用於將樣品從溶液中結晶的反應容器的製作方法

2023-05-27 03:48:46 2

專利名稱：用於將樣品從溶液中結晶的反應容器的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種用於將樣品從溶液中結晶的反應容器，以及該反應容器的蓋箔， 以及安裝該蓋箔的設備。
背景技術：
生物大分子如蛋白質和核酸的晶體的製備對於這些分子的構造解釋是關鍵的影 響因素。一種重要的結晶方法是基於蒸汽擴散法。在該方法中，將溶解在結晶溶劑中的少 量大分子樣品與另一部分溶劑一起封裝在反應容器中。溶解在結晶溶劑中的樣品與儲庫中 溶劑之間發生蒸汽擴散，使樣品溶液過飽和和樣品結晶。因為大分子的晶體生長取決於不同參數，所以常常需要儘可能多地平行進行數次 結晶生長試驗，以測試出合適的參數。該操作通常在微量滴定板或微孔板上進行。這些裝 置在用於結晶時，也稱為結晶板。這類微量滴定板或結晶板在現有技術中是已知的。例如，可以用蓋子或箔封閉微 量滴定板的各反應室，從而形成封閉的氣室，具體取決於所述板的設計。在現有技術中，用於大分子結晶的不同備選微量滴定板是已知的。例如，文獻EP 1 397 201 Al揭示了一種反應容器，用於製造具有數個反應室的樣品，其中各反應室具有儲 庫和數個反應區域。這些反應容器的缺點是各反應室不能密封，因此不是氣密的，不能製成獨立的密 封的氣室。尤其是，在具有多個反應室和相應的小體積的結晶板中，溶劑從反應容器中蒸發 常常是不利的事件。當使用箔遮蓋這類反應容器時，通常將在相應反應室上方的箔切開，以從反應容 器中移出形成的晶體。該方法的缺點是，在這種切開操作的過程中，周圍反應室的遮蓋物常 常也被破壞，以致於這些結晶試驗不再密封，不是氣密的，因此也不能使用。因此，本發明的目的是提供一種手段，該手段克服了至少一個上述現有技術的缺 點。具體而言，本發明的目的是提供一種手段，該手段可以使反應容器具有更好的密封能 力。通過本發明的權利要求1所述的反應容器實現該目的。如該權利要求所述，提供 一種用於將樣品從溶液中結晶的反應容器，該反應容器包括數個反應室，其中各反應室具 有儲庫和至少一個結晶空間，其中第一反應室的第一側壁通過連接間隔物隔開一段間隔物 距離與第二反應室的第二側壁連接，所述連接間隔物設置在與反應容器的側周表面共享的 平面上，該平面形成反應容器的平坦表面。令人驚奇的是，已經發現本發明的反應容器可提供對反應容器的各反應室改進的
O有利的是，在反應室之間形成連接間隔物，其中第一反應室的第一側壁通過連接 間隔物隔開一段距離與第二反應室的第二側壁連接，所述連接間隔物與反應容器的側周表 面形成平坦表面，由此可以製備較寬的間隔物。尤其是，這樣可以使相鄰的反應容器不具有
4任何共享的容器壁，相鄰的反應室可以被較寬的間隔物互相隔開一段距離。有利的是，較寬 的間隔物可以加寬粘合劑蓋箔或施加粘合劑的粘合區域。因此，反應室的密封能力明顯提
尚ο普通反應室之間的中間間隔物一般較薄，僅僅具有極小的箔粘合表面，與此相比， 上述反應室特別有利。更有利的是，連接間隔物與反應容器的側周表面一起形成平坦表面，使得各反應 室的密封能力(尤其是被蓋箔遮蓋的密封能力)進一步提高。因此，依據本發明可以避免 表面的不平坦區域，例如由於較窄的中間網從邊緣區域的表面延伸出去，或者位於該表面 以下所造成的表面的不平坦區域，從而進一步提高了反應室的密封能力。還特別有利的是，較寬的粘合區域可以完全或幾乎完全防止各個反應室中溶液的 蒸發。這一點對於具有多個反應室(例如所謂的96孔板)和相應的小體積溶液的結晶板 特別有利。在例如通過蓋箔封閉各反應室後，各反應室形成獨立的氣室，在該氣室中，溶解在 溶劑中的樣品與反應室儲庫中的另一部分溶劑一起被封閉在結晶空間上或結晶空間中。減 少甚至阻止溶劑從反應室中蒸發可以防止用於結晶的溶液的濃度由於溶劑的蒸發而發生 變化，尤其是對於小體積溶劑而言。