全息窄帶帶阻濾光片及其製作工藝的製作方法

2023-05-29 05:29:16 1

專利名稱：全息窄帶帶阻濾光片及其製作工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種濾光片。
現有技術中，窄帶帶阻濾光片在光譜學研究，特別是喇曼光譜的研究中有重要的應用。它的主要特徵是在一定的光譜波段中濾去某一波長以及附近小範圍內的譜線，而使其他波長的光以儘可能高的透過率透過。它的主要光學性能指標以中心波長的光學密度和波長與透過率關係的半寬度表示。在窄帶帶阻濾光片的許多應用中，特別是在喇曼光譜的研究中，光學密度越高，半寬度越窄，則它的性能越優良。通常情況下，該濾光片的性能要求是光學密度大於4D，半寬度小於25納米。帶阻濾光片的製作方法有許多種，主要有染料吸收、多層介質鍍膜(幹涉濾光片)和反射全息濾光片，其中染料吸收型的很難達到窄帶帶阻濾光片要求，而幹涉濾光片很難達到高光學密度，通常在窄帶寬下(20nm)的光學密度為2D，另一方面幹涉濾光片製作成本相對比較高昂。
在反射全息濾光片中，利用反射衍射光即是帶通濾光片，利用透射光即是帶阻濾光片。反射全息濾光片的應用也體現在帶通和帶阻兩方面。已有的窄帶帶通濾光片的衍射效率在50％至90％之間，其透射光不能滿足高光學密度的要求，並且衍射效率隨波長的變化曲線常有波瓣出現，影響濾波性能；寬帶帶通濾光片的透射光顯然不適合窄帶帶阻濾光片的要求，並且其製作技術與窄帶帶阻濾光片的情況有很大的不同；全息雷射防護鏡是與窄帶帶阻濾光片較接近的一種，但雷射防護鏡一般有防護角要求，特性曲線的半寬度常在35nm以上；其他的一些反射全息元件(如全息平視顯示裝置、夜視儀中的全息光耦合器等)中人們所關心的是光學成象性能，特殊的光譜特性往往不在製作工藝中加以考慮。
一定的反射特性曲線與全息記錄介質的折射率調製的分布有關，而折射率調製的分布又與反射全息的製作工藝有關。最早的體全息理論——均勻介質耦合波理論與實驗結果有較大差異，而且按此理論不可能得到窄帶帶阻濾光片。目前已在理論和工藝上開展有效工作的有T.Kubota(參見T.Kubota，Controlof the reconstruction wavelength of Lippmann holograms recorded indichromated gelatin，Appl.Opt.1989，28(10)1845～1894)對均勻介質耦合波理論與實驗結果不符進行了較成功的解釋，他認為在介質內部折射率調製度和條紋密度的分布是不均勻的，他利用非均勻介質的耦合波方程推導出了有關衍射效率的Recatti方程，在假定非均勻模型的基礎上，對方程進行數值解得到了與實驗結果基本相符的衍射效率理論結果。P.G.Boj(參見P.G.Boj，J.Crespo，and J.A.Quintana，Broadband reflection holograms in dichromatedgelatin，Appl.Opt.，1992，31(17)3302～3305)利用Kubota的方法建立了他們自己的模型，分析了他們的寬帶反射全息的實驗結果，利用電子顯微鏡拍攝的照片證實了記錄介質內部的非均勻性，這是一種寬帶反射全息元件，不適合本發明要求的窄帶帶阻濾光片。Dahe Liu等(參見Daho Liu，Jing Zhou，Nonlinear analysis for reflection hologram，Optics Communication，1994，107471～479)也建立了一種特殊非均勻模型，並且分析了他們的工藝製作的實驗結果，這是一種窄帶反射帶通濾光片，其缺陷是光學密度較低。由於重鉻酸明膠處理工藝的複雜性，不同實驗室得出的實驗結果各有不同，非均勻模型也各不相同。
本發明的目的在於提供一種光學密度大於4D、帶寬小於20納米的全息窄帶帶阻濾光片及其製作工藝。
