一種彩膜基板及其製作方法、顯示面板、顯示裝置與流程

2023-05-28 23:23:11

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種彩膜基板及其製作方法、顯示面板、顯示裝置。

背景技術：

薄膜電晶體液晶顯示面板(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)是目前常用的平板顯示器，液晶顯示面板以其體積小、功耗低、無輻射、解析度高等優點，被廣泛地應用於現代數字信息化設備中。

薄膜電晶體液晶顯示面板包括相對設置的陣列基板和彩膜基板、位於陣列基板和彩膜基板之間的液晶分子，以及位於陣列基板朝向彩膜基板一側的下取向膜和位於彩膜基板朝向陣列基板一側的上取向膜。其中，陣列基板包括若干陣列排列的薄膜電晶體，現有技術的薄膜電晶體通常採用低溫多晶矽(Low Temperature Poly-Silicon,LTPS)薄膜電晶體；彩膜基板，如圖1所示，包括黑矩陣11、若干陣列排列的紅色(R)光阻層12、綠色(G)光阻層13和藍色(B)光阻層14。

現有技術由於陣列基板包括的LTPS薄膜電晶體結構中存在過孔區，會導致下取向膜印刷後，在過孔周邊的下取向膜的厚度不均，當下取向膜的厚度不均區域延伸到像素開口區時會產生Mura不良，即產生小黑點不良。另外，針對高解析度(Pixel Per Inch，PPI)產品，其像素越來越小，會導致黑矩陣的寬度也隨之減小，這時會導致串色不良的發生。

技術實現要素：

有鑑於此，本發明實施例提供了一種彩膜基板及其製作方法、顯示面板、顯示裝置，用以改善小黑點不良和串色不良，並提升透過率。

本發明實施例提供的一種彩膜基板，包括襯底基板、位於所述襯底基板上若干陣列排列的彩色光阻層、位於相鄰兩所述彩色光阻層之間的黑矩陣；

至少一所述彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的所述黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域。

由本發明實施例提供的彩膜基板，由於該彩膜基板至少一彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域，因此與現有技術相比，當取向膜的厚度不均區域延伸到像素開口區而產生小黑點不良時，本發明實施例可利用空白透光區域能夠透過更多的光線來提升產生小黑點不良區域對應位置處的像素的透過率，進而改善小黑點不良的發生；另外，本發明實施例空白透光區域對應位置處可以透過背光白色的光線，在一定程度上能夠改善串色不良的發生，並能夠提高產品的透過率。

較佳地，每一所述彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的所述黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域。

較佳地，所述空白透光區域的形狀為框狀。

較佳地，所述空白透光區域的每一邊緣與該邊緣對應位置處的所述彩色光阻層的邊緣之間的距離相等。

較佳地，所述彩色光阻層包括紅色光阻層、綠色光阻層和藍色光阻層。

本發明實施例還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括上述的彩膜基板。

本發明實施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述的顯示面板。

本發明實施例還提供了一種彩膜基板的製作方法，包括：

在襯底基板上製作黑矩陣，以及若干陣列排列的彩色光阻層；

在至少一所述彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的所述黑矩陣的邊緣之間製作形成空白透光區域。

較佳地，在每一所述彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的所述黑矩陣的邊緣之間製作形成空白透光區域。

附圖說明

圖1為現有技術的彩膜基板的平面結構示意圖；

圖2為本發明實施例提供的一種彩膜基板的平面結構示意圖；

圖3為圖2中虛線方框區域的局部放大示意圖；

圖4為本發明實施例提供的另一種彩膜基板的平面結構示意圖；

圖5為本發明實施例提供的一種彩膜基板的製作方法流程圖。

具體實施方式

本發明實施例提供了一種彩膜基板及其製作方法、顯示面板、顯示裝置，用以改善小黑點不良和串色不良，並提升透過率。

為了使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本發明作進一步地詳細描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬於本發明保護的範圍。

下面結合附圖詳細介紹本發明具體實施例提供的彩膜基板。

附圖中各膜層厚度和區域大小、形狀不反應各膜層的真實比例，目的只是示意說明本發明內容。

如圖2所示，本發明具體實施例提供了一種彩膜基板，包括襯底基板20、位於襯底基板20上若干陣列排列的彩色光阻層21、位於相鄰兩彩色光阻層21之間的黑矩陣11；至少一彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域22，圖2中示出了部分彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域22。

圖2中虛線框對應位置的放大圖如圖3所示，由於小黑點不良發生在陣列基板側的過孔區域周邊對應的位置，該位置對應在彩膜基板上的位置如圖中31、32表示的位置處，圖中31位置處表示取向膜的厚度不均的位置，而取向膜的厚度不均區域若延伸到像素開口區，則會降低像素的透過率，進而會導致畫面不均勻。與現有技術相比，當取向膜的厚度不均區域延伸到像素開口區而產生小黑點不良時，本發明具體實施例由於在彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域22，因此可利用亮度較亮的空白透光區域22提升產生小黑點不良區域的像素的透過率，進而改善小黑點不良的發生。具體實施時，本發明具體實施例空白透光區域22的面積大小以及具體形狀設置根據實際生產工藝的產品設計、不良狀況以及用戶需求進行設定，如：在實際工藝過程中可能產生小黑點不良的對應位置處均設計空白透光區域22。

另外，串色不良是用戶在左右或上下視角觀察時，因陣列基板和彩膜基板對位不精確而在側視角觀察時看到另一彩色光阻層的顏色所引起的，由於本發明具體實施例在彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域，因此可以有效減少側視角觀看到另一彩色光阻層的顏色的情況，在一定程度上改善了串色不良的發生。與此同時，空白透光區域能夠增加背光白光的透過面積，進而提升了產品的透過率。

