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反射陣列天線的製作方法

2023-05-28 09:11:31

專利名稱:反射陣列天線的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及反射陣列天線領域,更具體地說,涉及一種能夠防止翹曲的反射陣列天線。
背景技術:
反射陣列天線因其低剖面、低成本、易共形、易集成、易攜帶及隱蔽性好等優點,在衛星通信、深空探測等遠距離無線傳輸系統中得到廣泛應用。反射陣列天線中的反射面通常採用整塊金屬片、金屬塗層或者金屬薄膜來實現反射功能,若金屬薄板厚度大,則天線的成本就會增加,若為了降低成本減少金屬薄板的厚度,那麼厚度薄到一定程度,例如
0.01-0.03毫米,金屬片、金屬塗層或者金屬薄膜的長及寬遠遠大於其厚度。那麼在製備和實際應用時容易因為應力的作用發生翹曲,一旦出現翹曲,不僅使得整個天線的表面不平整,還會嚴重影響反射陣列天線的電氣性能,甚至無法收發信號。一方面降低了產品製備過程中的良率,造成大量浪費,另一方面也增大了產品使用後的維護成本。

實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題是,針對現有技術中反射面出現翹曲導致無法收發信號的缺陷,提供一種能夠防止翹曲的反射陣列天線。本實用新型的上述技術問題通過以下技術方案解決:提供一種反射陣列天線,包括用於對入射電磁波進行波束調製的功能板以及設置在所述功能板上的用於反射電磁波且防止翹曲的反射層,在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有防翹曲圖案的金屬層,所述防翹曲圖案能夠抑制所述反射層相對所述功能板發生翹曲。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有電導通特性的金屬層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有非電導通特性的金屬層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有細縫槽狀防翹曲圖案的
金屬層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述孔狀防翹曲圖案包括圓孔狀防翹曲圖案、橢圓孔狀防翹曲圖案、多邊形孔狀防翹曲圖案、三角形孔狀防翹曲圖案。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為具有金屬網格狀防翹曲圖案的金屬網格反射層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述金屬網格反射層由多片相互間隔的金屬片構成。在本實用新型所述的反射陣列天線中,單個金屬片的形狀為三角形或者多邊形。[0014]在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述單個金屬片的形狀為正方形。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述多片金屬片相互之間的間隔小於入射電磁波工作波長的二十分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述金屬網格反射層為由多條金屬線縱橫交錯構成的具有多個網孔的網狀結構。在本實用新型所述的反射陣列天線中,單個網孔的形狀為三角形或者多邊形。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述單個網孔的形狀為正方形或正六邊形。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述單個網孔的邊長小於入射電磁波工作波長的二分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述多條金屬線的線寬大於或等於0.0lmm0在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述金屬層為金、銀、銅、鋁、金合金、銀合金、銅合金、鋅合金或招合金製成。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述功能板包括兩個或兩個以上的功能板單元,所述反射層包括與功能板單元對應數量的反射單元,所述功能板單元與其對應的反射單元構成一個用於移相的移相單元;所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值小於360度。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述功能板為一層結構或由多個片層所構成的多層結構。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述功能板單元包括基板單元以及設置在所述基板單元一側的用於對入射電磁波產生電磁響應的人造結構單元。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元由陶瓷材料、高分子材料、鐵電材料、鐵氧材料或鐵磁材料製成。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述高分子材料為熱塑性材料。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述熱塑性材料為聚苯乙烯、聚丙烯、聚醯亞胺、聚乙烯、聚醚醚酮、聚四氟乙烯或環氧樹脂。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述人造結構單元為導電材料構成的具有幾何圖案的結構。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述導電材料為金屬或非金屬導電材料。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述金屬為金、銀、銅、金合金、銀合金、銅合金、鋅合金或鋁合金;所述非金屬導電材料為導電石墨、銦錫氧化物或摻鋁氧化鋅。