相應地，對於結晶生長試驗的評價，可以明顯更好地評 估結晶所需的晶體濃度。這一點對於頻繁使用的揮發性溶劑如醇和酸而言是特別有利的。依據反應容器的一個優選實施方式，連接間隔物的寬度在> 1. 5毫米至2毫米至2. 5毫米至<3毫米的範圍內， 更優選在彡2. 7毫米至 24. 75毫米7反應室至 32毫米7反應室至 38. 75毫米7反應 室至 0. 2毫米至 0. 3毫米至 0. 4毫米至 0. 05毫米至 0. 1毫米至 0. 2毫米至< 0. 3毫米的範圍 內。這樣可以以有利的方式更容易地引導切割工具(例如解剖刀)。依據本發明反應容器的另一個優選實施方式，連接間隔物在反應容器的至少一個 邊緣區域中具有凹陷，該區域最好不與相鄰反應室的邊緣接觸，優選在反應室的至少一個 角中。依據本發明反應容器的另一個優選實施方式，間隔物在反應室外側的至少一個區域 上具有凹陷，優選在反應室的至少一個角上具有凹陷。較佳地，連接間隔物在一個位置上具有凹陷，該位置優選是反應室的一個角。連接 間隔物還可以在兩個、三個或四個位置上具有凹陷，所述位置優選是反應室的各個角。較佳 地，至少一個凹陷設置在反應室的側面上，在該側面上設置有結晶空間。較佳地，連接間隔物具有從設置在連接間隔物中的凹槽開始的凹陷。而且，連接間 隔物優選具有從凹槽的交叉區域開始的凹陷。依據本發明反應容器的另一個優選實施方式，間隔物在反應室外側上從設置在外 周上的凹槽開始，以及在至少一個位置上，具有凹陷，該凹陷優選在反應室的一個角上。有利的是，這些凹陷可以容許切割工具進入凹陷，更容易地除去箔。
在其它優選的實施方式中，凹陷的深度相當於凹槽的深度。較佳地，凹陷的深度在 ^ 0. 05毫米至 0. 1毫米至< 0. 4毫米的範圍內，優選在 彡0.2毫米至彡0.3毫米的範圍內。較佳地，凹陷的面積在彡0. 4毫米2至彡1. 2毫米2的範圍內，優選在彡0. 5毫米 2至< 1毫米2的範圍內，更優選在彡0. 65毫米2至 8毫米至9. 5毫米至9. 9毫米至 1. 7毫米至< 3. 5毫米的範圍內，特別是在 彡2毫米至< 3. 2毫米的範圍內，優選在彡2. 2毫米至 4毫米至 5毫米至70微升至80微升至< 150微升的範圍內， 優選在彡130微升至 7毫米至 8毫米至 10納升至50納升至 100納升至 300納升至 1. 5毫米至彡4毫米的範圍內，優選在> 1. 8毫米至彡3. 5毫米的範圍 內，更優選在彡2. 1毫米至< 3. 0毫米的範圍內，以及/或者其長度在彡4. 5毫米至 5. 1毫米至 5. 6毫米至< 6. 2毫米的 範圍內。結晶空間具有彎曲的(特別是橢圓的)表面的優點尤其在於使得樣品液滴的定位 可重複。這樣使得待形成的晶體的定位可重複。例如，晶體將優選在彎曲部分的最深區域 中形成。有利的是，晶體由此可在結晶空間的中心或幾乎中心的位置形成。由於溶解的樣品可重複定位帶來的益處，晶體的定位也可重複。尤其是，由於結晶空間的圓形表面，優選橢圓形表面，可以避免晶體生長在角中開 始，這種在角中生長的後果是從結晶空間中移出晶體或直接在結晶空間中分析晶體變得更 困難。而且，卵形(優選橢圓形)設計還有一個特別的優點，即可以更容易地移出晶體， 原因在於，將用於移出晶體的裝置(例如所謂結晶環的常規裝置，即在一端帶有環的金屬 銷)按照最深區域的方向引導通過結晶空間的形狀。因此，結晶空間具有基本橢圓的形狀 可以更容易地將形成的晶體隔離。而且，結晶空間的彎曲表面(特別是卵形或優選的橢圓形狀)能帶來另一突出優 點，即防止在平坦表面上常常發生的光的反射，特別是全反射，所述光例如是對反應容器中 形成的晶體進行顯微鏡檢測時照明所用的光。因此，反應室中的顯微鏡檢測可以明顯變得 更容易。較佳地，反應容器由透光聚合物製成。因此，可使用光學儀器在無開口的情況下檢 測結晶生長試驗。優選的聚合物選自下組聚丙烯、聚苯乙烯、丙烯醯丁二烯苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲 基丙烯酸甲酯、聚碸、環烯烴共聚物(COC)、環烯烴聚合物(COP)、聚甲基戊烯和/或丙烯酸
