料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片檢選機的製作方法

2023-07-13 17:14:31

專利名稱：料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片檢選機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及的是一種儲存機構以及晶片檢選機，尤其是指同時具有儲存 滿料料盤以及儲存未滿料盤的 一種料盤儲存機構，以及使用所述的機構的晶片檢選機。
背景技術：
請參閱圖l所示，所述的圖為現有的料盤供給裝置示意圖。所述的料盤供給 裝置1包括有一津牛盤供應部10(Tray loader)、 一料盤存放部U(Tray storage)、 一 料盤傳送部12(Tray feeder)以及一晶片取放部13。所述的料盤供給裝置1的動作 流程如下，所述的料盤傳送部12由所述的料盤供應部10中取出空的料盤9，然 後移動至適當的位置。隨後，所述的晶片取放部13會進行晶片檢選，並將晶片放 置在所述的料盤14中。在正常流程下，檢選完畢的後，滿載的料盤14會被所述 的料盤傳送部傳12送至所述的料盤存放部11儲存，以待進行下一段製程。接著， 所述的料盤傳送部12由所述的料盤供應部10重新加載另一空料盤進行下一回檢 選流程。然而，在晶片檢選過程中，因分Bin或Wafer還換等原因造成未滿料的料盤 必須載出至所述的料盤存放部11時，因所述的料盤存放部11並無料盤暫存區的 設計，此一未滿料的料盤將無法重新加載補滿。由於所述的未滿的料盤堆棧在所 述的料盤存放部11中，因此需要由操作人員將其取出，然後以人工方式將其補滿。 由於前述的動作容易造成後續人為作業補料錯誤以及料盤管理的困難。綜合上述，因此亟需一種料盤儲存機構，來解決現有技術所產生的問題。發明內容本實用新型的主要目的是提供一種料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片 檢選機，其是利用至少兩層配重持駐區分滿料區與暫存區的階梯狀料盤儲存機構， 可確保滿料盤出料功能並提升空間配置利用效率，可達到有效的料盤管理並避免人為作業補料的錯誤的目的。本實用新型的主要目的是提供一種料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片 檢選機，其是利用至少一個以階梯狀排列的料談儲存機構，使得晶片檢選機的空 間利用還精簡，可達到提升空間配置利用效率的目的。為了達到上述的目的，本實用新型提供一種料盤儲存機構，包括 一承栽座 體；以及至少一個料盤儲存部，其是設置在所述的承載座體上，以提供承載料盤,為了達到上述的目的，本實用新型還提供一種料盤儲存機構，包括 一承載 座體； 一第一料盤儲存部，其是設置在所述的承載座體上，所述的第一料盤儲存 部可存放至少一個滿栽料盤；以及一第二料盤儲存部，其是設置在所述的承栽座 體上且位於所述的第一料盤儲存部的下方，所述的第二料盤儲存部可以存放一未 滿料盤。較佳的是，所述的承載座體是具有四個承載支撐架體，所述的四個支撐架體 之間具有一容置空間，以提供容置所述的至少一個滿載料盤與所述的未滿料盤。 所述的第二料盤儲存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐構件以提供支撐 所述的未滿料盤。其中所述的支撐構件是可在所述的支撐架體上進行轉動。所述 的第二料盤儲存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐部以提供支撐所述的未滿料盤，所述的支撐部具有 一支撐件，其是可進行轉動，所述的支撐件上具 有一凹槽； 一彈片，其是設置在所述的支撐件下方，以局限所述的支撐件的轉動 角度；以及一定位構件，其是設置在所述的支撐件的一側且可進行轉動，所述的 定位構件還具有 一 凸塊以在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位所述的支撐件 的位置。此外，在另一實施例中，所述的支撐部具有 一支撐件，其是可提供承 載料盤；以及一汽缸體，其是與所述的支撐件相連接，以提供所述的支撐件進行 線性位移運動。