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線還包括用於覆蓋所述人造結構單元的保護層。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述保護層為PS塑料、PET塑料或HIPS塑料。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述功能板單元由基板單元及其上開設的單元孔構成。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線用於將具有寬波束方向圖的電磁波調製成具有窄波束方向圖的電磁波。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線用於將具有窄波束方向圖的電磁波調製成具有寬波束方向圖的電磁波。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線用於改變電磁波方向圖的主波束指向。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述功能板為曲面狀或平面狀。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射層為曲面狀或平面狀。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形為三角形或多邊形。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形為等邊三角形、正方形、菱形、正五邊形、正六邊形或者正八邊形。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的二分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的四分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的八分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的十分之一。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線工作於Ku波段,所述基板單元厚度為0.5-4mm。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線工作於X波段,所述基板單元厚度為0.7-6.5mm。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線工作於C波段,所述基板單元厚度為l_12mm。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為0 300度。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為(Γ280度。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為0 250度。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為0 180度。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線為發射天線、接收天線或收發兩用天線。在本實用新型所述的反射陣列天線中,所述反射陣列天線為衛星電視接收天線、衛星通信天線、微波天線或雷達天線。[0054]本實用新型的技術方案,具有以下有益效果:通過設計反射層的防翹曲圖案,使得本實用新型的反射陣列天線的反射層不僅能夠在反射天線所在工作頻段內的電磁波,而且具有防止翹曲的功能。通過設計反射層來減少反射層的整體覆蓋率,從而釋放了功能板與反射層之間的應力,這也就避免了翹曲現象的出現。

下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步詳細說明,附圖中:圖1是本實用新型反射陣列天線一較佳實施方式的立體結構示意圖;圖2是為由多個橫截面圖形為正六邊形的基板單元所構成的功能板的正視示意圖;圖3是圖1所示的反射陣列天線的側視示意圖;圖4是反射層一較佳實施方式的結構示意圖;圖5是平面雪花狀的人造結構單元所構成的移相單元的示意圖;圖6是圖5所示的人造結構單元的一種衍生結構;圖7是圖5所示的人造結構單元的一種變形結構;圖8是平面雪花狀的人造結構單元幾何形狀生長的第一階段;圖9是平面雪花狀的人造結構單元幾何形狀生長的第二階段。圖10是本實用新型另一種結構的人造結構單元構成的移相單元的示意圖;圖11是本實用新型另一種結構的人造結構單元構成的移相單元的示意圖;圖12是圖5所示的人造結構單元所構成的移相單元的移相量隨結構生長參數S的變化曲線圖;圖13是圖10所示的人造結構單元的生長方式示意圖;圖14是圖10所示的人造結構單元所構成的移相單元的移相量隨結構生長參數S的變化曲線圖;圖15是圖11所示的人造結構單元的生長方式示意圖;圖16是圖11所示的人造結構單元所構成的移相單元的移相量隨結構生長參數S的變化曲線圖;圖17a為三角形金屬片狀的人造結構單元的示意圖;圖17b為正方形金屬片狀的人造結構單元的示意圖;圖17c為圓形金屬片狀的人造結構單元的示意圖;圖17d為圓形金屬環狀的人造結構單元的示意圖;圖17e為方形金屬環狀的人造結構單元的示意圖;圖18為初級饋源方向圖;圖19為寬波束方向圖經本實用新型反射陣列天線調製後的窄波束方向圖;圖20為經本實用新型的反射陣列天線改變電磁波主波束指向的方向圖;圖21為網格結構的金屬網格反射層的結構示意圖;圖22是本實用新型具有多層功能板調製電磁波輻射方向圖的反射陣列天線的結構示意圖;圖23為一種形式的移相單元的結構示意圖;圖24為另一種形式的移相單元的結構示意圖;圖25、26為具有細縫槽狀防翹曲圖案的反射層示意圖;[0085]圖27-30為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層的示意圖;圖31-32為反射陣列天線的反射層是金屬片構成的金屬網格反射層的Sll參數示意圖;圖33-34為反射陣列天線的反射層是具有多個正方形網孔的金屬網格反射層的Sll參數示意圖;圖35為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層的示意圖;圖36-37為反射陣列天線的採用圖35所示的反射層的S參數示意圖;圖38是圖5所示的人造結構單元所構成的另一種結構的移相單元的移相量隨結構生長參數S的變化曲線圖。