優選地，本發明具體實施例在每一彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域22，如圖4所示，本發明具體實施例中的彩色光阻層21包括紅色(R)光阻層12、綠色(G)光阻層13和藍色(B)光阻層14，當然，在實際生產過程中，彩色光阻層21還可以包括其它顏色的光阻層，如：黃色光阻層，本發明具體實施例並不對彩色光阻層的具體顏色做限定。由於本發明具體實施例在每一彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間存在空白透光區域22，因此能夠更進一步地改善小黑點不良和串色不良，並進一步提升透過率。

具體地，如圖2和圖4所示，本發明具體實施例中空白透光區域22的形狀為框狀，由於本發明具體實施例中的空白透光區域22在彩色光阻層21的邊緣與該彩色光阻層21對應位置處的黑矩陣11的邊緣之間，而實際生產過程中黑矩陣11的形狀一般為網格形，因此將空白透光區域22的形狀設置為框狀能夠降低生產工藝的複雜性，降低生產時間，降低生產成本。具體實施時，可以設計空白透光區域22的每一邊緣與該邊緣對應位置處的彩色光阻層21的邊緣之間的距離相等。

具體實施時，本發明具體實施例彩色光阻層21與黑矩陣11的具體設置方式與現有技術類似，這裡不再贅述；彩色光阻層21與黑矩陣11選擇的材料與現有技術相同，這裡不再贅述。

由於本發明具體實施例在彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域，因此空白透光區域會透過背光(白色光)，這時會影響顯示時的顏色坐標，而這個影響可以通過彩色光阻層材料的選擇以及厚度的設置進行彩色光阻層色坐標的調整，以使得調整後的色坐標與現有技術技術設計需求的色坐標相吻合。

本發明具體實施例以調整彩色光阻層的厚度的設置來調整彩色光阻層的色坐標為例，當然，實際生產過程中還可以通過其它的方式進行色坐標的調整，如通過光學色坐標的模擬，計算出需求的彩色光阻層色坐標要求。具體實施時，本發明具體實施例中綠色光阻層13的厚度大於紅色光阻層12的厚度，紅色光阻層12的厚度大於藍色光阻層14的厚度，而在顯示過程中，綠色光阻層13對應位置處的亮度最亮，藍色光阻層14對應位置處的亮度最弱，因此將綠色光阻層13的厚度設置為最厚，將藍色光阻層14的厚度設置為最薄，可以很好的對色坐標進行調整，能夠使得調整後的色坐標與現有技術技術設計需求的色坐標相吻合。

基於同一發明構思，本發明具體實施例還提供了一種顯示面板，該顯示面板包括本發明具體實施例提供的上述彩膜基板。由於本發明具體實施例提供的上述彩膜基板與現有技術相比，能夠改善小黑點不良和串色不良，並有較高的透過率，因此，本發明具體實施例的顯示面板也能夠改善小黑點不良和串色不良，並有較高的透過率。

另外，由於本發明具體實施例提供的彩膜基板在至少一彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域，因此本發明具體實施例的顯示面板在全暗態時的亮度值較現有技術有些微的提升，但是用戶一般關注的是顯示面板的對比度，即更關注的是全亮態時的亮度值與全暗態時的亮度值的比值，由於本發明具體實施例的顯示面板在全亮態時的亮度值也後有所提升，因此綜合考慮後，本發明具體實施例中空白透光區域幾乎不影響顯示面板的對比度。

基於同一發明構思，本發明具體實施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括本發明具體實施例提供的上述顯示面板，該顯示裝置可以為：手機、平板電腦、液晶電視、有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode，OLED)電視、筆記本電腦、數碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產品或部件。對於該顯示裝置的其它必不可少的組成部分均為本領域的普通技術人員應該理解具有的，在此不予贅述。

基於同一發明構思，如圖5所示，本發明具體實施例還提供了一種彩膜基板的製作方法，包括：

S501、在襯底基板上製作黑矩陣，以及若干陣列排列的彩色光阻層；

S502、在至少一所述彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的所述黑矩陣的邊緣之間製作形成空白透光區域。

具體地，本發明具體實施例在襯底基板上製作黑矩陣與彩色光阻層的方法與現有技術類似，這裡不再贅述。

優選地，本發明具體實施例在每一彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間製作形成空白透光區域，製作形成的空白透光區域的具體位置可以參見圖4所示。實際生產過程中，可以通過構圖工藝製作空白透光區域，構圖工藝包括光刻膠的塗覆、曝光、顯影、刻蝕以及去除光刻膠的部分或全部過程；在實際生產過程中，也可以通過其它工藝製作空白透光區域，本發明具體實施例並不對空白透光區域的具體製作方法做限定。

綜上所述，本發明具體實施例提供一種彩膜基板，包括襯底基板、位於襯底基板上若干陣列排列的彩色光阻層、位於相鄰兩彩色光阻層之間的黑矩陣；至少一彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域。與現有技術相比，當取向膜的厚度不均區域延伸到像素開口區而產生小黑點不良時，本發明具體實施例由於在至少一彩色光阻層的邊緣與該彩色光阻層對應位置處的黑矩陣的邊緣之間存在空白透光區域，因此本發明具體實施例可利用空白透光區域能夠透過更多的光線來提升產生小黑點不良區域對應位置處的像素的透過率，進而改善小黑點不良的發生；另外，本發明具體實施例的空白透光區域對應位置處可以透過背光白色的光線，在一定程度上能夠改善串色不良的發生，並能夠提高產品的透過率。

顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明權利要求及其等同技術的範圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。