為了達到上述的目的，本實用新型還提供一種晶片檢選機，其是包括至少一 導軌； 一移栽座，其是設置在所述的導軌上，所述的移載座可在所述的導軌上進 行線性位移運動；至少一移載臂，其是設置在所述的移載座上，所述的移載臂可 以進行至少一軸的位移運動；以及至少一個料盤儲存機構，其是排列在所述的至 少一移載臂的一側，所述的料盤儲存機構還包括有 一承栽座體； 一第一料盤儲 存部，其是設置在所述的承載座體上，所述的第一料盤儲存部可存放至少一個滿 載料盤；以及一第二料盤儲存部，其是設置在所述的承栽座體上且位於所述的第一料盤儲存部的下方，所述的第二料盤儲存部可以存放一未滿料盤。所述的承載 座體是具有四個承栽支撐架體，所述的四個支撐架體之間具有一容置空間，以提 供容置所述的至少一個滿栽料盤與所述的未滿料盤。其中所述的第二料盤儲存部 在所述的四個支撐架體上分別具有 一 支撐郜以提供支撐所述的未滿料盤，所述的支撐部具有 一支撐件，其是可進行轉動，所述的支撐件上具有一凹槽； 一彈片， 其是設置在所述的支撐件下方，以局限所述的支撐件的轉動角度；以及一定位構 件，其是設置在所述的支撐件的一側且可進行轉動，所述的定位構件還具有一凸 塊以在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位所述的支撐件的位置。為了達到上述的目的，本實用新型還提供一種晶片檢選機，包括至少一導 軌； 一移載座，其是設置在所述的導軌上，所述的移載座可在所述的導軌上進行 線性位移運動；至少一移栽臂，其是設置在所述的移載座上，所述的移栽臂可以 進行至少一軸的位移運動；以及至少一個料盤儲存機構，其是呈階梯狀排列在所 述的至少一移載臂的一側，所述的料盤儲存機構還包括有 一承栽座體； 一第一 料盤儲存部，其是設置在所述的承栽座體上，所述的第一料盤儲存部可存放至少 一個滿載料盤；以及一第二料盤儲存部，其是設置在所述的承載座體上且位於所 述的第 一料盤儲存部的下方，所述的第二料盤儲存部可以存放一未滿料盤。與現有技術比較本實用新型的有益效果在於，本實用新型的料盤儲存機構以 及使用所述的機構的晶片檢選機具有確保滿料盤出料功能並提升空間配置利用效 率，可達到有效的料盤管理並避免人為作業補料的錯誤風險以及空間配置效率精 簡的優點。


圖1為現有的料盤供給裝置示意圖；圖2為本實用新型的料盤儲存機構示意圖；圖3為本實用新型的料盤儲存機構的較佳實施例側視示意圖；圖4為本實用新型的料盤儲存機構的另一較佳實施例立體示意圖；圖5為本實用新型的料盤儲存機構的又一較佳實施例側視示意圖；圖6A至圖6B為本實用新型的料盤儲存機構的支撐構件動作示意圖；圖7為本實用新型的晶片檢選機的較佳實施例示意圖；圖8 A為本實用新型的晶片檢選機的另 一 較佳實施例示意圖；圖8B為本實用新型的晶片檢選機的料盤儲存機構示意圖；圖9A至圖9B為圖4的料盤儲存機構的支撐構件動作示意圖。附圖標記說明l-料盤供給裝置；10-料盤供應部；ll-料盤存放部；12-料盤 傳送部；13-晶片取放部；14-料盤；2-料盤儲存機構；20-承栽座體；21-料盤儲 存部；3-料盤儲存機構；30-承栽座體；301-支撐架體；302-凹槽；31-第一料盤儲 存部；310-支撐構件；32-第二料盤儲存部； 320-支撐構件；33、34-料盤檢知 傳感器；4-晶片檢選機；40、 41、 42、 43-料盤儲存機構；411-第一料盤儲存部； 412-第二料盤儲存部；410-支撐構件；44-導軌；45-移載座；46、 47-移載臂；50-第一料盤儲存部；51-第二料盤儲存部；510-支撐部；5100-支撐件；5101-凹槽； 5102-定位件；5103-凸塊；5104-彈片；52-承栽座體；520-支撐架體；60-第一料 盤儲存部；61-第二料盤儲存部；610-支撐部；6100-支撐件；6101-氣壓缸；62-承 栽座體；7-晶片檢選機；70、 41、 42、 43-料盤儲存機構；74-導軌；75-移載座； 76、 77-移載臂；90-滿載料盤；91-未滿料盤；92-料盤；93-料盤工作栽臺。
具體實施方式

