製備CIGS吸收層的電鍍生產線的製作方法與工藝

2023-07-13 19:51:06

本發明屬於製作太陽能薄膜電池設備技術領域，尤其涉及一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線。

背景技術：
CIGS（銅銦鎵硒）薄膜太陽能電池具有極佳的光吸收常數，只需1.5微米的超薄吸收層，光電轉換效率穩定，光譜響應範圍寬，能帶可調，抗輻射能力強，無光致衰退，具有光致增益，弱光增益，並且還有重量輕，成本低，易安裝的優點成為太陽能領域研究的重點。其典型結構為：金屬背電極Mo層、CIGS吸收層、緩衝層CdS、窗口層高阻i:ZnO、低阻ZnO:Al、和前部柵電極。CIGS吸收層由Cu，In，Ga，Se四種元素組成，其電池的光電轉換效率與四種元素的摩爾比相關，一般要求Cu/(In+Ga)在0.75～1之間，Ga/(In+Ga)在0.3～0.5之間。CIGS吸收層的製備是CIGS（銅銦鎵硒）薄膜太陽能電池的核心技術。由於CIGS吸收層是多元化合物，多採用真空沉積的方法製備，真空沉積技術如濺射後硒化或者共蒸發，其設備都極其昂貴，過程複雜，難以大規模化生產。國外有報導採用非真空沉積的方法來製備CIGS吸收層，具體地，採用卷對卷電鍍CIGS吸收層，如圖1所示，鍍液槽802內盛裝有裝有電鍍液803，並設置有浸沒於電鍍液803中的陽極800和部分浸沒於所述電鍍液803中的大轉輪801，所述大轉輪801的直徑較大與陽極800上下間隔設置，具有間隙。所述陽極800朝向大轉輪801的面為一凹面805，所述凹面805的弧度與所述大轉輪801的弧度相匹配，所述凹面805與所述陽極800側面形成兩個尖部804，柔性襯底806經過清洗繞在大轉輪801的外周面上並浸沒在電鍍液803中進行電鍍，沉積CIGS吸收層。此方案存在如下缺點：1、陽極800需要加工凹面805，製作工藝複雜，且在電鍍時，陽極凹面兩側的尖部804會優先消耗，時間一長凹面805變淺，無法確保電鍍沉積的CIGS吸收層的均勻性和鍍速穩定性；2、當只需在所述柔性襯底806的一面上沉積CIGS吸收層時，其CIGS元素有可能沉積在襯底806的另一面；3、鍍液槽802中電鍍液803的流動不暢，不能及時有效的排出電鍍時產生的氣泡，容易在電鍍沉積的CIGS吸收層上產生花斑，嚴重影響產品質量。另外，美國專利公開號US2007/0227633A1公開的一種水平電鍍的方式，由於，採用的水平直線電鍍，襯底沒有彎繞，生產線過長，佔用空間大，另外，採用該方式電鍍時，陽極位於襯底下方，同樣具有陰極析出的氣泡排不出去的問題，而將陽極放置於襯底上面，又存在陰極面電鍍液流動不暢的問題，都會對電鍍沉積的CIGS吸收層的表面質量產生影響。

技術實現要素：
本發明的目的在於提供一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線，旨在解決現有技術中的電鍍生產線採用非真空電鍍沉積法製作CIGS吸收層時，其均勻性難以控制的難題。本發明的實施例是這樣實現的，一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線，用於在襯底上沉積銅銦鎵硒元素形成CIGS吸收層，包括送料裝置，用於連續供應所述襯底，位於所述電鍍生產線的首端；至少四個電鍍槽，各電鍍槽分別盛裝有鍍銅液、鍍鎵液、鍍銦液和鍍硒液，用於將銅、鎵、銦、硒元素分別沉積於所述襯底表面；各所述電鍍槽均包括有可盛裝電鍍液的子槽，所述子槽的中間處設有攜帶所述襯底同步移動且傳動路徑呈由多線段首尾相接而成的封閉狀的傳送裝置，所述子槽的側面掛設有浸沒於所述電鍍液中且呈板狀設置、用於沉積CIGS吸收層的陽極，所述陽極分別與所述傳送裝置上沉浸於電鍍液中對稱設置的側面平行相對設置，所述襯底貼附於所述傳送裝置上沉浸於電鍍液內的側面且與所述陽極平行相對設置；清洗槽，用於清洗所述襯底表面；沿輸送所述襯底的方向，設置於任一所述電鍍槽的前後處；收料裝置，用於收集表面形成CIGS吸收層的襯底，位於所述電鍍生產線的末端；傳動裝置，用於夾持所述襯底並帶動所述襯底一同移動，設置於任一所述電鍍槽和所述清洗槽的入口處和出口處；以及控制系統，分別與所述送料裝置、所述清洗槽、所述電鍍槽和所述收料裝置電性連接，並控制所述送料裝置、所述清洗槽、所述電鍍槽和所述收料裝置同步動作。