本發明的技術方案是一種全息窄帶帶阻濾光片，玻璃基片上塗敷有一層介質層，該介質層為記錄了平行於介質層表面的幹涉條紋的重鉻酸明膠層，所述的重鉻酸明膠層上塗敷有環氧樹脂層，所述的環氧樹脂層上粘結固定有封片玻璃，由重鉻酸明膠層製成的反射全息衍射層的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-G(zT)s]]>其中T為介質層厚度，z軸與介質層法向平行，在介質層與玻璃基片的界面處取z＝0，在介質層與環氧樹脂層的界面處取z＝T，n1是z＝T時的折射率調製度，p是z＝0時的折射率調製度與n1之比，G0是z＝0時的空頻相對於平均空頻的變化，ΔG是空頻相對平均空頻的最大變化量；r和s分別表示n1(z)和G(z)隨z變化的冪次。
為了達到上述的由重鉻酸明膠層製成的反射全息衍射層的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按所述的公式分布，所述的全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝包括下列步驟(1)、製備重鉻酸明膠液；(2)、在玻璃基片[2]上塗布感光液，流平後在攝氏溫度15-25度的條件下乾燥，形成介質層；(3)、在暗室條件下，對介質層進行全息記錄A調節兩束相干光的光強比，使兩束光強在重鉻酸明膠與空氣接觸表面的光強比為1；B在所述的重鉻酸明膠層上過曝光，曝光量為每平方釐米100-250毫焦；(4)、在暗室中對重鉻酸明膠層進行定影堅膜和顯影；(5)、將脫水後的介質層迅速用熱風吹乾；(6)、用環氧樹脂將封片玻璃層膠合於重鉻酸明膠之上，使所述的重鉻酸明膠層與空氣隔離。
本發明利用類似於Kubota的理論方法設計出了反射全息記錄介質內的折射率調製度分布，利用重鉻酸明膠全息記錄材料為實現該分布而發明了與之相適應的處理工藝，此發明具有以下優點(1)本發明設計的折射率調製層的折射率調製度分布可消除光譜特性曲線的波瓣效應，用本發明的工藝相匹配，按此分布規律製成的窄帶帶阻濾光片的半寬度在10nm以下，光密度可達6D以上。
(2)與本發明設計的分布相適應的處理工藝簡便易行，成功率較高，控制峰值波長準確。
下面結合附圖及實施例對本發明作進一步的描述附

圖1為本發明的產品結構剖視圖；其中[1]、重鉻酸明膠層；[2]、玻璃基片；[3]、環氧樹脂層；[4]、封片玻璃；附圖2為全息濾光片的記錄光路圖；附圖3為反射全息的測量光路圖；附圖4為T＝20μm時的衍射效率實驗曲線和相應的理論曲線，其中的實線是實驗曲線，虛線是理論曲線；附圖5為T＝30μm時的衍射效率實驗曲線和相應的理論曲線，其中的實線是實驗曲線，虛線是理論曲線；附圖6為T＝40μm時的衍射效率實驗曲線和相應的理論曲線，其中的實線是實驗曲線，虛線是理論曲線；附圖7給出了p＝1的衍射效率曲線；附圖8給出了p＝0.5的衍射效率曲線；附圖9給出了p＝0.1的衍射效率曲線；附圖10給出了峰值衍射效率η與膠層厚度T的關係圖；附圖11給出了峰值衍射效率η與最大折射率調製度n1的關係圖；附圖12給出了半寬度Δλh與膠層厚度T的關係圖；附圖13給出了半寬度Δλh與最大折射率調製度n1的關係圖；附圖14給出了r＝1時的等η線(η＝0.9999)和等Δλh線(Δλh＝20nm)關係圖；附圖15給出了r＝2時的等η線(η＝0.9999)和等Δλh線(Δλh＝20nm)關係圖；附圖16給出了r＝3時的等η線(η＝0.9999)和等Δλh線(Δλh＝20nm)關係圖；附圖17給出了折射率調製度分布和條紋密度分布設計的實施例一的特性曲線；附圖18給出了折射率調製度分布和條紋密度分布設計的實施例二的特性曲線；實施例參見附圖1，一種全息窄帶帶阻濾光片，玻璃基片[2]上塗敷有一層介質層，該介質層為記錄了平行於介質層表面的幹涉條紋的重鉻酸明膠層[1]，所述的重鉻酸明膠層[1]上塗敷有環氧樹脂層[3]，所述的環氧樹脂層[3]上粘結固定有封片玻璃[4]，由重鉻酸明膠層[1]製成的反射全息衍射層的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-G(zT)s]]>其中T為介質層厚度，z軸與介質層法向平行，在介質層與玻璃基片[2]的界面處取z＝0，在介質層與環氧樹脂層[3]的界面處取z＝T，n1是z＝T時的折射率調製度，p是z＝0時的折射率調製度與n1之比，G0是z＝0時的空頻相對於平均空頻的變化，ΔG是空頻相對平均空頻的最大變化量；r和s分別表示n1(z)和G(z)隨z變化的冪次。
