透明導電膜玻璃的製作方法

2023-06-12 17:25:16 2

專利名稱：透明導電膜玻璃的製作方法
技術領域：
本發明涉及導電玻璃的製作方法，更具體地說，涉及一種薄透明導電膜玻璃的制
作方法。
背景技術：
透明導電膜玻璃被大量應用於平板顯示器件及新型觸控螢幕器件中。目前，平板顯 示行業對顯示器件的整體要求不斷提高。在繼續注重顯示性能的同時不斷向輕便時尚的方 向發展。更輕、更薄成為顯示行業技術發展的新熱點。在此前提下，作為平板顯示器件中一 個重要組件的氧化銦錫透明導電膜玻璃，其整體製作的輕薄化即顯得尤為重要。同時，作為 一種便捷輸入方式，電阻式觸控螢幕的應用越來越廣泛。電阻式觸控螢幕是由一對相距幾十微 米的透明導電膜及其透明載體構成，這種透明載體可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。當 筆尖或手指等硬物觸摸觸控螢幕幕時，兩層導電層在觸摸點位置就有了接觸，同時產生相應 的電信號。電阻式觸控螢幕從結構上可劃分為薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/玻璃幾大類 型。其中玻璃/玻璃型電阻式觸控螢幕以其優良的穩定性被廣泛應用於車載、軍用等顯示領 域。為了保證玻璃/玻璃型觸控螢幕的外側玻璃結構能夠被外界觸摸體輕鬆地按壓變形而發 送電信號，外側透明導電膜玻璃基板必須足夠薄。目前，一般採用的是厚度小於O. 3毫米的 超薄玻璃，業內普遍應用的是0. 21毫米的超薄玻璃。 綜上所述，當前無論是平板顯示器件還是電阻式觸控螢幕器件，都對作為其重要組 件的透明導電膜玻璃基板提出了新的輕薄性需求。超薄透明導電膜玻璃的傳統的製作方法 是，先製作0. 21毫米厚度的平板玻璃基板，然後在上述玻璃基板表面鍍透明導電膜。然而 該方法存在嚴重的缺點，首先厚度小於0. 3毫米素玻璃製造難度極高，其次厚度小於0. 3毫 米素玻璃真空鍍膜難度極高，在目前廣泛使用的真空鍍膜機上鍍膜時如此薄的玻璃破損率 很高。特殊的專用鍍膜機採用臥式方法在傳送膠輥的間隙對薄玻璃下表面鍍膜，玻璃傳送 帶及膠輥設計複雜，工藝及溫度要求苛刻，利用率低，生產效率低，不易大規模生產，從而鍍 膜費用也大大高於0. 4毫米或以上的玻璃。因此，現有厚度小於0. 3毫米的透明導電膜玻 璃生產成本十分昂貴。

發明內容
本發明要解決的技術問題在於，針對現有技術中薄透明導電膜玻璃生產成本高昂 的缺陷，提供一種低成本、高成品率的透明導電膜玻璃製作方法。 本發明解決上述技術問題採用的技術方案是提供一種透明導電膜玻璃的製作方 法，包括如下步驟 (a)在厚素玻璃基板的一面鍍以透明導電薄膜； (b)對厚素玻璃基板在步驟(a)中鍍了透明導電薄膜的面進行保護； (c)對厚素玻璃基板的另一面進行蝕刻減薄； (d)去除步驟(b)形成的保護，即製得超薄透明導電膜玻璃。
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在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(a)中的厚素玻璃是0.4毫米至1. 1毫米厚的玻璃。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(b)中的保護採用如下
方式之一抗腐蝕油墨塗布、光刻膠塗布、膠帶貼附、或者抗蝕刻膜材貼合。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(c)中的化學蝕刻減薄
方法為浸泡蝕刻或噴淋蝕刻。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(b)中的保護採用真空吸盤保護裝置。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(c)中的化學蝕刻減薄方法為噴淋蝕刻。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述步驟(d)中的薄透明導電玻璃厚度為0. 10毫米至0. 25毫米。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，所述素玻璃是鈉鈣玻璃或硼矽玻璃。 在本發明所述的透明導電膜玻璃的製作方法中，還包括將製得的薄透明導電膜玻璃的蝕刻面進行充分清洗。