進一步地，所述傳送裝置包括一固定架、安裝於所述固定架上部並抵頂所述襯底的至少一組主輥輪和安裝於所述固定架下部並與所述主輥輪配合轉動的至少一組從輥輪，以及貼設於所述主輥輪和所述從輥輪的外周面上並攜帶所述襯底一同運動的傳輸帶，所述固定架截面呈矩形狀，所述傳送帶呈矩形設置並貼設於所述主輥輪和所述從輥輪的外周面上並攜帶所述襯底一同運動。進一步地，所述主輥輪和所述從輥輪的外周面與所述固定架的外側壁相切。進一步地，所述主輥輪和所述從輥輪的外周面凸出於所述固定架的外側壁。進一步地，所述傳送裝置上還設有用於調節所述傳輸帶張緊度的調整裝置，所述調整裝置與所述主輥輪和所述從輥輪可調節連接。進一步地，所述傳輸帶上還設有可吸附所述襯底使其與所述傳輸帶貼合的吸附部。進一步地，所述子槽內設置有至少一根用於攪拌電鍍液的鍍液噴管，各所述鍍液噴管上設置有均勻分布的噴孔。進一步地，所述噴孔為錐形孔，所述噴孔的內壁沿所述鍍液噴管的管內向管外方向逐漸擴大。進一步地，同一鍍液噴管上設置的噴孔間的距離與所述噴孔的直徑比在20:1至5:1之間。進一步地，同一所述鍍液噴管上設置有兩排噴孔，所述兩排噴孔的噴射方向呈夾角設置。進一步地，所述噴孔的噴射方向朝向所述電鍍子槽的底壁。進一步地，所述鍍液噴管至所述子槽底部的距離與所述電鍍子槽的電鍍液的深度比在1：7至1:20之間。進一步地，所述電鍍子槽內設置有用於平緩電鍍液流速的均流網，所述均流網位於所述傳送裝置和所述鍍液噴管之間。進一步地，所述均流網為平板，所述平板上設置有均勻分布的網孔。進一步地，所述平板的厚度與所述電鍍子槽內的電鍍液的深度比在1：50至1:300之間。進一步地，所述網孔為錐孔，所述網孔的內壁的直徑沿豎直向上方向逐漸增大。進一步地，所述均流網至所述鍍液噴管的距離與所述鍍液噴管至所述電鍍子槽底壁的距離比在2:1至於10:1之間。進一步地，所述均流網的網目在5‐50之間。進一步地，所述電鍍子槽的側壁上設有溢流槽，設置於所述電鍍子槽側壁的外側，所述鍍液回流管的一端連接於所述溢流槽的下部，另一端連接於所述電鍍子槽的下部。進一步地，所述鍍液回流管上連接有用以調節所述電鍍子槽內的電鍍液各成分濃度的電鍍母槽。進一步地，於所述電鍍母槽的出口處，所述鍍液噴管上安裝有用於電鍍母槽內電鍍液泵送至所述電鍍子槽內的循環泵和用於過濾汙垢殘渣的過濾機。進一步地，所述傳動裝置包括相互嚙合的壓輥和託輥，所述襯底穿設於所述壓輥和所述託輥嚙合處，所述壓輥和所述託輥分別抵頂所述襯底的上、下面。進一步地，所述託輥包括中間軸和連接於所述中間軸兩端的圓餅，所述圓餅的中心線和所述中間軸的中心線相重合，所述圓餅的外徑大於所述中間軸的外徑，所述圓餅與所述壓輥嚙合。進一步地，所述清洗槽內設有噴管組和設於所述清洗槽下部用於傳輸所述襯底的轉輪；所述噴管組包括置於所述轉輪上方並位於所述清洗槽中間處由中間向所述清洗槽側壁噴射用以清洗所述襯底背面的第一噴管組和相對於所述第一噴管組設置並位於所述清洗槽側壁處並用以清洗所述襯底正面的第二噴管組；所述第一噴管組和所述第二噴管均包括至少一根豎向並排設置的噴管，任一所述噴管上均安設有均勻分布的清洗噴嘴。與現有技術相比，本發明提供的一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線，通過將襯底貼設於傳送裝置的側面，如此，延長了襯底設置於電鍍子槽中的沉積長度，增加了沉積CIGS吸收層的面積，這樣，縮短了製備CIGS吸收層的電鍍生產線的長度，節約了空間，而且襯底貼設於傳送裝置上，如此，僅對襯底的一面進行沉積，毋須對襯底的另一面做去除處理，簡化了工藝步驟，同時，所述陽極掛設於電鍍子槽側面相對所述襯底設置，所述襯底和所述陽極平面對平面，整個沉積過程中，所述陽極平面的表面損耗一致，確保了所述襯底表面沉積的CIGS吸收層的良好均勻度和穩定的沉積速率。