8酉旨-苯乙烯丙烯膽(aery 1 ester-styrene acrylnitrile)。有利的是，這些聚合物能耐受常用於結晶的有機溶劑如丙酮、苯或乙腈。而且，它 們能與常用於結晶的不同的鹽、緩衝液或聚合物相容。特別優選的聚合物選自下組環烯烴共聚物和/或環烯烴聚合物，優選是環烯烴 共聚物。反應容器，特別是由環烯烴共聚物設計的反應容器可提供特別良好的透明度。而 且，由環烯烴共聚物製備的容器不容易透水蒸汽，因此對蒸發的敏感度比(例如)由聚苯乙 烯製備的容器弱。優選的環烯烴共聚物在23°C的室溫具有的吸水性小於0. 01%。其它可使用的優 選的環烯烴共聚物在280納米波長的透光率為彡90%至< 100%，優選為91%。優選的環烯烴共聚物例如可以商品名Topas ，特別是Topas 8007X10從託普斯 先進聚合物公司(Topas Advanced Polymers)購得。優選的環烯烴聚合物(COP)例如可以 商品名^ONOR購得。依據本發明的反應容器適用於根據「沉滴(sitting drop) 」程序將樣品從溶液中 結晶，該反應容器包括數個反應室，其中各反應室具有儲庫和至少一個結晶空間。如果將樣品溶液施加於反應容器的蓋子，特別是直接施加在反應室上時，可依據 所謂的"懸滴(hanging drop) 」程序進行結晶。依據反應容器的一個優選實施方式，反應容器還可具有容器蓋。依據一個優選的 實施方式，容器蓋是彈性蓋箔。但是，一般而言，在本發明中也可以使用剛性蓋。較佳地，通 過將蓋箔或剛性蓋設置到反應容器上，可以將所有反應室一起封閉。蓋箔的另一優點是可特意封閉反應容器的一部分反應室。尤其是，在使用蓋箔時， 可有利地通過除去部分蓋箔片特意地將單獨的反應室敞開，而不必同時將周圍的反應室也 打開。尤其是，蓋箔中發生汙染的風險較小。而且，粘合蓋箔的使用很簡單。也可以在反應容器的間隔物和邊緣區域上覆蓋粘合劑，這樣可以施加非粘合性的 蓋箔。但是，優選施加粘合蓋箔。這樣做的明顯優點是在粘附之前的蓋板操作方便。較佳地，蓋箔由透光聚合物製成。因此，可使用光學儀器在無開口的情況下檢測結 晶生長試驗。優選的聚合物是彈性體，氟化和非氟化的聚合物，特別選自下組聚乙烯，尤其是 低密度聚乙烯(LDPE)和高密度聚乙烯(HDPE)，聚丙烯，聚酯，聚苯乙烯，聚對苯二甲酸乙二 酯，含氟聚合物，例如聚氯乙烯(PVC)，全氟烷氧基-共聚物(PFA)，乙烯-氯三氟乙烯共聚 物(E-CTFE)，乙烯-四氟乙烯共聚物(E-TFE)，三氟氯乙烯/乙烯共聚物(CTFE)，聚偏氟乙 烯(PVDF)，四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)，聚四氟乙烯(PTFE)，聚烯烴，丙烯醯聚合物， 丙烯醯共聚物，丙烯酸乙二酯，甲基丙烯酸乙二酯，乙烯-丙烯酸甲酯，乙烯-甲基丙烯酸甲 酯共聚物，丙烯腈-苯乙烯共聚物，丙烯腈-丙烯酸甲酯共聚物，乙烯-乙酸乙烯酯共聚物， 丁二烯-苯乙烯共聚物，聚丁二烯，丁二烯-丙烯腈共聚物，異丁烯-異戊二烯共聚物，聚碳 酸酯和/或環烯烴聚合物(COP)。特別優選的聚合物選自下組聚乙烯，聚丙烯，聚酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲 酯，聚甲醛，聚對苯二甲酸乙二酯，聚醯胺，含氟聚合物，例如聚氯乙烯(PVC)，聚碳酸酯和/ 或環烯烴聚合物(COP)。特別優選的聚合物是聚丙烯。特別地，聚丙烯層能賦予蓋箔良好的 透明度。