具體實施方式
請參照圖1,圖1為本實用新型反射陣列天線一較佳實施方式的立體結構示意圖。圖1中,該反射陣列天線包括用於對入射電磁波進行波束調製的功能板I以及設置在功能板I 一側的用於反射電磁波且防止翹曲的反射層2。本實用新型中,反射層2為具有防翹曲圖案的金屬層,所述防翹曲圖案能夠抑制所述反射層相對所述功能板發生翹曲。例如,反射層2為具有細縫槽狀防翹曲圖案的金屬層;反射層2還可以為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層。這裡的孔狀防翹曲圖案包括但不限於圓孔狀防翹曲圖案、橢圓孔狀防翹曲圖案、多邊形孔狀防翹曲圖案、正多邊形孔狀防翹曲圖案、三角形孔狀防翹曲圖案。從是否電導通的角度來劃分,本實用新型的反射層2可以為具有電導通特性的金屬層,也可以為具有非電導通特性的金屬層。下文中給出了多個反射層的例子,具有細縫槽狀防翹曲圖案的金屬層、具有孔狀防翹曲圖案的金屬層均為電導通的,因此,圖25-30均為具有電導通特性的金屬層。圖4示出的金屬網格反射層為具有非電導通特性的金屬層,圖21示出的金屬網格反射層為具有電導通特性的金屬層。這裡的電導通是指,金屬層上金屬之間是連通的;如果金屬層上金屬未連通,則是非電導通的,如圖4所示。電導通概念是電路設計領域公知的概念,因此不再詳細描述。優選的反射層2設計是,反射層2為具有金屬網格狀防翹曲圖案的金屬網格反射層。通過設計反射層2的防翹曲圖案,來減少反射層2在功能板上的金屬覆蓋率,從而釋放了功能板I與反射層2之間的應力,這也就避免了翹曲現象的出現。本實用新型中,金屬網格反射層可以由多片相互間隔的金屬片構成,每一金屬片的長寬值和厚度值的差異減小,從而減小產品應力,避免反射層翹曲。然而由於各金屬片之間存在縫隙,如果縫隙的寬度過寬會使得電磁波被網格狀反射板反射時產生柵瓣效應,給反射陣列天線性能帶來影響,而如果縫隙的寬度過窄則會使得每一金屬片的長寬值與厚度值的差異增大,不利於應力的釋放。優選地,所述多片金屬片相互之間的間隔小於入射電磁波工作波長的二十分之本實用新型中,單個金屬片的形狀為三角形或者多邊形或不規則形狀。在一優選實施例中,如圖4所不,所述金屬網格反射層WG由多片相互間隔的金屬片4構成,單個金屬片形狀為正方形。[0099]對反射陣列天線中的反射層是圖4所示的金屬網格反射層WG進行仿真,正方形金屬片的邊長為19mm,兩金屬片之間的槽縫寬度為0.5mm,對應的反射係數Sll仿真圖如圖31-32所示。在工作頻段11.7 12.2GHz範圍內,當頻率為11.7GHz時,Sll=0.0245dB,當頻率為 12.2GHz 時,Sll=0.0245dB。圖35示出了一種具有不相同金屬片的反射層,黑色顯示的部分為金屬,其它空白部分為開設的槽。如圖所示,包含正方形金屬片以及十字形金屬片,金屬片之間間隔有槽縫。實際上也可以認為是具有細縫槽狀防翹曲圖案的反射層,在整片金屬層上開設有附圖35所示的方形槽,並在相鄰方形槽的相鄰平行邊的中點之間開設直線槽,就構成了圖中的反射層設計方案。對反射陣列天線中的反射層是圖35所示圖案的反射層進行仿真,正方形金屬片的邊長為6.9mm,兩相鄰正方形金屬片和十字形金屬片之間的槽縫寬度為0.2mm ;兩相鄰十字形金屬片之間的槽縫寬度為0.2mm,槽縫長度為1.75mm。對應的反射係數Sll仿真圖如圖36-37所示。在工作頻段11.7 12.2GHz範圍內,當頻率為11.7GHz時,Sll=0.0265dB,當頻率為 12.2GHz 時,Sll=0.022669dB。在另一優選實施例中,如圖21所示,所述金屬網格反射層WG為由多條金屬線縱橫交錯構成的具有多網孔的網狀結構,圖中多條金屬線分為縱向金屬線ZX及橫向金屬線HX,縱向金屬線ZX與橫向金屬線HX之間形成多個網孔WK,單個網孔WK的形狀可為三角形或者多邊形。並且所有網孔WK的形狀可以相同,也可以不同。在圖21所示的實施例中,優選地,所有網孔WK的形狀均為正方形,縱向金屬線ZX與橫向金屬線HX的線寬相同。所述單個網孔的邊長小於二分之一波長,所述多條金屬線的線寬大於或等於0.0lmm0優選地,所述單個網孔的邊長為0.0lmm至入射電磁波工作波長的二分之一,所述多條金屬線的線寬為0.0lmm至入射電磁波工作波長的5倍。對反射陣列天線中的反射層是圖21所示的金屬網格反射層WG進行仿真,正方形網孔的邊長為1_,金屬線線寬為0.8_。對應的反射係數Sll仿真圖如圖33-34所示。在工作頻段11.7 12.2GHz範圍內,當頻率為11.7GHz時,Sll=0.01226dB,當頻率為12.2GHz時,Sll=0.01308dB。以上的仿真結果顯示,採用本實用新型的反射層設計方案,反射係數Sll幾乎接近於零,也就是說,電磁波基本上能夠全反射,不僅解決了翹曲的問題,而且電氣性能和反射性能不受影響。對於邊長為450mm的反射陣列天線,下面針對覆全銅的反射層、圖4、圖21、圖35所示的反射層的翹曲情況進行對比。覆全銅的反射層對應的翹曲率為3.2%,即反射陣列天線邊緣的最大變形量為14.4mm。圖4所示的正方形方片對應的翹曲率為2.6%,即反射陣列天線邊緣的最大變形量為11.7_。圖35所示的不相同金屬片構成的具有一定寬度槽縫的反射層,其對應的翹曲率為2.4%,即反射陣列天線邊緣的最大變形量為10.8_。圖21所示的多條金屬線構成的具有正方形網孔的結構,對應的翹曲率為0.81%,即反射陣列天線邊緣的最大變形量為3.65mm。可以看出,金屬覆蓋率越大,對應的翹曲率越高,因此,合理地設計反射層的圖案,在滿足天線電氣性能和反射需求的情況下儘可能地減少金屬的覆蓋率,那麼翹曲現象就會減少甚至消除。