附圖說明圖1是現有技術中於襯底上電鍍沉積CIGS吸收層的結構示意圖；圖2是本發明實施例提供的於襯底上沉積CIGS吸收層的電鍍生產線流程示意圖；圖3是圖2中一次鍍銅槽的組成示意圖；圖4a是圖3中傳送裝置的一結構示意圖；圖4b是圖3中傳送裝置的又一結構示意圖；圖4c是圖3中傳送裝置的另一結構示意圖；圖4d是圖3中傳送裝置的再一結構示意圖；圖5是圖2中一次鍍銅槽內的局部剖視示意圖；圖5a是圖5中一次鍍銅槽內鍍液噴管的截面示意圖；圖6是圖2中一次鍍銅槽入口處的傳動裝置示意圖；圖7是圖2中第一清洗槽的結構示意圖。標記說明：100控制系統525鍍硒槽200送料裝置526鍍硒子槽300傳動裝置527鍍硒母槽301壓輥528鍍硒液302託輥529硒陽極3021圓餅530調整裝置3022中間軸531鍍銅子槽底壁401第一清洗槽532溢流槽402第二清洗槽501B二次鍍銅槽403第三清洗槽502B二次鍍銅子槽404第四清洗槽503B二次鍍銅母槽405第五清洗槽504B二次鍍銅液406第六清洗槽600收料裝置407轉輪701不鏽鋼帶408清洗噴嘴702鍍有銅的不鏽鋼帶409第一噴管組703鍍有Cu/Ga的不鏽鋼帶410第二噴管組704鍍有Cu/Ga/Cu的不鏽鋼帶501一次鍍銅槽705鍍有Cu/Ga/Cu/In的不鏽鋼帶502一次鍍銅子槽706鍍有Cu/Ga/Cu/In/Se的不鏽鋼帶503一次鍍銅母槽800陽極504一次鍍銅液801大轉輪505銅陽極802鍍液槽506傳送裝置803電鍍液506A固定架804尖部507傳輸帶805凹面508從輥輪806柔性襯底509主輥輪X1第一間距510均流網X2第二間距511鍍液噴管X3第三間距512過濾機X4第四間距513循環泵X5第五間距514鍍液回流管L鍍液噴管長度515鍍鎵槽d1噴孔間距離516鍍鎵子槽d2噴孔直徑517鍍鎵母槽d3均流網孔直徑518鍍鎵液d4均流網孔間距519鎵陽極d5均流網厚度520鍍銦槽α噴孔開孔錐度521鍍銦子槽β兩排孔之間的夾角522鍍銦母槽γ均流網孔開孔錐度523鍍銦液h1鍍液噴管與均流網的距離524銦陽極h2鍍液噴管與子槽底部的距離S內截面具體實施方式為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅用以解釋本發明，並不用於限定本發明。本發明是一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線，用於在襯底上沉積銅銦鎵硒元素形成CIGS吸收層。可以理解，所述襯底為利於沉積CIGS吸收層的導電材質製作而成，如鋁箔、鈦箔、鉬箔、黃銅箔、不鏽鋼等。本實施例中，所述襯底為100～600mm寬，50～100nm厚的430不鏽鋼卷帶，經過清洗吹乾，按順序真空濺射100～500nm厚的Cr、100～500nm的Mo、20～150nm的Cu製作而成。即所述襯底表面預先濺射有Cr/Mo/Cu。所述襯底具有上、下兩表面，為便於後續說明，將所述襯底濺射有Cr/Mo/Cu的下表面定義為正面，所述襯底的上表面定義為背面。預先濺射有Cr/Mo/Cu的不鏽鋼帶701通過本發明提供的製備CIGS吸收層的電鍍生產線，將CIGS吸收層沉積於所述不鏽鋼鋼帶的正面。如圖2‐7所示，為本發明提供的較佳實施例。本發明實施例提供的一種製備CIGS吸收層的電鍍生產線呈橫向線性排列，包括送料裝置200、傳動裝置300、至少四個電鍍槽、多個清洗槽、收料裝置600和控制系統100。所述送料裝置200位於所述電鍍生產線的首端，用於連續供應所述不鏽鋼帶701將其送置下一工位。通常，所述送料裝置200輸送的不鏽鋼帶701的移動速度為0.5～2m/s。所述不鏽鋼帶701呈卷狀架設於所述送料裝置200上，隨著所述送料裝置200帶動卷狀的不鏽鋼帶701轉動，使得不鏽鋼帶701沿著與卷狀不鏽鋼帶701的周邊相切的方向，逐步展開呈平板狀。任一所述電鍍槽和所述清洗槽的入口處和出口處均設有所述傳動裝置300，所述傳動裝置300夾持所述不鏽鋼帶701並帶動所述不鏽鋼帶701一同移動，使得所述不鏽鋼帶701蜿蜒穿設於各清洗槽和電鍍槽中，同時可將卷狀的不鏽鋼帶701由所述送料裝置200展開後碾壓平整，從而確保電鍍沉積於不鏽鋼帶701上的平整度。