一種憎汙面釉及用其製作陶瓷產品的方法
2023-07-28 22:02:11 1
一種憎汙面釉及用其製作陶瓷產品的方法
【專利摘要】本發明公開了一種憎汙面釉及用其製作陶瓷產品的方法，該憎汙面釉包括如下重量份的組分：SiO2?55-65重量份、Al2O3?6-16重量份、CaO?6-16重量份、MgO?1-5重量份、Na2O?1-5重量份、K2O?1-5重量份、ZnO?2-10重量份和B2O3?1-6重量份。本發明的憎汙面釉不含鉛，釉面玻化程度高，表面光滑，平整度和緻密度好，不易吸附微小顆粒、藏汙垢及細菌，抗汙能力強，清洗方便。
【專利說明】一種憎汙面釉及用其製作陶瓷產品的方法
【技術領域】
[0001]本發明屬於陶瓷產品【技術領域】，具體涉及一種憎汙面釉及用其製作陶瓷產品的方法。
【背景技術】 [0002]現有衛生潔具的釉料主要使用含有矽酸鋯等乳濁劑及色劑，因此這種釉的玻璃相中含有乳濁相和結晶相的粒子，在電子顯微鏡下，這種這釉面是凹凸不平的；尤其是這種釉的高溫黏度大，即高溫流動性差，造成釉面缺陷多顯得粗糙，使得這種衛生沽具表面容易吸附微小顆粒，便於細菌藏匿，致使防汙能力差。
[0003]為了解決以上問題，陶瓷工作者做了許多工作:一是在已燒成的製品上，通過後期熱處理，在釉面上形成一層有機保護膜，但此種方法不僅增加工藝難度和成本，而且所施加的有機保護膜穩定性較差且容易剝落；二是降低乳濁釉高溫黏性，提高釉的高溫流動性。使釉面玻化程度更高，提高釉面平整度。但此方法存在乳濁釉燒成範圍窄，在窯爐溫度波動時容易造成大批量燒成不良。
【發明內容】
[0004]本發明的目的在於克服現有技術缺陷，提供一種憎汙面釉。
[0005]本發明的另一目的在於提供一種用上述憎汙面釉製作陶瓷產品的方法。本發明的技術方案如下:
[0006]一種憎汙面釉，包括如下重量份的組分:
[0007]
SiO255-65重量份
Al2O^6-16.爪:設份
CaO6-16重量份
MgO1-5重量份
Na2O1-5重量份
K2O1-5重量份
ZnO2-10重量份
B2O31-6重量份。
[0008]在本發明的一個優選實施方案中，包括如下重量百分比的組分:
[0009]SiO255-65%
AI2O36-16%
CaO6-16%
MgO1-5%
Na2O1-5%
K O1-5%
ZnO2-10%
B2O31-6%。
[0010]進一步優選的，包括如下重量百分比的組分:
[0011]
SiO260%
Al2O312%
CaO9%
[0012]
MgO2.5%
Na2O3.5%
K2O
3%
ZnO6%
B2O34% ο
[0013]進一步優選的，包括如下重量百分比的原料組分:
[0014]石英6.2%
長石8.0%
方解石1.6%
白雲石2.4%
氧化鋅1.8%
局砸格塊 80%。
[0015]進一步優選的，上述高硼熔塊中包括如下重量百分比的組分:
[0016]
石英 15%-25%
硼砂 8%-20%
長石 30-40%
氧化鋅 2%-7%
6%-12%
純鹼 2%-8%。
[0017]該高硼熔塊的製作方法如下:將石英、長石和石灰石烘乾後再配入硼砂、氧化鋅和純鹼，充分混合後在池窯中熔化，熔化溫度在1240~1280°C，經水淬後烘乾，粉碎待用。
[0018]本發明的另一技術方案如下:
[0019]一種用上述憎汙面釉的製作陶瓷產品的方法，包括如下步驟:
[0020](I)稱取各組分均勻混合併球磨，得面釉漿料；
[0021](2)在預製好的陶瓷坯 體的表面塗上經球磨的底釉漿料，晾乾後，再塗上上述面釉漿料；
[0022](3)將上述塗覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體乾燥後，經1150_1230°C—次燒成，即得成品。
[0023]在本發明的一個優選實施方案中，所述步驟(1)具體為:稱取各組分均勻混合併球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料。
[0024]在本發明的一個優選實施方案中，所述步驟(2)具體為:在預製好的陶瓷坯體的表面塗上經球磨至過325目篩的篩餘為0.3-0.5%的厚度為0.4-0.9mm的底釉漿料，晾乾後，再塗上上述面釉漿料，厚度為0.15-0.25mm。
[0025]在本發明的一個優選實施方案中，所述步驟(3)具體為:將上述塗覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體乾燥至水分小於1.0%後，經1150-1230°c—次燒成，即得成品。
[0026]本發明的有益效果是:[0027]1、本發明的憎汙面釉不含鉛，釉面玻化程度高，表面光滑，平整度和緻密度好，不易吸附微小顆粒、藏汙垢及細菌，抗汙能力強，清洗方便；
[0028]2、用本發明的憎汙面釉製作陶瓷產品的工藝過程簡單，成品率高，降低了生產能耗和成本。
【具體實施方式】
[0029]以下通過【具體實施方式】對本發明的技術方案進行進一步的說明和描述。
[0030]下述實施例中的高硼熔塊中包括如下重量百分比的組分:
[0031]