圖25、26示出了反射層2為具有細縫槽狀防翹曲圖案的金屬層設計,在整塊金屬薄板或金屬塗層上設計多個如圖25-26所示的細縫槽XFC,細縫槽XFC陣列排布,圖中黑色部分為金屬,空白位置均為細縫槽。在滿足反射陣列天線電氣性能和反射性能的前提下,也實現了防翹曲的作用。當然可以依據此思想設計出其它形態和排布的細縫槽狀防翹曲圖案,只要滿足天線所需的反射性能以及電氣性能即可。反射層2還可以為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層。圖27-30示出了反射層2為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層設計。孔狀防翹曲圖案包括圓孔狀防翹曲圖案KZ(如圖27)、橢圓孔狀防翹曲圖案KZ (如圖28)、多邊形孔狀防翹曲圖案KZ (如圖29以正六邊形為例)、三角形孔狀防翹曲圖案KZ (如圖30以正三角形為例)。圖中細縫以及孔的數量以及排布和大小本實用新型不做限制,只要能夠滿足天線的電氣性能以及反射需求即可。由圖1可知,功能板I包括兩個或兩個以上的功能板單元10,所述反射層2包括與功能板單元10對應數量的反射單元20,所述功能板單元10與其對應的反射單元20構成一個用於移相的移相單元100。可以理解的是,反射陣列天線整體可由多個獨立的移相單元100拼接而成,也可由一整塊功能板I與一整塊反射層2構成。入射到移相單元100的電磁波穿過所述功能板單元10後由所述反射單元20反射,經反射的電磁波再次穿過所述功能板單元10後出射,出射時的相位與入射時的相位的差值的絕對值為移相量。所有移相單元100的最大移相量與最小移相量的差值小於360度,設計每一移相單元100的移相量以實現預期的電磁波輻射方向圖。本實用新型的反射陣列天線,其功能板可以為圖1所示的一層結構也可以是由多個片層所構成的多層結構,多個片層之間可採用膠水粘接,或者採用機械方式連接,如螺栓連接或者卡扣連接。如圖22所示,為一種形式的多層結構的功能板1,該功能板I包括三個片層11。當然圖22隻是示意性地,本實用新型的功能板I還可以是由兩個片層構成的兩層結構或者是由四個以上的片層構成的多層結構。單個移相單元的移相量,可以通過下述方法測量獲得:將所要測試的移相單元,在空間中進行周期排列形成足夠大的組合,足夠大是指形成的周期組合的尺寸應遠遠大於所要測試移相單元的尺寸,例如形成的周期組合包括至少100個所要測試的移相單元。用平面波垂直角度入射該周期組合,用近場掃描設備掃描近場電場相位分布,根據出射相位分布Θ,代入陣列理論公式:
0 = — a sin θ;
A可得出所測試移相單元移相量,其中0表示要測試的移相單元的移相量,λ表示平面波的波長,a表示移相單元的邊長(即基板單元的橫截面圖形的邊長,Θ表示出射的相位)。同樣方法,對所有移相單元進行測量,可以得到反射陣列天線的移相量分布。本實用新型的反射層2如圖1和圖3所示緊密貼附於功能板I 一側表面設置,例如通過膠水粘結、機械連接等多種常用的連接方式來實現緊密貼附於功能板I一側表面。本實用新型的功能板單元有兩種實現方案,如下:第一種方案是,如圖1,功能板單元10包括基板單元V以及設置在所述基板單元V一側的用於對入射電磁波產生電磁響應的人造結構單元M。人造結構單元M可以直接附著在基板單元V的表面,如圖23所示。當然,人造結構單元M也可以與基板單元V的表面間隔設置,例如人造結構單元M可以通過杆支撐在基板單元上。基板單元V的橫截面圖形可以有多種形式。比較典型的基板單元的橫截面圖形可為三角形或多邊形,優選地,基板單元的橫截面圖形為等邊三角形、正方形、菱形、正五邊形、正六邊形或者正八邊形,圖1中示出了橫截面圖形為正方形的基板單元;圖2示出了由多個橫截面圖形為正六邊形基板單元所構成的功能板I的正視示意圖。基板單元的橫截面圖形優選為等邊三角形、正方形、菱形、正五邊形、正六邊形或者正八邊形,基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的二分之一,優選地,基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的四分之一;更為優選地,基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的八分之一;更為優選地,基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的十分之一。基板單元可由陶瓷材料、高分子材料、鐵電材料、鐵氧材料或鐵磁材料製成,高分子材料可為熱塑性材料,熱塑性材料可選擇聚苯乙烯、聚丙烯、聚醯亞胺、聚乙烯、聚醚醚酮、聚四氟乙烯或環氧樹脂。人造結構單元可為導電材料構成的具有幾何圖案的結構,導電材料可為金屬或非金屬導電材料,所述金屬為金、銀、銅、金合金、銀合金、銅合金、鋅合金或招合金;所述非金屬導電材料為導電石墨、銦錫氧化物或摻鋁氧化鋅。人造結構單元的加工方式可以有多種,可通過蝕刻、電鍍、鑽刻、光刻、電子刻或離子刻的方法分別附著在基板單元上。人造結構單元M能夠對入射電磁波產生電磁響應,此處的電磁響應可以是電場響應,也可以是磁場響應,或者是既有電場響應又有磁場響應。為了保護人造結構單元,在本實用新型的另一個實施例中,人造結構單元上還可覆蓋有保護層,保護層可為PS塑料、PET塑料或HIPS塑料。第二種方案是,功能板單元10由基板單元V及其上開設的單元孔K構成,單元孔可以具有規則的橫截面形狀也可是具有不規則的橫截面形狀,單元孔可以是通孔也可以是盲孔,通過單元孔的不同形狀、體積來控制移相單元的移相量。由此種方案的功能板單元所構成的移相單元如圖24所示。本實用新型的反射陣列天線可以根據實際的應用場景來設計具體的形狀,因此,功能板I與反射層2可為平面狀也可根據實際需要製成曲面狀。為了達到調製電磁波輻射方向圖的目的,首先找出本實用新型所述反射陣列天線的每一移相單元對應的移相量,也就是說要獲得或者設計出反射陣列天線上的移相量分布情況。以下描述每一移相單元移相量的一種設計方法,應當理解的是,下述方法只是輔助說明性的,並不用以限定本實用新型,實際上,對本領域的技術人員來說,通過閱讀本實用新型還可以通過其它常規的設計方法來實現預期的移相量分布。