如圖2所示，本實施例中設置有五個電鍍槽，沿所述不鏽鋼帶701移動方向，依次為：一次鍍銅槽501、鍍鎵槽515、二次鍍銅槽501B、鍍銦槽520和鍍硒槽525。其中，一次鍍銅槽501和二次鍍銅槽501B中分別盛裝有一次鍍銅液504和二次鍍銅液504B，鍍鎵槽515內盛裝有鍍鎵液518，鍍銦槽520內盛裝有鍍銦液523，鍍硒槽525內盛裝有鍍硒液528，如此，可分別將銅、鎵、銦、硒元素沉積於所述不鏽鋼帶701的正面，形成Cu/Ga/Cu/In/Se的CIGS吸收層。可以理解地，根據不同的需要可以合理設置各個電鍍槽的種類、個數和順序，從而得到如：Cu/In/Cu/Ga/Se、Cu/In/Cu/Ga/Cu/In/Se、Cu/Ga/Cu/In/Cu/Ga/Se等多種樣式的CIGS吸收層。當然，也可以理解，所述製備CIGS吸收層的電鍍生產線也可豎向線性排列，使得所述不鏽鋼帶701於豎直方向上輸送移動。也可以將所述電鍍生產線豎向與橫向相結合的方式，使得所述不鏽鋼帶701於豎向和橫向來回穿梭纏繞輸送都是可行的。本實施例中，各所述電鍍槽均包括有盛裝電鍍液用於電鍍工作的子槽，所述子槽的中間處設有攜帶所述不鏽鋼帶701同步移動的傳送裝置506，傳動路徑呈由多線段首尾相接而成的封閉狀，所述子槽的側面掛設有浸沒於所述電鍍液中且用於沉積CIGS吸收層的陽極，所述陽極呈板狀設置，所述陽極分別與所述傳送裝置506上沉浸於電鍍液中兩側面平行相對設置，所述不鏽鋼帶701貼附於所述傳送裝置506上沉浸於電鍍液內的側面且與所述陽極相對平行相對設置，並具有一個適當的間距。具體地，如圖2和圖3所示，所述一次鍍銅槽501包括一個一次鍍銅子槽502，所述一次鍍銅子槽502的中間處設有傳送裝置506，所述傳輸裝置外輪廓呈方體狀，具有六個面，其中，傳送裝置506的左右側面和所述一次鍍銅槽501內壁的左右側面相對。所述不鏽鋼帶701貼附於所述傳送裝置506的左右側面和底面，於電鍍子槽中，延長了沉積不鏽鋼帶701的長度，增加了沉積CIGS吸收層的面積，提高了沉積的效率，同時，縮短了製備CIGS吸收層的電鍍生產線的長度，節約了空間。通過所述傳送裝置506的轉動可攜帶所述不鏽鋼帶701同步移動。不鏽鋼帶701背面與傳送裝置506的左右側面和底面相貼，並且兩者同步移動，如此，避免不鏽鋼帶701背面鍍上金屬層。即僅對不鏽鋼帶701的正面進行沉積，毋須對不鏽鋼帶701的背面做去除處理，簡化了工藝步驟，提高了沉積效率，節約了成本。所述一次鍍銅子槽502的左右側面分別掛設有銅陽極505，所述銅陽極505為平板狀，所述銅陽極505浸沒於所述一次鍍銅子槽502內的鍍銅液中，如此，陽極加工簡單，呈長條形，相對待鍍的不鏽鋼帶701稍寬，掛在電鍍子槽的兩側，且更換陽極方便簡單。所述銅陽極505分布於所述傳動裝置300的左右兩側並與所述不鏽鋼帶701相對設置，具有一個間距。通過將所述不鏽鋼帶701相對陽極設置，所述不鏽鋼帶701和所述陽極平面對平面，整個沉積過程中，所述陽極平面的表面損耗一致，確保了所述不鏽鋼帶701表面沉積的CIGS吸收層的良好均勻度和穩定的沉積速率。實際生產中，根據工藝需要調整所述銅陽極505和所述不鏽鋼帶701之間的間距。基於同一設計理念，各個電鍍子槽的構造和工作原理類似，如圖2所示，所述鍍鎵槽515中的子槽為鍍鎵子槽516；其內壁的左右側面掛設的陽極為鎵陽極519；所述二次鍍銅槽501B包括的子槽為二次鍍銅槽502B；其內壁的左右側面掛設的陽極為銅陽極505；所述鍍銦槽520中的子槽為鍍銦子槽521；其內壁的左右側面掛設的陽極為銦陽極524；所述鍍硒槽525中的子槽為鍍硒子槽526；其內壁的左右側面掛設的陽極為硒陽極529。