石英丨5%-25%
硼砂 8%-15%
?I' 30-40%
7H 化鋅 2%-5%
石灰石 6%-12%
純鹼 2%- 8%。
[0032]該高硼熔塊的製作方法如下:將石英、長石和石灰石烘乾後再配入硼砂、氧化鋅和純鹼，充分混合後在池窯中熔化，熔化溫度在1240~1280°C，經水淬後烘乾，粉碎待用。
[0033]實施例1
[0034]按如下重量百分比稱取憎汙面釉的各原料組分:石英6.4%、長石9.2%、氧化鋁2.1%、方解石1.9%、白雲石3.4%、氧化鋅2.0%和高硼熔塊75%，配方號001，經球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料。
[0035]實施例2
[0036]按如下重量百分比稱取憎汙面釉的各原料組分:石英6.2%、長石8.0%、方解石1.6%、白雲石2.4%、氧化鋅1.8%和高硼熔塊80%，配方號002，經球磨至過325目篩的篩餘為
0.05-0.1%，得面釉漿料。
[0037]實施例3
[0038]按如下重量百分比稱取憎汙面釉的各原料組分:石英5.2%、長石6.8%、方解石
1.1%、白雲石0.9%、氧化鋅1.0%和高硼熔塊85%，配方號003，經球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料。
[0039]實施例4
[0040]按如下重量百分比稱取憎汙面釉的各原料組分:石英3.5%、長石4.2%、方解石0.7%、白雲石0.9%、氧化鋅0.7%和高硼熔塊90%，配方號004，經球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料。
[0041]實施例5
[0042]將上述實施例1至4的面釉漿料分別通過下述方法製作衛生潔具:[0043](I)稱取各組分均勻混合併球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料；
[0044](2)在預製好的陶瓷坯體的表面塗上經球磨至過325目篩的篩餘為0.3-0.5%的厚度為0.4-0.9mm的底釉漿料，晾乾後，再塗上上述面釉漿料，厚度為0.15-0.25mm,以保證釉面細膩均勻；
[0045]該底油漿料的配方如下:
[0046]
【權利要求】
1.一種憎汙面釉，其特徵在於:包括如下重量份的組分:SiO255-65重量份 Al2O36-16重量份 CaO6-16重量份 MgO1-5重量份
Na2O1-5重量份 K2O1-5重量份 ZnO2-10重量份 B2O31-6重量份。
2.如權利要求1所述的一種憎汙面釉，其特徵在於:包括如下重量百分比的組分: SiO255-65% Al2O36-16% CaO6-16%
MgO1-5%
Na2O1-5%`
K2O1-5%
ZnO2-10% B2O31-6%。
3.如權利要求2所述的一種憎汙面釉，其特徵在於:包括如下重量百分比的組分: SiO260% Al2O512%CaO9%MgO2.5%Na O3.5%K2O3%ZnO6υυB2O14%。
4.如權利要求3所述的一種憎汙面釉，其特徵在於:包括如下重量百分比的原料組分:石英6.2%長石8.0%方解石1.6%白雲石2.4%7K化鋅1.8%高硼熔塊 80%。`
5.如權利要求4所述的一種憎汙面釉，其特徵在於:所述高硼熔塊中包括如下重量百分比的組分:石英 15%-25%硼砂 8%-20%LCi^fi 30-40%氧化鋅 2%-7%Hf 6%-12%純鹼 2%-8%。
6.一種用權利要求1至5中任一權利要求所述憎汙面釉的製作陶瓷產品的方法，其特徵在於:包括如下步驟: (1)稱取各組分均勻混合併球磨，得面釉漿料； (2)在預製好的陶瓷坯體的表面塗上經球磨的底釉漿料，晾乾後，再塗上上述面釉漿料；(3)將上述塗覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體乾燥後，經1150-1230°C—次燒成，即得成品。
7.如權利要求6所述的製作陶瓷產品的方法，其特徵在於:所述步驟(1)具體為:稱取各組分均勻混合併球磨至過325目篩的篩餘為0.05-0.1%，得面釉漿料。
8.如權利要求7所述的製作陶瓷產品的方法，其特徵在於:所述步驟(2)具體為:在預製好的陶瓷坯體的表面塗上經球磨至過325目篩的篩餘為0.3-0.5%的厚度為0.4-0.9mm的底釉漿料，晾乾後，再塗上上述面釉漿料，厚度為0.15-0.25mm。
9.如權利要求8所述的製作陶瓷產品的方法，其特徵在於:所述步驟(3)具體為:將上述塗覆有面釉漿料和底釉漿料的陶瓷坯體乾燥至水分小於1.0%後，經1150-1230°C—次燒成，即得成品。
【文檔編號】C04B41/86GK103771904SQ201310684030
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2013年12月13日 優先權日:2013年12月13日
【發明者】林孝發, 林孝山, 劉中起, 高建立 申請人:九牧廚衛股份有限公司