優選將粘合劑施塗到聚合物層上。合適的粘合劑選自下組反應性粘合劑和/或接觸粘合劑。優選的是接觸粘合劑。 作為接觸粘合劑，可使用本領域中普遍已知的接觸粘合劑。可用作接觸粘合劑的是例如天 然橡膠，丁基橡膠，苯乙烯-丁二烯共聚物(SBR橡膠)，丙烯腈共聚物，聚氯丁二烯，聚異丁 烯，聚丁二烯，聚異戊二烯，嵌段共聚物，例如苯乙烯-異戊二烯，苯乙烯-異戊二烯-苯乙 烯(SIQ嵌段共聚物或苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBQ嵌段共聚物，聚酯，聚氨酯，矽酮，聚 乙烯醚，丙烯腈共聚物，丙烯酸酯，甲基丙烯酸酯，丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸乙酯，丙烯酸丙 酯，甲基丙烯酸丙酯，丙烯酸乙酯，甲基丙烯酸乙酯，丙烯酸丙酯，甲基丙烯酸丙酯，丙烯酸 正丁酯，甲基丙烯酸正丁酯，丙烯酸異丁酯，丙烯酸2-甲基丁基酯，丙烯酸2-乙基己基酯， 丙烯酸正辛酯，丙烯酸異辛酯，甲基丙烯酸異辛酯，丙烯酸異壬酯，丙烯酸異癸酯，這些丙烯 酸酯的共聚物。經證實，特別適合作為粘合劑，特別是接觸粘合劑的是基於橡膠、合成橡膠或丙烯 酸酯的粘合劑。依據一個優選的實施方式，接觸粘合劑是丙烯酸酯粘合劑。優選的是基於選 自下組的(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸酯粘合劑丙烯酸甲酯，丙烯酸正丁酯，丙烯酸叔丁酯， 丙烯酸2-乙基己基酯，丙烯酸異辛酯，丙烯酸異癸酯，丙烯酸異冰片酯，和甲基丙烯酸異冰 片酯，以及/或者乙烯丙烯酸共聚物。較佳地，用丙烯酸酯粘合劑塗覆蓋箔。粘附性良好的丙烯酸酯粘合劑可以有利地 提供反應室的可靠密封。尤其是，帶有良好粘附的蓋箔的各反應室之間的本發明寬間隔物 的相互作用能明顯減少反應室中的蒸發。各反應室上方的表面可以無粘合劑。在此，在各反應室上方的整個表面上都可以 無粘合劑。這樣可以根據「懸滴」法進行結晶，而樣品溶液不會受粘合劑汙染。較佳地，反應區域上方的表面無粘合劑。反應區域上方的整個區域也可以無粘合 劑。較佳地，反應區域上方僅有一部分區域無粘合劑。在此關於區域位置的描述是指粘附 在反應容器上的箔。依據一個特別優選的實施方式，用於遮蓋包括反應室的反應容器的蓋箔包含其 上設置了粘合劑層的聚合物層，其中，粘合劑層中無粘合劑的區域的寬度在> 1.5毫米至 ^ 7. 5毫米的範圍內，長度在彡1.5毫米至彡7. 5毫米的範圍內。一方面，這樣做的優點是通過取向於無粘合劑的表面可以大大提高樣品液滴在蓋 箔上定位的確定性。另一方面，通過該措施可以防止在蓋箔和/或反應容器搖晃時，施加的 液滴之間彼此滲入，從而汙染相鄰的生長試驗。較佳地，蓋箔的無粘合劑區域的數量根據式3x 2N而定，其中N是自然數。較佳地， 在蓋箔上設置無粘合劑區域相當於依據SBS標準設置反應容器的反應室，其中無粘合劑區 域以合適的方式位於空穴內蓋箔的表面上。較佳地，無粘合劑的區域位於儲庫上方。無粘合劑的區域可具有圓形、卵形(特別是橢圓形或基本橢圓形)或矩形的形狀。 在一個優選的實施方式中，無粘合劑的區域為圓形。在一個優選的實施方式中，蓋箔具有圓形的無粘合劑區域，該區域的直徑在> 1. 5 毫米至 1. 8毫米至 2毫米 至彡2. 5毫米的範圍內。
在其它優選的實施方式中，蓋箔具有卵形(特別是橢圓形或基本橢圓形)的無粘 合劑區域，其寬度在> 1.5毫米至 1.8毫米至<3毫米的範圍 內，特別優選在彡2毫米至< 2. 5毫米的範圍內，以及/或者其長度在彡1. 8毫米至 2. 5毫米至 2. 5毫米至 1.5毫米 至< 7. 5毫米的範圍內，優選在彡1.8毫米至< 3毫米的範圍內，特別優選在彡2毫米至 (2. 5毫米的範圍內，以及/或者其長度在彡1. 5毫米至< 7. 5毫米的範圍內，優選在彡1. 8 毫米至 2毫米至 1.5 毫米2至2. 5毫米2至3 毫米2至彡5毫米2的範圍內。在其它優選的實施方式中，蓋箔可具有無粘合劑區域，其寬度在> 5. 8毫米至 ^ 6. 6毫米的範圍內，優選在彡6. 1毫米至彡6. 3毫米的範圍內，以及/或者長度在彡5. 8 毫米至 6. 