為便於區分，將所述一次鍍銅子槽502內銅陽極505與所述不鏽鋼帶701之間的間距定義為第一間距X1；鍍鎵槽515內的鎵陽極519與所述不鏽鋼帶701之間的間距定義為第二間距X2；二次鍍銅槽502B內銅陽極505與所述不鏽鋼帶701之間的間距定義為第三間距X3；鍍銦子槽521內的銦陽極524與所述不鏽鋼帶701之間的間距定義為第四間距X4；鍍硒子槽526內的硒陽極529與所述不鏽鋼帶701之間的間距定義為第五間距X5；根據各鍍層不同電鍍工藝，合理設置各陽極板與所述不鏽鋼帶701之間的間距，也就是說，所述第一間距X1、第二間距X2、第三間距X3、第四間距X4和第五間距X5的間距數值可以是相同也可以不同，只要滿足相應的電鍍工藝即可，通過調節陽極與所述不鏽鋼帶701間的距離，當間隙較小時，電鍍液高速逆向通過，使陰極上析出的氣泡及時被鍍液帶走，保證了沉積層的表面沒有花斑。為了更好的保持不鏽鋼帶701表面的清潔度並避免電鍍液的交叉汙染，於任一所述電鍍槽的前後處均設置有清洗槽，該處所述電鍍槽的前後處指的是沿著所述不鏽鋼帶701的移動方向而言。本實施例中，具有六個清洗槽，沿輸送所述不鏽鋼帶701的方向，依次為第一清洗槽401、第二清洗槽402、第三清洗槽403、第四清洗槽404、第五清洗槽405和第六清洗槽406，其中第一清洗槽401位於所述上料裝置和所述一次鍍銅子槽502之間，所述第二清洗槽402位於一次鍍銅子槽502與鍍鎵子槽516之間，所述第三清洗槽403位於鍍鎵子槽516與二次鍍銅槽502B之間，所述第四清洗槽404位於所述二次鍍銅槽502B與鍍銦子槽521之間，第五清洗槽405位於鍍銦子槽521與鍍硒子槽526之間，第六清洗槽406位於鍍硒子槽526與收料裝置600之間。如此，可實現不鏽鋼帶701進入電鍍子槽前都經過表面清潔，從而保證了不鏽鋼帶701表面沉積的效果。所述收料裝置600設置於所述電鍍生產線的末端；用於將表面形成CIGS吸收層的不鏽鋼帶701收集成卷，以便於存放運輸。實際製作中，所述收料裝置600包括一個支撐架和架設於所述支撐架上的旋轉輪，將沉積有CIGS吸收層的不鏽鋼帶701的一端固定於所述旋轉輪上，隨著旋轉輪的轉動，將沉積有CIGS吸收層的不鏽鋼帶701收集成卷。通常，還會於所述收料裝置600之前設置乾燥裝置和自動糾偏裝置，將所述沉積有CIGS吸收層的不鏽鋼帶701乾燥後在送入所述收料裝置600中收集成卷。所述控制系統100，分別與所述送料裝置200、所述清洗槽、所述電鍍槽和所述收料裝置600電性連接。實際製作中，通過所述控制系統100控制所述送料裝置200、所述清洗槽、所述電鍍槽和所述收料裝置600同步動作。根據各鍍層的所需厚度，設置不鏽鋼帶701的輸送速度和各自對應的電鍍電流，鍍液流速等工藝參數，從而保證所述不鏽鋼帶701上均勻沉積各種金屬層，易於自動化。具體地，如圖4a‐4d所示，所述傳送裝置506包括一固定架506A、至少一組主輥輪509和至少一組與所述主輥輪509配合轉動的從輥輪508以及傳輸帶507，所述固定架506A的截面呈矩形狀，所述傳送帶507呈矩形設置並貼設於所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面上並攜帶所述襯底一同運動。所述主輥輪509安裝於所述固定架506A上部並抵頂所述不鏽鋼帶701；所述從輥輪508安裝於所述固定架506A下部也抵頂所述不鏽鋼帶701；所述傳輸帶507貼設於所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面上隨著所述主輥輪509和所述從輥輪508的轉動而攜帶所述不鏽鋼帶701一同移動。如此，結構簡單，一方面，確保所述不鏽鋼帶701的背面緊緊貼附於所述傳輸帶507上具體地，如圖4a所示，所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面與所述固定架506A的外側壁相切。所示固定架506A的頂部的兩個轉角處各固設有一個可轉動的主輥輪509，所述主輥輪509的外周面與所述固定架506A的頂邊和左、右側邊相切，所示固定架506A的下部的兩個轉角處各固設有一個可轉動的從輥輪508，所述從輥輪508的外周面與所述固定架506A的底邊和和左、右側邊相切。所述傳輸帶507分別繞兩根主輥輪509和兩根從輥輪508圍成一個密封的長方體。