖中各部件的標記如下:1、氧化鋯層，2、中間基層。

【具體實施方式】
[0012]下面將對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發明的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬於本發明保護的範圍。
[0013]請參閱圖1，本發明實施例包括:
一種氧化鋯真空鍍膜，包括中間基層2和兩層氧化鋯層1，所述兩層氧化鋯層I分別位於所述中間基層2的上下兩側，所述中間基層2為氧化矽或氧化鈣，所述中間基層2上層的所述氧化鋯層I的厚度大於所述中間基層2下層的所述氧化鋯層I的厚度。
[0014]氧化鋯使鍍膜材料具有耐磨耐腐蝕的性能，透光性好。
[0015]優選地，所述中間基層2上層的所述氧化鋯層I的厚度為0.03-0.08mm，所述中間基層2下層的所述氧化錯層I的厚度為0.01-0.03_。
[0016]優選地，所述中間基層2的厚度為0.03-0.06mm。
[0017]以上所述僅為本發明的實施例，並非因此限制本發明的專利範圍，凡是利用本發明說明書內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關的【技術領域】，均同理包括在本發明的專利保護範圍內。
【權利要求】
1.一種氧化鋯真空鍍膜，其特徵在於，包括中間基層和兩層氧化鋯層，所述兩層氧化鋯層分別位於所述中間基層的上下兩側，所述中間基層上層的所述氧化鋯層的厚度大於所述中間基層下層的所述氧化鋯層的厚度。
2.根據權利要求1所述的氧化鋯真空鍍膜，其特徵在於，所述中間基層為氧化矽或氧化鈣。
3.根據權利要求1所述的氧化鋯真空鍍膜，其特徵在於，所述中間基層上層的所述氧化鋯層的厚度為0.03-0.08_。
4.根據權利要求1所述的氧化鋯真空鍍膜，其特徵在於，所述中間基層下層的所述氧化鋯層的厚度為0.01-0.03_。
5.根據權利要求1所述的氧化鋯真空鍍膜，其特徵在於，所述中間基層的厚度為.0.03-0.06mm。
【文檔編號】B32B9/04GK104129117SQ201410395562
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年8月13日 優先權日:2014年8月13日
【發明者】陳學兵 申請人:蘇州普京真空技術有限公司