1毫米至 76毫米至 77毫米至< 82毫米的範 圍內，特別優選在彡78毫米至< 80毫米的範圍內，以及/或者長度在彡130毫米至 135毫米至 140毫米至5毫米至 8毫米至 25微 米至 50微米至 65微米 至80毫米至 120毫米至< 135毫米的範圍內，其中在基 底結構的至少兩個相對側上施加固定部件，利用該固定部件可以拉緊的方式將蓋箔連接到基底結構上，這樣蓋箔是拉緊的，基底結構優選在角區域內具有至少兩個定位元件，優選是 凹陷。有利的是，固定部件可以將蓋箔連接到固定裝置上。令人驚奇的是，可以確定固定裝置可以牢固地固定蓋箔，隨後又能拆除，這樣蓋箔 被吸住而無滑移。特別地，可以將樣品溶液液滴精確地施加到所選擇的防滑區域上，固定蓋箔。基底結構優選是矩形基底結構。較佳地，基底結構具有可以設置在反應容器上的 區域，該區域的寬度在彡83毫米至< 87毫米的範圍內，長度在彡125毫米至 83毫米至83毫米至<87毫米的範圍內，長度在 ^ 125毫米至 84毫米至 0. 5毫米至 1. 3毫米至 75毫米至<87毫米的範圍內，優選在 ^ 77毫米至< 85毫米的範圍內，特別優選在彡78毫米至 100毫米至 115毫米至< 140毫米的範圍內，特別 優選在彡120毫米至< 135毫米的範圍內。在固定裝置上，將固定部件安裝在基底結構的至少兩個相對側上，利用該固定部件可以將蓋箔以拉緊的方式固定在基底結構上。較佳地，蓋箔以拉緊和可拆除的形式固定在基底結構上。在將樣品溶液施加到固 定在基底結構上的箔上後，可以將箔再次從基底結構上拆除。可使用合適的固定部件進行 安裝。較佳地，將固定部件安裝到基底結構的前側上。但是，也可以將固定部件安裝到縱 側上。優選的固定部件選自下組掛鈎，環，翼片，帶，彈簧元件和/或滑行固定部件。較佳地，將固定部件設置在軸承中，這樣它們能通過鉸鏈連接而旋轉。在一個特別 優選的實施方式中，可以將固定部件設置在軸上，這樣它們能旋轉。優選的固定部件是設置 在軸上的安裝板，這樣它們能旋轉。在另一優選的實施方式中，固定部件是可滑行的固定部件，它們能從側面或上部 固定箔。在另一實施方式中，固定部件可以是掛鈎、環、翼片、帶或彈簧元件，特別是固定在 基底結構上的掛鈎、環、翼片、帶或彈簧元件。優選固定部件是固定在基底結構上的彈簧元件。這樣可以固定箔，使箔在固定到 基底結構上的彈簧元件下滑行。在優選的實施方式中，固定箔，將其放置在安裝表面上。為此目的，設置在軸承中 從而能在軸上旋轉的固定部件(優選安裝板)可以是開放的，例如通過將它們摺疊而開放。較佳地，可以將固定部件鎖定在開放位置。這樣能防止固定部件(例如板)因撞 擊而不利地關閉。依據一個優選的實施方式，可以利用壓銷將固定部件鎖定在開放位置。在放置箔後，可以將設置在軸承中從而能在軸上旋轉的固定部件(優選安裝板) 關閉。較佳地，可以利用基底結構上的閉合板夾緊箔。較佳地，可以將固定部件鎖定在閉合位置。這樣能防止固定部件(例如板)被不 利地打開。依據一個優選的實施方式，可以利用基底結構和固定部件中的磁鐵將固定部件 鎖定在閉合位置。在一個優選的實施方式中，利用壓銷將固定部件鎖定在開放位置，以及/或者利 用基底結構和固定部件中的磁鐵將固定部件鎖定在閉合位置。在本發明的上下文中，術語「閉合位置」應理解為是指蓋箔被固定裝置中的固定部 件固定的位置。較佳地，固定部件(例如設置在軸承中軸上的安裝板)在該過程中是閉合 的。在本發明的上下文中，術語「開放位置」應理解為是指蓋箔未被固定裝置中的固定部件 固定的位置。較佳地，固定部件(例如設置在軸承中軸上的安裝板)在該過程中是開放的。依據另一個優選的實施方式，可以利用彈簧系統(例如死點彈簧(dead-center spring))鎖定固定部件。固定裝置具有至少兩個定位元件。優選將至少兩個定位元件安裝在固定裝置的相 對側。在優選的方式中，固定裝置具有四個定位元件，它們優選相互對稱地排列。優選在基 底結構的兩個位置上設置定位元件。較佳地，將定位元件安裝在基底結構的角區域中。固定裝置的定位元件可以是凹陷或凸起區域，例如銷或凸起。固定裝置的定位元 件優選是凹陷。這樣可以無阻礙地定位箔，尤其是無阻礙地將液體施加到就位的蓋箔上。在優選的實施方式中，定位元件(優選凹陷)的直徑在彡4. 2毫米至 4. 7毫米至 5. 2毫米至< 6. 2毫米