每一移相單元移相量的一種設計方法包括如下步驟:S1、設置每一移相單元的移相量的變化範圍,構造η個移相單元的移相量的向量空間 ;設置預期的電磁波輻射方向圖對應的參數指標。這裡的參數指標主要是指影響到電磁波輻射方向圖的主要技術指標,不同的應用場景下,關注的技術指標是不同的,例如,可以是半功率波束寬度等。S2、對所述移相量的向量空間Θ進行抽樣,生成m(m〈n)個移相單元的抽樣向量空間 ο ;這裡的抽樣可以是常用的各種抽樣方法,例如隨機抽樣、系統抽樣等。S3、依據所述抽樣向量空間,通過插值方法計算剩餘n-m個移相單元的移相量,生成η個移相單元的新的移相量的向量空間 i ;插值方法可以是高斯過程插值法、樣條長治方法等。S4、計算Oi對應的參數指標,判斷計算的參數指標是否滿足預設要求,若是,則 i即為滿足需要的移相量的向量空間;若否,則通過預設的優化算法生成新的抽樣向量空間,並通過插值方法生成新的移相量的向量空間 i+1,循環執行直至滿足預設要求。預設的優化算法可以是模擬退火、遺傳算法、禁忌搜索等算法。預設要求可以包括例如參數指標的閾值以及精度的範圍。通過上述的方法可以得到我們需要的每一移相單元的移相量分布情況,根據移相量的分布情況再結合我們要使用的技術方案類型來確定具體的設計。例如,如果採用由基板單元及人造結構單元構成的功能板單元來實現入射電磁波方向圖的調製,那麼就需要找出能夠滿足移相量分布的人造結構單元的形狀、尺寸信息的對應關係;如果採用由基板單元及單元孔構成的功能板單元來實現入射電磁波方向圖的調製,則需要找出能夠滿足移相量分布的孔的形狀、尺寸信息的對應關係。採用由基板單元及人造結構單元構成的功能板單元來實現入射電磁波方向圖的調製,合理設計每一移相單元上的人造結構單元的形狀、幾何尺寸,可以設計出所述反射陣列天線上每一移相單元的移相量,從而實現預期的電磁波輻射方向圖。給定反射陣列天線的工作頻段,確定好基板單元的物理尺寸、材料及電磁參數,以及人造結構單元的材料、厚度及拓撲結構,利用仿真軟體,如CST、MATLAB, COMSOL等,可以獲得移相單元的移相量隨人造結構單元幾何形狀生長的變化曲線,即可得到連續變化的移相單元與移相量的對應關係,即獲得該種形態的移相單元最大移相量與最小移相量。本實施例中,移相單元的結構設計可通過計算機仿真(CST仿真)得到,具體如下:(I)確定基板單元的材料。基板單元的材料,例如為FR_4、F4b或PS等。(2)確定基板單元的形狀及物理尺寸。例如,基板單元可為橫截面圖形為正方形的方形薄片,基板單元的物理尺寸由工作頻段的中心頻率得到,利用中心頻率得到其波長,再取小于波長的二分之一的一個數值做為基板單元橫截面圖形的邊長,例如基板單元橫截面圖形的邊長為工作頻段的中心頻率所對應的電磁波波長的十分之一。基板單元的厚度根據反射陣列天線的工作頻段有所不同,如反射陣列天線工作於Ku波段時,基板單元的厚度可取0.5-4mm ;反射陣列天線工作於C波段時,基板單元的厚度可取1_12_ ;反射陣列天線工作於X波段時,基板單元的厚度可取0.7-6.5mm ;例如在,ku波段下,基板單元的厚度可取為Imm0(3)確定人造結構單元的材料、厚度及拓撲結構。例如,人造結構單元的材料為銅,人造結構單元的拓撲結構可為圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元,所述的雪花狀的人造結構單元具有相互垂直平分的第一金屬線Jl及第二金屬線J2,所述第一金屬線Jl與第二金屬線J2的長度相同,所述第一金屬線Jl兩端連接有相同長度的兩個第一金屬分支F1,所述第一金屬線Jl兩端連接在兩個第一金屬分支Fl的中點上,所述第二金屬線J2兩端連接有相同長度的兩個第二金屬分支F2,所述第二金屬線J2兩端連接在兩個第二金屬分支F2的中點上,所述第一金屬分支Fl與第二金屬分支F2的長度相等;此處的拓撲結構,是指人造結構單元幾何形狀生長的基礎形狀。人造結構單元的厚度可為0.005-1_。例如為
0.018mm。(4)確定人造結構單元的幾何形狀結構生長參數,此處用S表示。例如,如圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元的幾何形狀結構生長參數S可以包括人造結構單元的線寬W,第一金屬線Jl的長度a,第一金屬分支Fl的長度b。(5)確定人造結構單元的幾何形狀的生長限制條件。例如,如圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元的人造結構單元的幾何形狀的生長限制條件有,人造結構單元之間的最小間距WL(如圖5所示,人造結構單元與基板單元的邊的距離為WL/2),人造結構單元的線寬W,以及第一金屬分支與第二金屬分支之間的最小間距,此最小間距可以與人造結構單元之間的最小間距WL保持一致;由於加工工藝限制,WL通常大於等於0.1mm,同樣,線寬W通常也是要大於等於0.1mm。第一次仿真時,WL可以取0.1mm,W可以取一定值(即人造結構單元的線寬均勻),例如0.14mm或0.3mm,此時人造結構單元的幾何形狀結構生長參數只有
a、b兩個變量,令結構生長參數S = a+b。人造結構單元的幾何形狀通過如圖8至圖9所示的生長方式,對應於某一特定中心頻率(例如11.95GHZ),可以得到一個連續的移相量變化範圍。以圖5所示的人造結構單元為例,具體地,所述人造結構單元的幾何形狀的生長包括兩個階段(幾何形狀生長的基礎形狀為圖5所示的人造結構單元):第一階段:根據生長限制條件,在b值保持不變的情況下,將a值從最小值變化到最大值,此時b=0,S=a,此生長過程中的人造結構單元均為「十」字形(a取最小值時除外)。a的最小值即為線寬W,a的最大值為(BC-WL)。因此,在第一階段中,人造結構單元的幾何形狀的生長如圖8所示,即從邊長為W的正方形JX1,逐漸生長成最大的「十」字形幾何形狀JDl。第二階段:根據生長限制條件,當a增加到最大值時,a保持不變;此時,將b從最小值連續增加到最大值,此時b不等於0,S=a+b,此生長過程中的人造結構單元均為平面雪花狀。b的最小值即為線寬W,b的最大值為(BC-WL-2W)。