實施本發明的透明導電膜玻璃的製作方法，具有以下有益效果 (1)傳統超薄素玻璃(0. 25毫米以下)加工工藝複雜，價格昂貴，本發明採用價格較低的厚玻璃(0.4毫米以上)作為基礎進行鍍膜加工，再減薄到O. 25毫米以下，降低了原料成本； (2)玻璃基板先鍍膜加工再進行化學蝕刻，因此鍍膜基板厚度可以達到0. 4毫米以上，可以避免鍍膜中玻璃破損，提高產品良率； (3)採用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導電膜玻璃真空鍍膜生產線製造，設備便宜、技術可靠、良品率高，因而生產成本低。 本發明的各種優點、各個方面和創新特徵以及其中所示例的實施例的細節，將在以下的描述和附圖中進行詳細介紹。


下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明，附圖中
圖1為本發明待減薄透明導電膜玻璃剖面示意圖2為本發明透明導電膜玻璃製作方法一實施例的工藝流程圖3為本發明一實施例減薄過程中採用的平板玻璃承載裝置的結構示意圖。
附圖標記統一說明如下1-平板玻璃2-透明導電膜3-化學防蝕刻保護層4_玻璃基板減薄部分31-真空吸盤32-傳輸輥33-導向滑輪34-平板玻璃35-閥門36-抽氣孔道
具體實施例方式
以下通過附圖和實施例，對本發明的技術方案做進一步的詳細描述。
圖1為本發明待減薄透明導電膜玻璃剖面示意圖。如圖所示，平板玻璃1上鍍有
透明導電膜2，該平板玻璃需要進行減薄的部分如圖中4所示，為了保護鍍膜面免受蝕刻液
侵蝕，故需要對透明導電膜2進行保護，即為圖中所示化學防蝕刻保護層3。在具體實施方
式中，該化學防蝕刻保護層3可以為保護膜，也可以為對透明導電膜2進行固定並保護的吸
附工具。 圖2為本發明透明導電膜玻璃製作方法一實施例的工藝流程圖。如圖2所示，在步驟201中，採用厚度大於0. 3毫米的厚素玻璃進行透明導電薄膜鍍膜，鍍膜方式可採用真空磁控濺射方法；在步驟202中，對製得的透明導電膜玻璃的鍍膜面進行化學蝕刻保護，保護方式可以是很多種，具體保護方式在下面實施例中進行介紹；在步驟203中，對透明導電膜玻璃的非鍍膜面進行化學蝕刻減薄；在步驟204中，去除保護層，對透明導電膜玻璃進行清洗後便可製得厚度小於0. 3毫米的超薄透明導電膜玻璃。
—具體實施例步驟如下 (A)採用厚度為0. 5毫米的素玻璃基板，以真空磁控濺射方法進行透明導電膜鍍膜；其中的厚素玻璃基板可以採用鈉鈣玻璃或者硼矽玻璃；
(B)在鍍膜玻璃的鍍膜面附上一層抗蝕刻保護膜； (C)將步驟B中保護了鍍膜面的導電膜玻璃的非鍍膜面進行化學蝕刻減薄；其中，
可根據化學蝕刻液的濃度以及蝕刻時間的不同來控制蝕刻厚度，直至得到0. 2毫米厚度的
透明導電膜玻璃。所採用的化學蝕刻方法可以是浸泡蝕刻或者噴淋蝕刻； (D)蝕刻完成後，去掉鍍膜面的保護層，清洗後便可得到0. 2毫米的超薄透明導電
膜玻璃。 在另一實施例中，針對上述步驟(B)中對鍍膜面的保護可採用如圖3所示的平板玻璃減薄承載裝置完成，本承載裝置包括真空吸盤31、傳輸棍32、導向滑輪33、閥門35以及抽氣孔道36。透明導電膜玻璃34即通過真空吸盤31進行吸附，並且該真空吸盤31能夠密封地全面覆蓋透明導電膜玻璃的鍍膜面，並通過該密封面吸附住透明導電膜玻璃。