以下結合附圖，對本新型上述的和另外的技術特徵和優點作更詳細的說明。 請參閱圖2所示，所述的圖為本實用新型的料盤儲存機構示意圖。所述的料 盤儲存機構2包括有一承栽座體20。所述的承載座體內具有至少一個料盤儲存部 21，其是設置在所述的承載座體20內，以提供承栽料盤。在本實施例中所述的承 載座體20具有兩個料盤存放部21,並將其分為滿栽料盤存放區以及未滿料盤的 暫存區。請參閱圖3所示，所述的圖為本實用新型的料盤儲存機構的較佳實施例側視 示意圖。所述的料盤儲存機構是包括有一第一料盤儲存部50以及一第二料盤儲存 部51。所述的第一料盤儲存部50,其是設置在一承栽座體52上，所述的第一料 盤儲存部50可存放至少一個滿載料盤90。所述的第二料盤儲存部51，其是設置 在所述的承栽座體52上且位於所述的第一料盤儲存部50的下方，所述的第二料 盤儲存部51可以存放一未滿料盤91。其中所述的第二料盤儲存部51在所述的四個支撐架體520(圖中僅示兩個)上 分別具有一支撐部510以提供支撐未滿料盤91，所述的支撐部510具有一支撐件 5100、 一彈片5104以及一定位構件5102。所述的支撐件5100設置在支撐架體上 且具有一凹槽5101，在本實施例中，所述的支撐件5100是通過重力作動來進行 轉動。所述的彈片5104,其是設置在所述的支撐件5100下方，以局限所述的支 撐件5100的轉動角度。所述的定位構件5102,其是設置在所述的支撐件5100的 一側且可進行轉動，所述的定位構件5102還具有一凸塊5103以在特定位置在所述的凹槽5101相扣合，以定位所述的支撐件5100的位置，使所述的支撐件510 呈水平狀態以支撐所述的未滿料盤91 。請參閱圖4所示，所述的圖為本實用新型的料盤儲存機構的另一較佳實施例 立體示意圖。所述的料盤儲存機構3，包括 一承載座體30; —第一料盤儲存部 31，其是設置在所述的承載座體30上，所述的第一料盤儲存部31可存放至少一 個滿載料盤90;以及一第二料盤儲存部32，其是設置在所述的承載座體3上且 位於所述的第一料盤儲存部31的下方，所述的第二料盤儲存部32可以存放一未 滿料盤91。在所述的承載座體30上是具有四個承載支撐架體301,分別設置在料盤的四 個角落，所述的四個支撐架體301之間具有一容置空間，以提供容置所述的至少 一個滿栽料盤90與所述的未滿料盤91。所述的支撐架體301與料盤角落之間具 有一凹槽302,以提供容置料盤的角落並且拘束料盤在適當的位置上。其中所述 的第一料盤儲存部31在所述的四個支撐架體301上分別具有一支撐構件310以提 供支撐所述的至少一個滿載料盤卯。所述的支撐構件310是可在所述的支撐架體 301上進行轉動。所述的第二料盤儲存部32在所述的四個支撐架體301上分別具 有一支撐構件320以提供支撐所述的未滿料盤91。其中所述的支撐構件320是可 在所述的支撐架體301上進行轉動。所述的承載座體30的一側設置有兩料盤檢知 傳感器33、 34，以檢測所述的第一料盤儲存部以及所述的第二料盤儲存部內是否 有料盤的存在。請參閱圖5所示，所述的圖為本實用新型的料盤儲存機構的又一較佳實施例 側視示意圖。在本實施例中，所述的料盤儲存機構是包括有一第一料盤儲存部60 以及一第二料盤儲存部61。所述的第一料盤儲存部60與第二料盤儲存部61是設 置在承載座體62上，其基本上與前述的實施例相同，差別的是在於所述的第二料 盤儲存部61以一支撐部610以提供支撐未滿料盤91,所述的支撐部610具有一 支撐件6100與一氣壓缸6101。所述的支撐件610,在本實施例是通過氣壓缸6101 的作動而控制所述的支撐件以線性位移運動產生開合的動作，使得料盤承載臺(圖 中未示)可以取出未滿料盤91。請參閱圖6A與圖6B所示，所述的圖為本實用新型的料盤儲存機構的支撐構 件動作示意圖。其中圖6A為料盤放置過程示意圖，而圖6B為料盤取出過程示意 圖。在圖6A(a)中，起初料盤工作載臺93將料盤91移至所述的料盤儲存機構下方如圖6A(b)所示，然後頂升所述的料盤91通過位於彈片5104上的支撐件5100， 使所述的支撐件5100往上旋轉。然後如圖6A(c)所示，使所述的料盤91至所述的 支撐件5100的上方。