為了滿足所述的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按上述的公式分布，全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝包括下列步驟(1)、製備重鉻酸明膠液A將明膠放入去離子水中浸泡，直至明膠完全吸水膨脹；B在攝氏溫度70-80度的條件下攪拌明膠，直至完全溶解形成明膠液；C在攝氏溫度49-51度的明膠液內加入重鉻酸銨溶液，製成重鉻酸明膠感光液；D用0.2微米孔徑的過濾器過濾所述的感光液，並消除所述的感光液內的氣泡；(2)、將攝氏溫度65-75度的玻璃基片[2]放置於水平平臺上，再將所述的感光液倒在玻璃基片[2]上，塗勻、自然流平後在攝氏溫度15-25度的條件下乾燥，形成介質層；(3)、在暗室條件下，對介質層進行全息記錄A調節兩束相干光的光強比，使兩束光強在重鉻酸明膠與空氣接觸表面的光強比為1；B在所述的重鉻酸明膠層上過量曝光，曝光量為每平方釐米100-250毫焦；(4)、在暗室中對重鉻酸明膠層進行定影和顯影；(5)、將脫水後的介質層熱風吹乾；(6)、用環氧樹脂將封片玻璃層[4]膠合於重鉻酸明膠之上，使所述的重鉻酸明膠層與空氣隔離。
所述的在暗室中對重鉻酸明膠層進行定影和顯影的工藝包括A用攝氏溫度15-25度的水衝洗所述的介質層，然後在去離子水中衝洗所述的介質層；B定影堅膜將所述的介質層浸入F5定影液中堅膜1-5分鐘，再用溫度15-25度的水衝洗；C第一次顯影所述的介質層浸入濃度為50％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水2-5分鐘；D第二次顯影所述的介質層浸入濃度為70％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水25分鐘；E第三次顯影所述的介質層浸入濃度為90-100％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水2-5分鐘。
所述的明膠液的濃度為每100毫升去離子水中含有5-6克明膠；所述的每100毫升明膠液中加入14-17毫升濃度為5％的重鉻酸按溶液。
參見附圖2的對介質層進行全息記錄光路圖，其中B.S.為分束鏡，M1和M2是反射鏡，SF1和SF2是空間濾波器，L1和L2為準直透鏡，DCG為重鉻酸明膠記錄幹板。記錄雷射是氬離子雷射器的488nm的雷射，幹涉條紋平行於介質表面。
反射全息的測量光路如圖3所示，整個光路置於一旋轉光具座上。白光點光源S經透鏡L3準直後入射至測試元件HOE，HOE放置在旋轉光具座的轉軸上，衍射光經L4會聚至積分球IS的入射窗口，積分球IS的另一個窗口接單色儀M和光電倍增管PMT，放大器A放大光電倍增管信號，計算機C控制單色儀M掃描和通過A/D板接收放大器A輸出的信號。測量時，先將HOE移去，使光具座的兩臂成一條直線，測試光源的光譜信號，然後再按圖3測量衍射信號。計算機將衍射信號與光源信號比較後得到衍射效率隨波長的變化曲線。此光路中採用積分球是為了減少兩次信號測量中由於光路不同而帶來的誤差。
設T為介質厚度，z軸與介質法向平行，在明膠與玻璃的界面處取z＝0，在明膠與空氣的界面處取z＝T。由實驗結果可得到折射率調製度n1(z)隨z單調增加；空頻的相對變化量G(z)＝[f(z)-f0]/f0隨z單調減小，其中f0為平均空間頻率，f(z)為z處的空頻。文獻[1](T.Kubota，Control of the reconstructionwavelength of Lippmann holograms recorded in dichromated gelatin，Appl.Opt.1989，28(10)1845～1894)和文獻[2](P.G.Boj，J.Crespo，and J.A.Quintana，Broadband reflection holograms in dichromated gelatin，Appl.Opt.