於電鍍子槽內，所述傳動裝置300均與所述主輥輪509相互嚙合，不鏽鋼帶701經過傳動裝置300和主輥輪509嚙合處，向下繞設置於所述傳送裝置506下部的兩個從輥輪508，貼附從所述傳送裝置506的另一側繞出，不鏽鋼襯底背面與傳輸帶507抵緊相貼，起到保護不鏽鋼帶701背面不被沉積上金屬層。又或者，如圖4b所示，所述主輥輪509設有兩個，固設於所述固定架506A頂部的轉角處，所述從輥輪508設有兩個，設置於所述固定架506A的下部的轉角處，所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面凸出於所述固定架506A的外側壁。所述傳輸帶507套設於所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面上，所述主輥輪509和所述從輥輪508抵緊所述傳輸帶507。如圖4c所示，所述傳送裝置506的另一實施例。兩個所述主輥輪509分別設置於所述固定架506A頂部的轉角處，所述從輥輪508設有九個，其中，三個固設於所述固定架506A的下部的底邊上，所述固定架506A的兩邊各固定有三個所述從輥輪508。所述傳輸帶507套設於所述主輥輪509和所述從輥輪508的外周面上，所述主輥輪509和所述從輥輪508抵緊所述傳輸帶507。如圖4d所示，所述傳送裝置506上還設有用於調節所述傳輸帶507張緊度的調整裝置530，所述調整裝置530與所述主輥輪509和所述從輥輪508可調節連接。具體地，圖4d中未詳細示出，所述調節裝置具有一個固定柱穿設於所述固定架506A的中間位置，固定柱與所述主輥輪509和所述從輥輪508通過調節件連接，本實施例中的調節件為直動氣缸，所述直動氣缸的底座鉸接於所述固定柱，所述直動氣缸的活塞杆連接所述主輥輪509或所述從輥輪508上的固定軸。如此，可調節所述傳輸帶507的張緊度，進而調節所述傳輸帶507上不鏽鋼帶701的張緊度。具體地，所述傳輸帶507上還設有可吸附所述不鏽鋼帶701的吸附部。本實施例中的所述吸附部為真空吸頭，所述真空吸頭設於所述傳輸帶507上與所述不鏽鋼帶701貼合的一面，如此，可使所述不鏽鋼帶701更加緊實的貼合於所述傳輸帶507上，避免電鍍液滲入到所述不鏽鋼帶701的背面。具體應用時，通過設置一個真空發生器與所述真空吸頭連接，當所述不鏽鋼帶701剛進入所述電鍍子槽入口處時，所述不鏽鋼帶701位於電鍍液上方，與所述傳輸帶507即將接觸那一刻，所述傳輸帶507上即將與所述不鏽鋼帶701接觸到的吸頭開啟，從而將所述不鏽鋼帶701牢牢貼附於所述傳輸帶507上；當所述不鏽鋼帶701帶出電鍍液，即將離開電鍍子槽時，也就是不鏽鋼帶701即將與所述傳輸帶507分開時，位於出口處的不鏽鋼帶701上的真空吸頭關閉，即可使得所述傳輸帶507與所述不鏽鋼帶701分離，如此，避免真空吸頭倒吸所述電鍍液，同時有保證了所述不鏽鋼帶701吸附於所述傳輸帶507上的牢固度，避免所述不鏽鋼帶701的背面沉積金屬鍍層。當然，為進一步提高所述傳輸帶507的使用壽命，可採用耐腐蝕的材質製作，並於所述真空吸頭的氣道上設置一個連通至所述電鍍子槽內的回流通道，也就是，一旦所述真空吸頭吸入所述電鍍液，所述回流通道開啟，將所述電鍍液回流至對應的電鍍子槽內。如此，進一步避免了所述不鏽鋼帶701背面沉積金屬層。如圖2和圖3所示，為了使得電鍍槽內的電鍍液混合的均勻，各個電鍍子槽內均設置有至少一根鍍液噴管511。由於各電鍍子槽的構造和原理相似，為便於說明，現以一次鍍銅子槽502為例進行說明。如圖5和圖5a所示，於所述一次鍍銅子槽502內，所述鍍液噴管511上設置有均勻分布的噴孔。具體地，所述噴孔為錐形孔，所述噴孔的內壁沿所述鍍液噴管511的管內向管外方向逐漸擴大。進一步地，所述噴孔的噴射方向朝向所述電鍍子槽的底壁。如此，電鍍液經過設置於所述鍍銅子槽底壁531的鍍液噴管511向下噴出，觸底反彈後向上攪拌電鍍液，使電鍍混合的更加均勻，各處濃度相同。通常，噴孔開孔錐度α為30°～60°。進一步地，同一鍍液噴管511上設置的噴孔間距離d1與所述噴孔直徑d2的比在20:1至5:1之間。本實施例中，所述噴孔間距離d1為2～20mm，噴孔直徑d2為0.5～3.5mm。具體地，同一所述鍍液噴管511上設置有兩排噴孔，所述兩排噴孔的噴射方向呈夾角設置。