13的範圍內。在其它優選的實施方式中，凹陷是通孔。蓋箔上吸移了樣品溶液的固定裝置可以翻轉，放置在反應容器上。然後，使用可彈 性變形的安裝表面壓制，將蓋箔的粘合劑層粘附到反應容器上。在將箔粘附到反應容器上 後，可將安裝板拆除，很容易地抬高除去固定裝置。較佳地，使用反應容器的接受裝置進行將蓋箔設置在反應容器上的操作。這樣做 的優點是可以直接方式進行該放置操作。依據本發明的用於在反應容器上施加蓋箔的設備包括至少一個用於蓋箔的固定裝置。依據本發明的用於將蓋箔施加到反應容器上的設備包括更優選的用於反應容器 的接受裝置，其中在接受裝置的基底結構上設置了至少兩個定位元件，優選是銷型定位元 件，凹陷的尺寸應使得以下寬度的反應容器能位於該凹陷中80毫米至≤ 90毫米的範圍 內，優選≥ 83毫米至≤87毫米的範圍內，特別是在≥ 84毫米至≤ 86毫米的範圍內。接受裝置具有至少兩個定位元件。優選將至少兩個定位元件安裝在接受裝置的相 對側。在優選的方式中，接受裝置具有四個定位元件，它們優選相互對稱地排列。較佳地， 將定位元件安裝在接受裝置的基底結構的角區域中。接受裝置的定位元件可以是凸起區域，例如銷型元件，特別是銷或凸起，或凹陷。 接受裝置的定位元件優選是銷型定位元件。固定裝置的定位元件(優選凹陷)優選與接受裝置的定位元件(優選是凸起區 域，如銷)相互作用。在接受裝置的優選實施方式中，至少兩個定位元件(優選銷型定位元 件)可與本發明固定裝置的定位元件(優選凹陷)形成咬合。在優選的實施方式中，定位元件(優選銷型定位元件)的長度在≥25毫米至≤40 毫米的範圍內，優選在≥ 28毫米至≤38毫米的範圍內，特別優選在≥ 30毫米至≤ 35毫米 的範圍內。在其它優選的實施方式中，定位元件(優選銷型定位元件)的直徑在≥4毫米 至≤8毫米的範圍內，優選在≥4. 5毫米至≤7毫米的範圍內，特別優選在≥5毫米至≤6 毫米的範圍內。依據另一實施方式，可在導軌的輔助下沿著固定裝置的外表面將固定裝置定位在 凹陷裝置上或凹陷裝置中。使用銷型定位元件，特別是能與固定裝置的凹陷咬合的銷或導軌進行定位的一突 出優點是，可以直接將箔安裝在反應容器上。具體而言，銷或導軌可以使定位的箔安裝到相 應定位在接受裝置中的反應容器上，因此與無該輔助機構的情況相比，箔的無粘合劑但覆 蓋液滴的表面能明顯更精確地定位在反應室上方。在優選的方式中，凹陷的尺寸是正方形的。較佳地，凹陷的尺寸應使得反應容器能 被設置在SBS標準格式的凹陷中。優選以符合SBS格式的形式將反應容器定位在接受裝置的凹陷中。在將樣品溶液 的液滴放置到蓋箔上後，可以將具有蓋箔的固定裝置翻轉，放置在接受裝置上。在此過程 中，例如，接受裝置的銷咬合進入相應的固定裝置的凹陷。因此，反應容器和箔的位置彼此 配合。可以將箔壓到位於接受裝置中的反應容器上，由此箔的彈性安裝表面可以提供力 的均勻分布，從而形成均勻的粘附。然後，可以打開固定部件(例如板)，將固定裝置抬高移走。可以將被箔封閉的反應容器從板託座上移走。在優選的實施方式中，將蓋箔施加到反應容器上的設備包括依據本發明的用於蓋 箔的固定裝置和依據本發明的用於反應容器的接受裝置。較佳地，依據本發明的用於在反應容器上施加蓋箔的設備由聚合物材料製備。優選的聚合物選自下組聚甲醛(POM)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和/或聚丙烯。這樣使裝置容易清潔。但是，由金屬或部分由金屬製備的裝置也是優選的。優選 的金屬選自下組特種鋼，特別是不鏽鋼和/或鋁。