，1992，31(17)3302～3305)得出n1(z)的二階導數小於零，即曲線向下凹。而本發明的理論與實驗分析結果卻是n1(z)的二階導數大於零，即曲線向上凹。根據以上要點可得下列非均勻模型(1)---n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>(2)---G(z)=G0-G(zT)s]]>其中n1是z＝T面的折射率調製度，p是z＝0面的折射率調製度與n1之比；G0是z＝0面上的空頻相對於平均空頻的變化，ΔG是空頻相對平均空頻的最大變化量；r和s分別表示n1(z)和G(z)隨z變化的冪次，反映介質的非均勻特性，它們與介質層厚度和處理工藝有關。
附圖4、附圖5、附圖6分別給出了T＝20μm、30μm和40μm的衍射效率實驗曲線和相應的理論曲線，附圖4、附圖5、附圖6中的λ是以納米為單位的入射光波長，η為衍射效率，圖中的實線是實驗曲線，虛線是理論曲線。由於玻璃和明膠的反射、吸收、散射對衍射效率有影響，所以理論計算時應按實驗曲線對理論衍射效率進行按比例修正。上述(1)式和上述(2)式的參數分別取為附圖4n1＝0.043，p＝0.15，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝2，s＝1；附圖5n1＝0.043，p＝0.05，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝3，s＝1；附圖6，n1＝0.045，p＝0.05，G0＝0.008，ΔG＝0.01，r＝3，s＝1。
從以上曲線看出理論曲線基本無次峰，與實驗曲線吻合較好，並且從所選的參數看折射率調製度在介質內的衰減較快，而且介質越厚衰減越快，即T越大，r也相應增大，介質中對衍射效率貢獻較大的僅在介質表面。在窄帶反射全息的情況下曲線基本對稱，條紋密度的變化很小。
窄帶帶阻濾光片的主要特性是低峰值透過率和窄帶寬，在理論計算時從互補性原理可從衍射效率得出峰值透過率。以下從理論上分析帶寬、衍射效率與介質非均勻性的關係。
(1)衍射效率曲線的波瓣。附圖7、附圖8、附圖9分別給出了p＝1、P＝0.5、P＝0.1的衍射效率曲線，其中，n1＝0.03，T＝20μm，G0＝0，ΔG＝0，r＝1，附圖7、附圖8、附圖9中的λ是以納米為單位的入射光波長，η衍射效率，從附圖看出p減小時波瓣減小，p＝0.1時波瓣基本消失，而p＝0.1也與實驗曲線基本吻合，所以以下理論計算中以p＝0.1為典型值。在其他r值下，也有類似結果。
在以下計算(2)至(4)中，取附圖4、附圖5、附圖6的實驗曲線的典型值G0＝0、ΔG＝0和p＝0.1。
(2)峰值衍射效率。峰值衍射效率η與重鉻酸明膠層厚度T(單位μm)和最大折射率調製度n1的關係分別如附圖10和附圖11所示，r為n1(z)隨z變化的冪次。顯然，η與T和n1的關係是單調遞增關係，並且在其他條件相同的條件下，r越大，η越小。
(3)衍射效率曲線的半寬度，參見附圖12和附圖13。半寬度Δλh與重鉻酸明膠層厚度T(單位μm)和最大折射率調製度n1的關係如附圖12和附圖13所示，附圖中的r為n1(z)隨z變化的冪次。附圖12中顯示了Δλh(單位nm)隨T的變化關係，雖然這一關係不是嚴格的單調關係，但在單調區間內的半寬度變化不大，總體上可以看成是單調遞增。特別應指出的是這裡非均勻介質和均勻介質有很大不同，r＝0時Δλh隨T單調遞減，而r＞0時Δλh隨T遞增。附圖13顯示Δλh隨n1單調遞增，並隨r的增大而減小。
(4)衍射效率與帶寬，參見附圖14、附圖15、附圖16，半寬度為Δλh，重鉻酸明膠層厚度為T(單位μm)，最大折射率調製度為n1，峰值衍射效率為η，有意義的理論分析是比較同一峰值衍射效率下的半寬度Δλh(單位nm)或同一半寬度下的峰值衍射效率η。附圖14、附圖15、附圖16分別給出了r＝1、2、3情況下的等η線(η＝0.9999)和等Δλh線(Δλh＝20nm)，其中的r為n1(z)隨z變化的冪次。顯然由以上(2)和(3)分析得到的單調性可知，n1和T在等η線上方取值時，衍射效率均大於0.9999，在等Δλh線下方取值半寬度均小於20nm，在此兩條線之間取值將能同時滿足峰值透過率小於10-4和半寬度小於20nm。比較附圖14、附圖15、附圖16三組曲線看出，r越小，兩條線交點所對應的T越小，兩條線包圍的面積越大。