的後如圖6A(d)所示，料盤工作載臺93下降，使所述的料 盤91的重力作用在所述的支撐件5100上，進而帶動所述的支撐件5100轉動，使 所述的支撐件5100上的凹槽與所述的定位構件5102上的凸塊結合，維持所述的 支撐件510 0在水平狀態以支撐所述的料盤。如圖6B(a)所示，起初料盤工作載臺93將料盤頂升。然後如圖6B(b)所示， 當料盤91接觸到上方的定位構件5102時，會推動定位構件5102轉動一個角度使 定位構件5102的凸塊與支撐件5100的凹槽分離。此時，下方支撐件5100會因重 力關係向下旋轉，停止在彈片5104處。然後如圖6B(c)所示，最後料盤工作載臺 93就將料盤91往下帶出，則可以取出料盤供撿晶機將未滿的料盤重新置放。若 需將晶片分類，只需再增加儲存格數量，料盤工作載臺頂升行程不變。因此本專 利為設計一組機構，位於暫存區內方便料盤放置與取出，改善傳統機構的不便與 有效節省使用的空間，此供應機構可達滿盤出料的需求，還可廣泛應用在1C相關 製程的設備中。請參閱圖7所示，所述的圖為本實用新型的晶片檢選機的較佳實施例示意圖。 所述的晶片檢選才幾7包括有至少一導軌74、 一移載座75、兩移載臂76、 77以及 至少一個料盤儲存機構70~73。所述的移載座75，其是設置在所述的導軌74上， 所述的移載座75可在所述的導軌74上進行線性位移運動。所述的移載臂76、 77， 其是設置在所述的移載座75上，所述的移載臂76、 77可以進行至少一軸的位移 運動。在本實施例中，所述的兩移載臂76、 77可進行二軸的位移運動，但不在此 限。所述的料盤儲存機構70~73，為圖3的機構。其取放料盤的方式如圖6A以 及圖6B所示，在此不做贅述。請參閱圖8 A所示，所述的圖為本實用新型的晶片檢選機的另 一較佳實施例 示意圖。利用前述的料盤存放機構，與相關的構件組成一晶片選取機。所述的芯 片檢選機4包括有至少一導軌44、 一移載座45、兩移載臂46、 47以及至少一個 料盤儲存機構40 43。所述的移載座45，其是設置在所述的導軌44上，所述的 移栽座45可在所述的導軌44上進行線性位移運動。所述的移載臂46、 47，其是 設置在所述的移載座45上，所述的移載臂46、 47可以進行至少一軸的位移運動, 在本實施例中.所述的兩移載臂46、 47可進行二軸的位移運動，但不在此限，所述的至少一個料盤儲存機構40~43,其是呈階梯狀排列在所述的移載臂46、 47的一側，每一個料盤儲存機構40- 43的結構是與圖4的結構相同，在此 不作贅述。在本實施例中，使用四個料盤儲存機構40~43，分別用在儲存空的料 盤、A級晶片料盤、B級晶片料盤42以及C級晶片料盤43的承載。如圖8 B所示，以儲存A級料盤的料盤儲存機構41來作說明，由於所述的料 盤儲存機構41具有兩層儲存區域411、 412的料盤儲存機構，使得所述的移載臂 46、 47可以將滿載料盤卯上推至於所述的第一料盤儲存部4U內，而未滿料的 料盤91則存在所述的第二料盤儲存部412內以作暫存，當有需要時所述的第二料 盤儲存部412內暫存的料盤可以重新被所述的移載臂46或47取出，再重新加載 進行揀晶動作以達到滿載出料的需求。此外本實施例中的四個料盤儲存機構40 43採階梯狀設計，可讓移載臂46或47取出暫存區的未滿料盤時所需的運動空間 還為精簡，以提升機臺的空間配置利用效率。接下來說明如何將料盤放置在所述的料盤儲存機構中，請參閱圖9A以及圖9 B所示，當所述的移載臂46將料盤92移動至所述的料盤儲存機構的下方時，所 述的移載臂46會上升而與所述的支撐構件410 (與圖4的310、 320相同)相接 觸時，會將支撐構件410頂開。如圖8B所示，當所述的移載臂46持續上升而超 越了所述的支撐構件410時，所述的支撐構件410會恢復至原來位置，此時所述 的移載臂46再下降，即可將所述的料盤92放置在所述的支撐構件410上 綜合上述，本實用新型的料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片檢選機具 有確保滿料盤出料功能並提升空間配置利用效率，可達到有效的料盤管理並避免 人為作業補料的錯誤風險以及空間配置效率精簡的優點。因此可以滿足業界的需 求，進而提高所述的產業的竟爭力，誠已符合實用新型專利法所規定申請實用新 型所需具備的要件，故依法呈提實用新型專利的申請。以上說明對本新型而言只是說明性的，而非限制性的，本領域普通技術人員 理解，在不脫離以下所附權利要求所限定的精神和範圍的情況下，可做出許多修 改，變化，或等效，但都將落入本實用新型的保護範圍內。