鋁優選是經過陽極化處理的鋁或具有表 面塗層的鋁，所述塗層優選是清漆，具體是透明清漆，尤其是杜羅塑料(duroplastic)固化 的清漆。本發明還涉及一種包括本發明反應容器和蓋箔的系統。較佳地，該系統包括本發 明的反應容器和安裝在該反應容器上的蓋箔。有利的是，本發明的反應容器可與任何適合 遮蓋反應室的蓋箔一起使用。較佳地，蓋箔是依據本發明的蓋箔。對於本發明的反應容器和蓋箔，可以完全參考之前的描述。本發明還涉及一種系統，該系統包括反應容器，蓋箔和本發明的用於將蓋箔施加 到反應容器上的設備。有利的是，依據本發明的用於在反應容器上施加蓋箔的設備可與任何合適的符合 SBS標準格式的反應容器一起使用。對於本發明的安裝蓋箔的設備，可以完全參考之前的描述。通過所附權利要求和以下相應附圖和實施例的描述可以了解本發明對象的其它 細節，特徵和優點，其中例如描述了本發明的實施例。

圖1顯示根據本發明一個實施例的本發明反應容器的示意圖。圖2顯示沿著圖1的軸I剖開的本發明反應容器的截面圖。圖3顯示根據圖1的本發明反應容器的放大示意圖。圖4顯示根據本發明一個實施例的本發明蓋箔的示意圖。圖5顯示根據本發明一個實施例的本發明固定裝置的示意圖。圖6顯示根據本發明一個實施例的本發明接受裝置的示意圖。圖1顯示根據一個實施例的本發明反應容器的示意圖，該反應容器用於將樣品從 溶液中結晶。反應容器1包括數個反應室2。儲庫4和結晶空間6位於反應室2中。結晶 空間6的形式為橢圓形構造的凹陷。結晶空間設置在反應室2的臺階上。反應室2的側壁 通過連接間隔物12相互連接。按照此方式，連接間隔物12與反應容器1的側周表面14 一 起形成共有的平坦表面。連接間隔物12在中間具有凹槽16。圖2所示的沿圖1的軸I剖開的本發明反應容器的截面圖清楚地顯示連接間隔物 12與反應容器1的側周表面14 一起形成平坦表面。在此，連接間隔物12將第一反應室2 的第一側壁8與跟它間隔一段距離的第二反應室2的第二側壁10連接。上面設置了結晶 空間6的臺階在低於結晶空間的下側具有平坦表面。反應室2的側壁通過連接間隔物12相互連接，所述連接間隔物與反應容器1的側 周表面14 一起形成平坦表面。相應地，連接間隔物12還沿著垂直於所示的軸I的軸將第 一反應室2的第一側壁(其垂直於側壁8)與第二反應室2的第二側壁(其與第一側壁間 隔一段距離，並且垂直於側壁10)連接。
圖3顯示根據圖1的本發明反應容器的放大示意圖。連接間隔物12在反應室2 的角中具有凹陷18。圖4顯示根據本發明一個實施例的本發明蓋箔的示意圖。蓋箔20包括聚合物層 22，在該層上施加有粘合劑。在粘合劑層M內，存在無粘合劑的區域沈。在這些區域沈 中，可以施加樣品滴。而且，蓋箔20在其長度方向的兩側都具有聚合物層22的無粘合劑區 域。這樣做的優點是，在聚合物層22的無粘合劑區域上，蓋箔20的抓握能力更強。圖5顯示根據本發明一個實施例的本發明固定裝置30的示意圖。固定裝置30具 有用於接受蓋箔的基底結構32。在基底結構上，固定可彈性變形的安裝表面40。此外，基 底結構32具有佔地區域(footprint area) 34，其寬度在彡84毫米至 126毫米至< 1 毫米的範圍內。在基底結構32的側面上裝有安裝板36，利用 該安裝板將蓋箔拉緊，並使蓋箔附著在基底結構上，因此蓋箔是可拆卸的。安裝板36設置 在軸42上的軸承中，因此安裝板可以旋轉。在閉合位置時(如圖所示)，安裝板36被插入 到基底結構中的磁鐵和固定部件36鎖定。另外，基底結構32在角區域中具有凹陷38。圖6顯示根據本發明一個實施例的本發明接受裝置的示意圖。接受裝置50包括 具有凹陷M的基底結構52。在此，確定凹陷M的尺寸，使得具有SBS標準格式的反應容器 能定位於凹陷M中。而且，接受裝置50在其角區域中具有銷56，該銷能與固定裝置的凹陷 38咬合。
權利要求