由以上實驗曲線和理論模型可知，提高窄帶濾光片性能不能僅從增加重鉻酸明膠層厚度考慮，厚度的增加並不一定能提高濾光片性能，而且增加膠厚會給塗布和處理帶來困難。如果工藝上能使膠層的r值較小，那麼就能在較小的厚度下獲得高效率窄帶寬的濾光片。
以下是幾個折射率調製度分布和條紋密度分布設計的例子實施例一取n1＝0.016，p＝0.1，r＝1，T＝80μm，G0＝0，ΔG＝0，λ是以納米為單位的入射光波長，峰值衍射效率為η，得到的光學密度大於6D，半寬度小於9nm，理論特性曲線見附圖17。
實施例二取n1＝0.037，p＝0.1，r＝3，T＝50μm，G0＝0，ΔG＝0，λ是以納米為單位的入射光波長，峰值衍射效率為η，得到的光學密度大於4D，半寬度小於20nm，理論特性曲線見附圖18，實驗所得到的特性曲線與理論特性曲線基本吻合。
由以上分布設計可知，實現窄帶帶阻濾光片光學性能的關鍵是如何在工藝上實現折射率調製度按設計要求的非均勻分布。後處理後的重鉻酸明膠折射率調製度分布與許多因素有關，這些因素主要有重鉻酸明膠的預硬化程度，重鉻酸明膠中記錄的幹涉條紋的對比度分布，重鉻酸明膠的曝光量，重鉻酸明膠的後處理。其中的重鉻酸明膠預硬化和後處理又與諸多因素有關。由於重鉻酸明膠的備制和後處理的多因素相互關聯的複雜性，重鉻酸明膠全息光學元件的製作很難在一定的工藝條件下得到性能完全一致的光學元件，只有通過不斷調整工藝參數才能完成批量的元件製作。本發明認為以下幾個因素是製作窄帶帶阻濾光片的關鍵因素(1)塗布溫度與預硬化。重鉻酸明膠的預硬化與重鉻酸明膠塗布時的乾燥溫度有密切的關係，一般乾燥溫度越低重鉻酸明膠的硬化程度越高，如以後的曝光和處理條件相同，那麼明膠的折射率調製度越小。與重鉻酸明膠的其他預硬化方法相比，如曝光前烘烤和預曝光，控制乾燥溫度更為有效、便捷和具有較好的重複性。一定的重鉻酸明膠的預硬化程度與後面的其他工藝配合能有效的控制折射率調製度的非均勻分布情況，在理論設計中的r值與預硬化有相當大的關係。
(2)條紋對比度的控制。由以上理論設計可知，在明膠表面折射率調製度最高，雖然這一現象有許多因素引起，但曝光時幹涉條紋的對比度對此有較大影響。在本發明中，按重鉻酸明膠對所採用雷射的透過率，控制附圖2所示光路中兩束相干光的光強比，使重鉻酸明膠與空氣接觸表面的光強比為1。
(3)曝光量的控制。曝光量與明膠後處理前的硬化和最終的折射率調製度有關，也是控制折射率調製度非均勻性的重要方面。本發明中採用比按靈敏度計算的通常曝光量大2至3倍的大曝光量方法作為一個因素來控制非均勻性。
(4)預硬化和定影堅膜的相互協調控制。用F5定影液堅膜明膠能有效地控制折射率調製度和折射率調製度的非均勻性，這一堅膜作用與重鉻酸明膠的預硬化有關。這兩者之間的協調除與折射率調製度n1有關外，重要的是與理論關係式中的p有關，所以後處理和預硬化的協調控制也是製作窄帶帶阻濾光片的重要因素。
(5)在理論關係式中的折射率分布的空間頻率變化部分對濾光片的性能影響比較小，這一變化往往影響的是特性曲線的對稱性和使峰值波長略有變化，對稱性對濾光片的性能影響不大，峰值波長的變化可通過光路矯正。對摺射率分布的空頻變化本發明中未有工藝控制。
將附圖1所示的兩塊峰值波長差為0至2納米、半寬度差為0至3納米的窄帶帶阻濾光片明膠面相對膠合，可得到性能更好的窄帶帶阻濾光片。
權利要求
1.一種全息窄帶帶阻濾光片，玻璃基片[2]上塗敷有一層介質層，該介質層為記錄了平行於介質層表面的幹涉條紋的重鉻酸明膠層[1]，所述的重鉻酸明膠層[1]上塗敷有環氧樹脂層[3]，所述的環氧樹脂層[3]上粘結固定有封片玻璃[4]，其特徵在於由重鉻酸明膠層[1]製成的反射全息衍射層的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按下列公式分布n1(z)=n1[(1-p)(zT)r+p]]]>G(z)=G0-G(zT)s]]>其中T為介質層厚度，z軸與介質層法向平行，在介質層與玻璃基片[2]的界面處取z＝0，在介質層與環氧樹脂層[3]的界面處取z＝T，n1是z＝T時的折射率調製度，p是z＝0時的折射率調製度與n1之比，G0是z＝0時的空頻相對於平均空頻的變化，ΔG是空頻相對平均空頻的最大變化量；r和s分別表示n1(z)和G(z)隨z變化的冪次。