權利要求1. 一種料盤儲存機構，其特徵在於其包括一承載座體；以及至少一個料盤儲存部，其是設置在所述的承載座體上，以提供承載料盤。
2、 根據權利要求1所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的承載座體具有 四個承載支撐架體，所述的四個支撐架體之間具有一容置空間，以提供容置所述 的料盤。
3、 根據權利要求1所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的料盤儲存部還 具有至少一個支撐構件以提供支撐所述的料盤，所述的支撐構件是在所述的支撐 架體上進行轉動。
4、 根據權利要求1所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的料盤儲存部具 有至少一個支撐部以提供支撐所述的料盤，所述的支撐部具有一支撐件，其提供承載料盤以及進行轉動，所述的支撐件上具有一凹槽； 一彈片，其設置在所述的支撐件下方，以局限所述的支撐件的轉動角度；以及一定位構件，其設置在所述的支撐件的一側且進行轉動，所述的定位構件還 具有 一 凸塊在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位所述的支撐件的位置。
5、 根據權利要求1所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的料盤儲存部具 有至少一個支撐部以提供支撐所述的料盤，所述的支撐部具有一支撐件，其提供承載料盤；以及一汽缸體，其與所述的支撐件相連接，以提供所述的支撐件進行線性位移運動。
6、 一種料盤儲存機構，其特徵在於其包括 一承載座體；一第一料盤儲存部，其是設置在所述的承栽座體上，所述的第一料盤儲存部 可存放至少一個滿栽料盤；以及一第二料盤儲存部，其是設置在所述的承載座體上且位於所述的第一料盤儲 存部的下方，所述的第二料盤儲存部存放一未滿料盤。
7、 根據權利要求6所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的承載座體具有 四個承載支撐架體，所述的四個支撐架體之間具有一容置空間，以提供容置所述的至少 一 個滿載料盤與所述的未滿料盤。
8、 根據權利要求6所迷的料盤儲存機構，其特徵在於所迷的第一料盤儲存 部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐構件，提供支撐所述的至少一個滿載 料盤，所迷的支撐構件是在所迷的支撐架體上進行轉動。
9、 根據權利要求7所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的第二料盤儲存 部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐構件，提供支撐所述的未滿料盤，所 述的支撐構件在所述的支撐架體上進行轉動。
10、 根據權利要求6所述的料盤儲存機構，其特徵在於所迷的第一料盤儲 存部的一側還具有一料盤檢知傳感器，以感測所述的第一料盤儲存部上是否有滿 載料盤，所述的第二料盤儲存部的一側還具有一料盤檢知傳感器，以感測所述的 第二料盤儲存部上是否有所述的未滿料盤。
11、 根據權利要求7所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的第二料盤儲 存部在所述的四個支撐架體上分別具有 一 支撐部以提供支撐所述的未滿料盤，所 述的支撐部具有一支撐件，其是進行轉動，所述的支撐件上具有一凹槽；一彈片，其設置在所述的支撐件下方，以局限所述的支撐件的轉動角度；以及一定位構件，其設置在所述的支撐件的一側且進行轉動，所述的定位構件還 具有 一 凸塊以在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位所述的支撐件的位置。