因此,在第二階段中,人造結構單元的幾何形狀的生長如圖9所示,即從最大的「十」字形幾何形狀JD1,逐漸生長成最大的平面雪花狀的幾何形狀JD2,此處的最大的平面雪花狀的幾何形狀JD2是指,第一金屬分支Jl與第二金屬分支J2的長度b已經不能再伸長,否則第一金屬分支與第二金屬分支將發生相交。應用上述方法對如下三種人造結構單元進行仿真:(I)圖5所示為平面雪花狀的人造結構單元構成的移相單元,該移相單元的第一種結構中,基板單元V的材料為聚苯乙烯(PS),其介電常數為2.7,損耗角正切為0.0009 ;基板單元V的物理尺寸為,厚度2mm,橫截面圖形為邊長為2.7mm的正方形;人造結構單元的材料為銅,其厚度為0.018mm ;反射單元的材料為銅,其厚度為0.018mm ;此處,結構生長參數S為第一金屬線Jl的長度a與第一金屬分支Fl的長度b之和。具有此人造結構單元的移相單元的生長方式請參見圖8至圖9 ;具有此結構的人造結構單元的移相單元其移相量隨結構生長參數S的變化如圖12所示。從圖中可以看出,移相單元的移相量是隨著S參數的連續增大連續變化的,該移相單元的移相量的變化範圍大概在10-230度,其最大移相量與最小移相量的差值約為220度,小於360度。在該移相單元的第二種結構中,僅改變基板單元V橫截面圖形為邊長為8.2mm的正方形,其它參數不變,具有該種結構的人造結構單元的移相單元其移相量隨結構生長參數S的變化如圖38所示;從圖中可以看出,該移相單元的移相量是隨著S參數的連續增大連續變化的,該移相單元的移相量的變化範圍大概在275-525度,其最大移相量與最小移相量的差值約為250度,仍然小於360度。(2)如圖10所示為另一種形式的人造結構單元構成的移相單元,該人造結構單元具有相互垂直平分的第一主線Zl及第二主線Z2,第一主線Zl與第二主線Z2形狀尺寸相同,第一主線Zl兩端連接有兩個相同的第一直角折角線ZJ1,第一主線Zl兩端連接在兩個第一直角折角線ZJl的拐角處,第二主線Z2兩端連接有兩個第二直角折角線ZJ2,第二主線Z2兩端連接在兩個第二直角折角線ZJ2的拐角處,第一直角折角線ZJl與第二直角折角線ZJ2形狀尺寸相同,第一直角折角線ZJ1、第二直角折角線ZJ2的兩個角邊分別平行於正方形基板單元的兩個邊,第一主線Z1、第二主線Z2為第一直角折角線ZJ1、第二直角折角線ZJ2的角平分線。該移相單元中,基板單元V的材料為聚苯乙烯(PS),其介電常數為2.7,損耗角正切為0.0009 ;基板單元的物理尺寸為,厚度2mm,橫截面圖形為邊長為2mm的正方形;人造結構單元的材料為銅,其厚度為0.018mm ;反射單元的材料為銅,其厚度為0.018mm ;此處,結構生長參數S為第一主線與第一直角折角線的長度之和。該移相單元上的人造結構單元的生長方式請參見圖13 ;具有此人造結構單元的移相單元其移相量隨結構生長參數S的變化如圖14所示。從圖中可以看出,移相單元的移相量是隨著S參數的連續增大連續變化的,該移相單元的移相量的變化範圍大概在10-150度,其最大移相量與最小移相量的差值約為140度,小於360度。(3)如圖11所示為另一種形式的人造結構單元構成的移相單元,該人造結構單元具有相互垂直平分的第一主幹線GXl及第二幹主線GX2,第一主幹線GXl與第二幹主線GX2的形狀尺寸相同,第一主幹線GXl兩端連接有沿相反方向延伸的兩個第一直線ZXl,第二主幹線GX2兩端連接有沿相反方向延伸的兩個第二直線ZX2,第一直線ZXl與第二直線ZX2的形狀尺寸相同,第一直線ZXl與第二直線ZX2分別平行於正方形基板單元V的兩個邊,第一直線ZXl與第一主幹線GX2的夾角為45度,第二直線ZX2與第二主幹線GX2的夾角為45度。該移相單元中,基板單元V的材料為聚苯乙烯(PS),其介電常數為2.7,損耗角正切為
0.0009 ;基板單元V的物理尺寸為,厚度2mm,橫截面圖形為邊長為2mm的正方形;人造結構單元的材料為銅,其厚度為0.018mm ;反射單元的材料為銅,其厚度為0.018mm。此處,結構生長參數S為第一主線與第一折線的長度之和。該移相單元上的人造結構單元的生長方式請參見圖15 ;具有此人造結構單元的移相單元其移相量隨結構生長參數S的變化如圖16所示。從圖中可以看出,移相單元的移相量是隨著S參數的連續增大連續變化的,該移相單元的移相量的變化範圍大概在10-130度,其最大移相量與最小移相量的差值約為120度,小於360度。另外,圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元還可以有其它變形。圖6是圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元的一種衍生結構。其在每個第一金屬分支Fl及每個第二金屬分支F2的兩端均連接有完全相同的第三金屬分支F3,並且相應的第三金屬分支F3的中點分別與第一金屬分支Fl及第二金屬分支F2的端點相連。依此類推,本實用新型還可以衍生出其它形式的人造結構單元。圖6所示的只是人造結構單元幾何形狀生長的基礎形狀。圖7是圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元的一種變形結構,此種結構的人造結構單元,第一金屬線Jl與第二金屬線J2不是直線,而是彎折線,第一金屬線Jl與第二金屬線J2均設置有兩個彎折部WZ,但是第一金屬線Jl與第二金屬線J2仍然是垂直平分,通過設置彎折部的朝向與彎折部在第一金屬線與第二金屬線上的相對位置,使得圖7所示的人造結構單元繞垂直於第一金屬線與第二金屬線交點的軸線向任意方向旋轉90度的圖形都與原圖重合。另外,還可以有其它變形,例如,第一金屬線Jl與第二金屬線J2均設置多個彎折部WZ。圖7所示的只是人造結構單元幾何形狀生長的基礎形狀。除上述的三種拓撲結構的人造結構單元外,本實用新型還可以有其它拓撲結構的人造結構單元。如圖17a所示的三角形金屬片;如圖17b所示的正方形金屬片,如圖17c所示的圓形金屬片;如圖17d所示的圓形金屬環;如圖17e所示的方形金屬環等。通過上述方法也能得到具有上述人造結構單元的移相單元的移相量隨結構生長參數S的變化曲線。通過上述生長得到的移相單元的移相量範圍如果包含了我們需要的移相量範圍(即能同時取到所需的最大移相量與最小移相量),則滿足設計需要。如果上述生長得到移相單元的移相量變化範圍 不滿足設計需要,例如移相量最大值太小或移相量最小值過大,則變動WL與W,重新仿真,直到得到我們需要的移相量變化範圍。