通常，兩排噴孔之間的夾角β為60°～120°。進一步地，所述電鍍子槽內設置有均流網510，所述均流網510用於平緩向上湧動的電鍍液的流速，所述均流網510位於所述傳送裝置506和所述鍍液噴管511之間。如此，當湧動的電鍍液經過均流網510板後，激烈的湧動得以平緩，使所述電鍍液變得平靜，不易產生氣泡，避免在電鍍層表面產生花斑。具體地，所述鍍液噴管511與子槽底部的距離與所述電鍍子槽的電鍍液的深度比在1：7至1:20之間。如此，將鍍液噴管511設於所述電鍍子槽中的合適位置，可確保電鍍液具有較佳的攪拌效果，同時避免殘存汙垢堵塞，鍍液噴管511上的噴孔。進一步地，所述均流網510為平板，所述平板上設置有均勻分布的網孔。具體地，所述網孔也為錐孔，也就是，開口朝上的喇叭孔，所述網孔的內壁的直徑沿豎直向上方向逐漸增大，通常，均流網孔直徑d3為0.5～3.5mm，均流網孔開孔錐度γ為20°～75°。具體地，所述均流網510的網目在5‐50之間。通常，均流網孔間距d4為1～5mm。進一步地，所述平板的厚度與所述電鍍子槽內的電鍍液的深度比在1：50至1:300之間。通常，均流網厚度d5為1～5mm。具體地，鍍液噴管511與均流網510的距離h1與鍍液噴管511與子槽底部的距離h2之比h1/h2在2：1至10：1之間。如此，既保證了鍍銅子槽底部無循環死角，又使得往上湧流的電鍍液勻速平靜，從而不產生氣泡，保證了鍍層表面沒有花斑。為便於說明，指定電鍍子槽寬為xmm，長為ymm，通常，鍍液噴管長度L為x‐（15mm～28mm），噴管的根數N為(1/2)*(y/h2)*ctg(β/2)，N取整數。具體地，如圖2所示，為避免一次鍍銅子槽502內鍍銅液的濃度波動過大，所述一次鍍銅子槽502配設有一個一次鍍銅母槽503。同理，所述二次鍍銅槽502B配備有一個二次鍍銅母槽503B，用於調節所述二次鍍銅槽502B內的二次鍍銅液504B濃度；所述鍍鎵子槽516均配設有一個鍍鎵母槽517，用於調節所述鍍鎵子槽516內的鍍鎵液518濃度；所述鍍銦子槽521配設有一個鍍銦母槽522，用於調節所述鍍銦子槽521內的鍍銦液523濃度；所述鍍硒子槽526配設有一個鍍硒母槽527，用於調節所述鍍硒子槽526內的鍍硒濃度；如此，可使得所述電鍍子槽內的電鍍液始終處於一個適宜沉積金屬層的濃度。具體地，所述一次鍍銅子槽502的側壁上設有溢流裝置，所述溢流裝置通過鍍液回流管514與所述一次鍍銅子槽502的下部連通。具體地，所述溢流裝置為溢流槽532，所述鍍液回流管514的一端連接於所述溢流槽532的下部，另一端連接於所述一次鍍銅子槽502的下部。進一步地，所述鍍液回流管514上連接有電鍍母槽，所述電鍍母槽用以調節所述電鍍子槽內的電鍍液各成分的濃度。本實施例中，所述電鍍母槽為一次鍍銅母槽503。如圖3所示，所述鍍液回流管514的一端連接於所述溢流槽532的下部，另一端連接於所述一次鍍銅母槽503。鍍液流回電鍍母槽，再經過循環泵，過濾桶，輸送回電鍍子槽，實現循環具體地，於所述一次電鍍母槽的出口處的所述鍍液噴管511上安裝有循環泵513和用於過濾汙垢殘渣的過濾機512。本實例中的所述循環泵513可將電鍍母槽內的電鍍液泵送至所述電鍍子槽內。如此，可實現一次鍍銅液504的循環流動，並不斷淨化所述一次鍍銅槽501內電鍍液，保持一次鍍銅槽501內的乾淨和鍍液濃度保持穩定。所述鍍液回流管514進入一次鍍銅子槽502內分成多根鍍液噴管511。如圖5a所示，各鍍液噴管511的內截面S之和等於或大於所述鍍液回流管514的內截面。下面就一次鍍銅液504的循環過程作簡要說明：所述一次鍍銅母槽503中的一次鍍銅液504電鍍液由循環泵513抽出，經過過濾機512過濾後，由於鍍液回流管514分流至一次鍍銅子槽502內的鍍液噴管511，經鍍液噴管511上的噴孔朝下噴出，觸碰鍍銅子槽底壁531後反彈向上湧動，經過均流網510平緩減速，波動的一次鍍銅液504即刻變得平靜，一次鍍銅子槽502內的液面上升，消除了湧浪，穿過銅陽極505與不鏽鋼鋼帶之間的夾縫，溢出所述一次鍍銅子槽502的側壁，流入設置於所述一次鍍銅子槽502側壁上的溢流槽532中，再回流入一次鍍銅母槽503中，與所述一次鍍銅母槽503內的一次鍍銅液504混合，再由循環泵513泵出至所述一次鍍銅子槽502內，如此反覆循環。