12、 根據權利要求7所述的料盤儲存機構，其特徵在於所述的第二料盤儲 存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐部以提供支撐所述的未滿料盤，所 述的支撐部具有一支撐件，其是提供承載料盤；以及一汽缸體，其與所述的支撐件相連接，以提供所述的支撐件進行線性位移運動。
13、 一種晶片檢選機，其特徵在於其包括 至少一導軌；一移載座，其是設置在所述的導軌上，所述的移載座在所述的導軌上進行線 性位移運動；至少一移載臂，其是設置在所述的移載座上，所述的移載臂進行至少一軸的^f立移運動；以及至少一個料盤儲存機構，其排列在所述的至少一移載臂的一側，所述的料盤 儲存機構還包括有 一承栽座體；一第一料盤儲存部，其設置在所述的承載座體上，所述的第一料盤儲存部存 放至少一個滿栽料盤；以及一第二料盤儲存部，其設置在所述的承載座體上且位於所述的第一料盤儲存 部的下方，所述的第二料盤儲存部存放一未滿料盤。
14、 根據權利要求13項所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的承栽座體具 有四個承載支撐架體，所述的四個支撐架體之間具有一容置空間，以提供容置所 述的至少一個滿載料盤與所述的未滿料盤。
15、 根據權利要求13項所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的第二料盤儲 存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐部以提供支撐所述的未滿料盤，所述的支撐部具有一支撐件，其進行轉動，所述的支撐件上具有一凹槽；一彈片，其設置在所述的支撐件下方，以局限所述的支撐件的轉動角度；以及一定位構件，其設置在所述的支撐件的一側且進行轉動，所述的定位構件還 具有一凸塊以在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位所述的支撐件的位置。
16、 根據權利要求14項所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的第二料盤儲 存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐部，以提供支撐所述的未滿料盤， 所述的支撐部具有一支撐件，其提供承栽料盤；以及一汽缸體，其與所述的支撐件相連接，以提供所述的支撐件進行線性位移運動。
17、 根據權利要求14所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的至少一個料盤 儲存機構是呈現階梯狀排列。
18、 根據權利要求17所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的第一料盤儲存 部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐構件以提供支撐所述的至少一個滿栽 料盤，所述的支撐構件在所述的支撐架體上進行轉動。19、根據權利要求17所述的晶片檢選機，其特徵在於所述的第二料盤儲存部在所述的四個支撐架體上分別具有一支撐構件，以提供支撐所述的未滿料盤， 所述的支撐構件是可在所述的支撐架體上進行轉動。
專利摘要本實用新型為一料盤儲存機構以及使用所述的機構的晶片檢選機，其中所述的料盤儲存機構包括一承載座體以及至少一個料盤儲存部，料盤儲存部設置在承載座體上；實施例一，料盤儲存機構是利用至少一個支撐部來支撐料盤，支撐部具有一支撐件、一彈片與一定位構件；支撐件可進行轉動且具有一凹槽；彈片設置在支撐件下方；定位構件設置在所述的支撐件的一側且可進行轉動，並以一凸塊以在特定位置在所述的凹槽相扣合，以定位支撐件；實施例二中，所述的至少一個呈階梯狀排列的料盤儲存機構，來進行晶片檢選與存放。從而確保滿料盤出料與提升空間利用效率，可達到有效的料盤管理並避免人為作業補料的錯誤風險。
文檔編號H01L21/00GK201087900SQ20072014827
公開日2008年7月16日 申請日期2007年5月15日 優先權日2007年5月15日
發明者廖述茂, 洪周男, 石敦智, 陸蘇龍 申請人:均豪精密工業股份有限公司