2.根據權利要求1所述的全息窄帶帶阻濾光片，其特徵在於將兩塊峰值波長差為0至2納米、半寬度差為0至3納米的全息窄帶帶阻濾光片明膠面相對膠合。
3.一種用於全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝，其特徵在於它包括下列步驟(1)、製備用作感光液的重鉻酸明膠液；(2)、將所述的感光液塗布於玻璃基片[2]上，流平後在攝氏溫度15-25度的條件下乾燥，形成介質層；(3)、在暗室條件下，對介質層進行全息記錄A調節兩束相干光的光強比，使兩束光強在重鉻酸明膠與空氣接觸表面的光強比為1；B在所述的重鉻酸明膠層上過量曝光，曝光量為每平方釐米100-250毫焦；(4)、在暗室中對重鉻酸明膠層進行定影堅膜和顯影；(5)、將脫水後的介質層熱風吹乾(6)、用環氧樹脂將封片玻璃層[4]膠合於重鉻酸明膠之上，使所述的重鉻酸明膠層與空氣隔離。
4.根據權利要求3所述的全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝，其特徵在於在暗室中對重鉻酸明膠層進行定影堅膜和顯影的工藝包括A用攝氏溫度15-25度的水衝洗所述的介質層，然後在去離子水中衝洗所述的介質層；B定影堅膜將所述的介質層浸入F5定影液中堅膜1-5分鐘，再用溫度15-25度的水衝洗；C第一次顯影所述的介質層浸入濃度為50％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水2-5分鐘；D第二次顯影所述的介質層浸入濃度為70％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水2-5分鐘；E第三次顯影所述的介質層浸入濃度為90-100％、攝氏溫度為23-27度的異丙醇內，脫水2-5分鐘。
5.根據權利要求3所述的全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝，其特徵在於製備重鉻酸明膠液包括如下步驟A將明膠放入去離子水中浸泡，直至明膠完全吸水膨脹；B在攝氏溫度70-80度的條件下攪拌明膠，直至完全溶解形成明膠液；C在攝氏溫度49-51度的明膠液內加入重鉻酸銨溶液，製成重鉻酸明膠感光液；D用0.2微米孔徑的過濾器過濾所述的感光液，並消除所述的感光液內的氣泡；
6.根據權利要求5所述的全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝，其特徵在於所述的明膠液的濃度為每100毫升去離子水中含有5-6克明膠；所述的每100毫升明膠液中加入14-17毫升濃度為5％的重鉻酸按溶液。
7.根據權利要求3所述的全息窄帶帶阻濾光片的製作工藝，其特徵在於在將所述的感光液塗布於所述的玻璃基片[2]工序中，把玻璃基片[2]加溫至攝氏溫度65-75度後放置於水平平臺上，再將所述的感光液倒在玻璃基片[2]上，塗勻、自然流平。
全文摘要
本發明涉及一種全息窄帶帶阻濾光片,玻璃基片(2)上塗敷有一層介質層,該介質層為帶有反射全息衍射層的重鉻酸明膠層(1),所述的重鉻酸明膠層(1)上塗敷有環氧樹脂層(3),所述的環氧樹脂層(3)上粘結固定有封片玻璃(4),其特徵在於:由重鉻酸明膠層(1)製成的反射全息衍射層的折射率調製度n1(z)、折射率變化空間頻率的改變G(z)按公式分布,按此分布規律製成的窄帶帶阻濾光片的半寬度在10nm以下,光密度可達6D以上。
文檔編號G02B5/26GK1252529SQ9911687
公開日2000年5月10日 申請日期1999年9月13日 優先權日1999年9月13日
發明者吳建宏, 唐敏學, 陳林森, 遊善紅, 徐穎 申請人:蘇州大學