1.一種用於將樣品從溶液中結晶的反應容器(1)，所述反應容器(1)包括數個反應室 O)，其中各反應室⑵具有儲庫⑷和至少一個結晶空間(6)，其中第一反應室⑵的第一 側壁(8)通過連接間隔物(12)隔開一段間隔物距離與第二反應室O)的第二側壁(10)連 接，所述連接間隔物(1 設置在與反應容器(1)的側周表面(14)共享的平面上，該平面形 成反應容器(1)的平坦表面。
2.如權利要求1所述的反應容器(1)，其特徵在於，所述連接間隔物(12)的寬度在 ^ 1. 5毫米至 2毫米至 2. 5毫米 至彡3毫米的範圍內。
3.如權利要求1或2所述的反應容器(1)，其特徵在於，所述連接間隔物(12)優選在 中央具有凹槽(16)。
4.如上述權利要求中任一項所述的反應容器(1)，其特徵在於，所述凹槽(16)的寬度 在> 0. 2毫米至 0. 3毫米至< 0. 6毫米的範圍內，優選在 彡0. 4毫米至< 0. 5毫米的範圍內，以及/或者深度在彡0. 05毫米至< 0. 5毫米的範圍內， 特別在彡0. 1毫米至彡0. 4毫米的範圍內，優選在彡0. 2毫米至彡0. 3毫米的範圍內。
5.如上述權利要求中任一項所述的反應容器(1)，其特徵在於，所述連接間隔物(12) 在反應室O)的至少一個角上具有凹陷(18)。
6.如上述權利要求中任一項所述的反應容器(1)，其特徵在於，所述結晶空間(6)基本 上是橢圓形的。
7.一種用於遮蓋包括反應室的反應容器的蓋箔(20)，其中，所述蓋箔00)包括聚合 物層(22)，在該聚合物層0 上施加了粘合劑層(M)，粘合劑層04)中無粘合劑的區域 (26)的寬度優選在彡1.5毫米至< 7. 5毫米的範圍內，長度在彡1.5毫米至< 7. 5毫米的 範圍內。
8.一種將蓋箔施加到反應容器上的設備，其包括用於蓋箔的固定裝置(30)，該裝置包 括用於接受蓋箔的優選矩形的基底結構(32)，其中基底結構(32)的佔地區域(34)的寬度 優選在> 80毫米至 120毫米至< 135毫米的範圍內，其中在 基底結構(32)的至少兩個相對側上施加固定部件(36)，利用該固定部件(36)以拉緊的方 式將蓋箔粘附到基底結構上，其中基底結構(32)優選在角區域內具有至少兩個定位元件， 優選是凹陷(38)。
9.如權利要求8所述的設備，其特徵在於，將可彈性變形的安裝表面00)粘附在固定 裝置(30)的基底結構(32)上。
10.如權利要求8或9所述的設備，其特徵在於，將固定部件(36)設置在軸承中，使得 它們能繞軸G2)旋轉。
11.如上述權利要求中任一項所述的設備，其特徵在於，利用壓銷G4)將固定部件 (36)鎖定在開放位置，以及/或者利用基底結構(32)和固定部件(36)中的磁鐵將固定部 件(36)鎖定在閉合位置。
12.一種用於將蓋箔施加到反應容器上的設備，其包括用於反應容器的接受裝置 (50)，該裝置包括具有凹陷(54)的基底結構(52)，其中在接受裝置(50)的基底結構(52) 上設置了至少兩個定位元件，優選是銷型定位元件(56)，優選該定位元件能與如權利要求 8-11所述的固定裝置的定位元件，優選是凹陷(38)形成咬合，其中，凹陷(54)的尺寸應使得寬度在>80毫米至<90毫米範圍內的反應容器能定位於凹陷(54)中。
13.—種將蓋箔施加到反應容器上的設備，其包括如權利要求8-11所述的用於蓋箔的 固定裝置(30)和如權利要求12所述的用於反應容器的接受裝置(50)。
14.一種包含如權利要求1-6中任一項所述的反應容器(1)和蓋箔的系統。
15.一種包含反應容器、蓋箔和如權利要求8-13中任一項所述的用於將蓋箔安裝到反 應容器上的設備的系統。
全文摘要
本發明涉及一種用於將樣品從溶液中結晶的反應容器，以及該反應容器的蓋箔，以及安裝該蓋箔的設備。
文檔編號B01L3/00GK102149470SQ200980135911
公開日2011年8月10日 申請日期2009年9月8日 優先權日2008年9月10日
發明者B·金黑姆, J·庫比西克, R·達爾克 申請人:恰根有限公司