進一步地，如圖6和圖2所示，所述傳動裝置300包括相互嚙合的壓輥301和託輥302，所述不鏽鋼帶701穿設於所述壓輥301和所述託輥302嚙合處，所述壓輥301和所述託輥302分別抵頂所述不鏽鋼帶701的上、下面。實際應用中，所述託輥302為動力件，帶動所述壓輥301轉動。位於電鍍子槽進口處和出口處的託輥302還同時具有導電的作用，電鍍時託輥302接電源陰極，把電流傳導到待鍍的不鏽鋼襯底上，使不鏽鋼襯底成為陰極。如此，將不鏽鋼帶701穿設於所述壓輥301與所述託輥302嚙合處，可以將展開的卷狀的不鏽鋼帶701壓平，同時還可傳送和張緊不鏽鋼帶701，使不鏽鋼帶701以一定的速度移動，並處於張緊狀態。再者，所述壓輥301和所述託輥302均為轉動體，可將不鏽鋼帶701的變向，使不鏽鋼帶701蜿蜒纏繞布置，節省設備佔用的空間。為了避免託輥302與待鍍的不鏽鋼帶701面接觸，本實施例中將託輥302中間處挖空設置，具體地，所述託輥302包括中間軸3022和連接於所述中間軸3022兩端的圓餅3021，所述圓餅3021的中心線和所述中間軸3022的中心線相重合，所述圓餅3021的外徑大於所述中間軸3022的外徑，所述圓餅3021與所述壓輥301嚙合。如此，所述圓餅3021外周面僅抵壓在不鏽鋼帶701的側邊緣，而中間軸3022不與所述不鏽鋼帶701的中間部分相接觸，這樣，可保證待鍍不鏽鋼帶701的表面不被劃傷。由於六個清洗槽的構造和工作原理類似，下面以第一清洗槽401為例說明其內部布置：所述清洗槽內設有噴管組和設於所述清洗槽下部居中，用於傳輸所述不鏽鋼帶701的轉輪407；本實施例中，所述噴管組豎向設置，所述不鏽鋼帶701纏繞於所述轉輪407的外周面。所述噴管組包括第一噴管組409和第二噴管組410。所述第一噴管組409置於所述轉輪407上方並位於所述清洗槽中間處，由中間向所述清洗槽側壁噴射用以清洗所述不鏽鋼帶701背面，所述第二噴管組410具有兩組，相對於所述第一噴管組409設置，分別位於所述清洗槽的左右兩側壁，用以清洗所述不鏽鋼帶701正面；所述第一噴管組409和所述第二噴管均包括至少一根豎向並排設置的噴管，任一所述噴管上均安設有均勻分布的清洗噴嘴408，所述清洗噴嘴408噴射方向均朝向所述不鏽鋼帶701的表面。下面對整個所述的製備CIGS吸收層的電鍍生產線的工作過程進行說明：成卷設置的不鏽鋼帶701的表面預先濺射有Cr/Mo/Cu，經過送料裝置200的旋轉展開，穿過傳動裝置300上的所述壓輥301與所述託輥302的嚙合處，由所述壓輥301和所述託輥302將不鏽鋼帶701壓平，進入第一清洗槽401內繞過轉輪407，所述第一清洗槽401的噴管組同時清洗所述不鏽鋼帶701的正面和背面，同時所述不鏽鋼帶701始終處於一個運動狀態，再由所述傳動裝置300進入一次鍍銅子槽502內，所述不鏽鋼帶701經過所述一次鍍銅子槽502後，僅正面沉積有一層銅層，變成鍍有銅的不鏽鋼帶702，再進入第二清洗槽402清洗，而後經過鍍鎵子槽516，正面進一步沉積鎵元素，變成鍍有Cu/Ga的不鏽鋼帶703，再進入第三清洗槽403清洗，再經過二次鍍銅槽502B的二次沉銅，正面進一步沉積銅元素，變成鍍有Cu/Ga/Cu的不鏽鋼帶704，再進入第四清洗槽404清洗，再經過所述鍍銦子槽521，正面進一步沉積銦元素，變成鍍有Cu/Ga/Cu/In的不鏽鋼帶705，再進入第五清洗槽405清洗，再經過所述鍍硒子槽526，沉積硒元素，變成鍍有Cu/Ga/Cu/In/Se的不鏽鋼帶706，在進入第六清洗槽406清洗，再由所述收料裝置600收集成卷，如此，便於不鏽鋼帶701正面沉積有CIGS吸收層。以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，並不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明的保護範圍之內。