根據預期的電磁波輻射方向圖,通過計算得到天線上的移相量分布,通過上述的人造結構單元的生長方法得到移相量分布對應的人造結構單元尺寸和分布信息,即能得到本實用新型的功能板,在功能板的一側設置反射層,即形成了本實用新型的反射陣列天線,該天線即可實現預期的電磁波輻射方向圖。下面例舉了本實用新型的三種應用,應當理解的是,本實用新型並不限於此三種應用。(I)將具有寬波束方向圖的電磁波調製成具有窄波束方向圖的電磁波為了達到調製電磁波輻射方向圖的目的,首先找出本實用新型反射陣列天線上的每一移相單元對應的移相量,也就是說要獲得或者設計出天線上的移相量分布情況。此例中寬波束初級饋源方向圖中其波束寬度為31.8度,目標是將此寬波束方向圖調製成窄波束方向圖,且波束寬度控制在4度以內。初級饋源方向圖如圖18所示。此例中,移相單元設計為橫截面圖形為正方形的方形薄片,正方形的邊長不超過
2.7mm,該反射陣列天線的所有移相單元按照正方形方格排列,在一 450mmX 450mm大小的平板上可排布166X166=27556個移相單元。結合上文所述每一移相單元的移相量的設計方法,在步驟SI中,設置移相量的變化範圍,以每個移相單元的移相量作為一個可調參數,以波束寬度作為目標函數,則有優化問題如下minT(01; θ2, θη I
0e 其中O = Le1, θ2,...,Θη]為包含所有可調參數的向量空間,在此例中為η個移相單元的移相量的向量,Si為解空間(即設置的移相量的變化範圍)。在此例中,η=27556,可調參數很龐大,那麼尋找一個波束寬度最窄使得電磁波輻射方向圖最優的移相單元的移相量分布是一個極為複雜的高維優化問題。我們可以結合空間填充設計方法和空間插值方法將優化維度從27556維降低到1000維左右,具體為:步驟S2中,生成一個m=1000個移相單元的抽樣向量空間0。=[ Θ 1(|,Θ 2(|,...,
9 m0];步驟S3中,根據1000個移相單元的的抽樣向量空間GV使用高斯過程插值、樣條插值等任一種插值方法計算剩餘的n-m個移相單元的移相量,生成η個移相單元的新的移相量的向量空間:Oi=H1, θ2,...,θω, θω+1, θπ+2,...,θη];步驟S4中,利用計算機仿真計算 i對給定方向圖調製後的波束寬度T ( O i),根據預設的優化方法(如模擬退火、遺傳算法、禁忌搜索等),生成一個新的抽樣向量空間,令i=i+l,並依據新的抽樣向量空間進行插值生成新的移相量的向量空間 i+1,循環執行直至滿足預設要求。得到移相量分布之後,再通過上文所述的人造結構單元的生長方法得到每一移相單元上的人造結構單元的形狀和排布信息,具地,採用如圖5所示的平面雪花狀的人造結構單元生長得到需要的移相單元相移量變化範圍。對得到的天線施加一個如圖18所示的初級饋源,進行仿真測試,得到其方向圖如圖19所示。其波束寬度為3.16度。實現了寬波束方向圖電磁波到窄波束方向圖電磁波的調製。(2)將具有窄波束方向圖的電磁波調製成具有寬波束方向圖的電磁波通過上述方法還可以設計出將具有窄波束方向圖的電磁波調製成具有寬波束方向圖的電磁波的反射陣列天線,具有窄波束方向圖的電磁波調製為具有寬波束方向圖的電磁波的情況與上述的具有寬波束方向圖的電磁波調製為具有窄波束方向圖的電磁波,其實是一個可逆的過程。將具有寬波束方向圖的電磁波調製為具有窄波束方向圖的電磁波可以看作是發射,將具有窄波束方向圖的電磁波調製為具有寬波束方向圖的電磁波可以看作是接收。(3)改變電磁波方向圖的主波束指向通過上述方法還可以設計出改變電磁波方向圖的主波束指向的反射陣列天線,在步驟Si中,設置移相量的變化範圍,以每個移相單元的移相量作為一個可調參數,以波束寬度和主波束指向作為參數指標,如圖18所示,為初級饋源的輻射方向圖,其主波束指向為O度,波束寬度為3.16度。目標是將主波束的方向改變為45度,波束寬度控制在4度以內。對得到的天線施加一個如圖18所示的初級饋源,進行仿真測試,得到其方向圖如圖20所示。其主波束指向為45度,波束寬度為3.7度。實現了將主波束的方向改變為45度,波束寬度控制在4度以內的目標。通過改變電磁波方向圖的主波束指向,可以避免電磁幹擾。例如在船上,大量的電磁波如果通過甲板直接反射到控制室中,將會對控制室的電子設備產生嚴重的幹擾,影響航行安全。這時,如果在甲板上鋪設有上述的反射陣列天線,從而改變幹擾電磁波主波束指向,使得電磁的大部分能量反射至別處,從而提升了控制室中電子設備抗電磁幹擾的能力。部分移相單元的移相量過大,從而導致所述反射陣列天線的所有移相單元的移相量與最小移相量的差值並不是都小於360度,但是,當所述反射陣列天線的所有移相單元的移相量與最小移相量的差值小於360度的移相單元的數量佔所有移相單元數量的80%以上時,其與所述反射陣列天線的所有移相單元的移相量與最小移相量的差值小於360度的情況具有基本相同的效果。通過設計反射層的防翹曲圖案,使得本實用新型的反射陣列天線的反射層不僅能夠在反射天線所在工作頻段內的電磁波,而且具有防止翹曲的功能。通過設計反射層來減少反射層的整體覆蓋率,從而釋放了功能板與反射層之間的應力,這也就避免了翹曲現象的出現。天線通常是接收或者發送信號,根據需要的輻射方向圖,設計天線上的移相量分布,即可得到所需功能的天線。上面結合附圖對本實用新型的實施例進行了描述,但是本實用新型並不局限於上述的具體實施方式
,上述的具體實施方式
僅僅是示意性的,而不是限制性的,本領域的普通技術人員在本實用新型的啟示下,在不脫離本實用新型宗旨和權利要求所保護的範圍情況下,還可做出很多形式,這些均屬於本實用新型的保護之內。
權利要求1.一種反射陣列天線,其特徵在於,包括用於對入射電磁波進行波束調製的功能板以及設置在所述功能板上的用於反射電磁波且防止翹曲的反射層。
2.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有防翹曲圖案的金屬層,所述防翹曲圖案能夠抑制所述反射層相對所述功能板發生翹曲。
3.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有電導通特性的金屬層。
4.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有非電導通特性的金屬層。