吸附減薄流程如下將平板玻璃鍍膜面貼附於真空吸盤31上，隨即開啟閥門35並通過抽氣孔道36將真空吸盤31內的空氣抽出，直至接近真空狀態；關閉閥門35並切斷真空泵，通過真空吸盤31將平板玻璃34固定在承載裝置上進入噴淋隧道進行減薄操作；其中，所述承載裝置通過設置於真空吸盤上方以及下方的導向滑輪33和傳輸輥32在噴淋隧道內進行移動；減薄蝕刻流程結束後，開啟閥門35，恢復真空吸盤內的正常氣壓，將平板玻璃卸下；隨後只需進行清洗即可包裝入庫。 從上面實施例可以看出，在對鍍有透明導電膜的厚玻璃進行蝕刻的過程中，對鍍膜面的保護以及對整個透明導電膜玻璃的固定承載是最為核心的操作。實施例一採用的是現有技術中普遍採用的保護膜辦法，也即是說，對鍍膜面進行保護膜塗覆，並在蝕刻結束之後將該保護膜層去除。而第二個實施例則採用的是在固定並承載玻璃基板的同時能夠實現對玻璃無需蝕刻的有效區域進行保護的承載裝置，該種實施方式可以簡化蝕刻流程，並在一定程度上降低成本。 上面結合附圖對本發明的實施例進行了描述，但是本發明並不局限於上述的具體
5實施方式，上述的具體實施方式
僅僅是示意性的，而不是限制性的，本領域的普通技術人員 在本發明的啟示下，在不脫離本發明宗旨和權利要求所保護的範圍情況下，還可做出很多 形式，這些均屬於本發明的保護範圍。
權利要求
一種透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，包括如下步驟(a)在厚素玻璃基板的一面鍍以透明導電薄膜；(b)對厚素玻璃基板在步驟(a)中鍍了透明導電薄膜的面進行保護；(c)對厚素玻璃基板的另一面進行蝕刻減薄；(d)去除步驟(b)形成的保護，即製得超薄透明導電膜玻璃。
2. 根據權利要求l所述的透明導電玻璃的製作方法，其特徵在於，所述步驟(a)中的厚 素玻璃是0. 4毫米至1. 1毫米厚的玻璃。
3. 根據權利要求2所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述步驟(b)中的 保護採用如下方式之一抗腐蝕油墨塗布、光刻膠塗布、膠帶貼附、或者抗蝕刻膜材貼合。
4. 根據權利要求3所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述步驟(c)中的 化學蝕刻減薄方法為浸泡蝕刻或噴淋蝕刻。
5. 根據權利要求l所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述步驟(b)中的 保護採用真空吸盤保護裝置。
6. 根據權利要求5所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述步驟(c)中的化學蝕刻減薄方法為噴淋蝕刻。
7. 根據權利要求1 6中任一項所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述 步驟(d)中的薄透明導電玻璃厚度為0. 10毫米至0. 25毫米。
8. 根據權利要求7所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，所述素玻璃是鈉 鈣玻璃或硼矽玻璃。
9. 根據權利要求l所述的透明導電膜玻璃的製作方法，其特徵在於，還包括將製得的 薄透明導電膜玻璃的蝕刻面進行充分清洗。
全文摘要
本發明涉及一種透明導電膜玻璃的製作方法，更具體地說，涉及一種厚度小於0.3毫米的超薄透明導電膜玻璃的製作方法。所述製作方法包含以下步驟首先採用厚度大於0.3毫米的厚素玻璃進行透明導電膜薄膜鍍膜；然後保護透明導電膜玻璃的鍍膜面對其非鍍膜面進行化學蝕刻減薄；最後得到厚度小於0.3毫米的超薄透明導電膜玻璃。按照本發明的方法，可以採用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導電膜玻璃真空鍍膜生產線，並以價格較低的厚度大於0.4毫米的普通素玻璃作為原料來製造超薄透明導電膜玻璃，具有工藝簡單、設備便宜、技術可靠、玻璃不易破裂、良品率高及運行成本低的優點。
文檔編號C03C17/00GK101781092SQ20091010507
公開日2010年7月21日 申請日期2009年1月16日 優先權日2009年1月16日
發明者劉志斌, 張莉, 金弼 申請人:中國南玻集團股份有限公司