5.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有細縫槽狀防翹曲圖案的金屬層。
6.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有孔狀防翹曲圖案的金屬層。
7.根據權利要求6所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述孔狀防翹曲圖案包括圓孔狀防翹曲圖案、橢圓孔狀防翹曲圖案、多邊形孔狀防翹曲圖案、三角形孔狀防翹曲圖案。
8.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為具有金屬網格狀防翹曲圖案的金屬網格反射層。
9.根據權利要求8所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述金屬網格反射層由多片相互間隔的金屬片構成。
10.根據權利要求9所述的反射陣列天線,其特徵在於,單個金屬片的形狀為三角形或者多邊形。
11.根據權利要求10所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述單個金屬片的形狀為正方形。
12.根據權利要求9所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述多片金屬片相互之間的間隔小於入射電磁波工作波長的二十分之一。
13.根據權利要求8所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述金屬網格反射層為由多條金屬線縱橫交錯構成的具有多個網孔的網狀結構。
14.根據權利要求13所述的反射陣列天線,其特徵在於,單個網孔的形狀為三角形或者多邊形。
15.根據權利要求14所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述單個網孔的形狀為正方形或正六邊形。
16.根據權利要求14所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述單個網孔的邊長小於入射電磁波工作波長的二分之一。
17.根據權利要求13所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述多條金屬線的線寬大於或等於0.01mm。
18.根據權利要求2所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述金屬層為金、銀、銅、鋁、金合金、銀合金、銅合金、鋅合金或招合金製成。
19.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述功能板包括兩個或兩個以上的功能板單元,所述反射層包括與功能板單元對應數量的反射單元,所述功能板單元與其對應的反射單元構成一個用於移相的移相單元。
20.根據權利要求19所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線中的所有移相單兀的最大移相量與最小移相量的差值小於360度。
21.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述功能板為一層結構或由多個片層所構成的多層結構。
22.根據權利要求19所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述功能板單元包括基板單元以及設置在所述基板單元一側的用於對入射電磁波產生電磁響應的人造結構單元。
23.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元由陶瓷材料、高分子材料、鐵電材料、鐵氧材料或鐵磁材料製成。
24.根據權利要求23所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述高分子材料為熱塑性材料。
25.根據權利要求24所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述熱塑性材料為聚苯乙烯、聚丙烯、聚醯亞胺、聚乙烯、聚醚醚酮、聚四氟乙烯或環氧樹脂。
26.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述人造結構單元為導電材料構成的具有幾何圖案的結構。
27.根據權利要求26所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述導電材料為金屬或非金屬導電材料。
28.根據權利要求27所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述金屬為金、銀、銅、金合金、銀合金、銅合金、鋅合金或鋁合金;所述非金屬導電材料為導電石墨、銦錫氧化物或摻鋁氧化鋅。
29.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線還包括用於覆蓋所述人造結構單元的保護層。
30.根據權利要求29所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述保護層為PS塑料、PET塑料或HIPS塑料。
31.根據權利要求19所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述功能板單元由基板單元及其上開設的單元孔構成。
32.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線用於將具有寬波束方向圖的電磁波調製成具有窄波束方向圖的電磁波。
33.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線用於將具有窄波束方向圖的電磁波調製成具有寬波束方向圖的電磁波。
34.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線用於改變電磁波方向圖的主波束指向。
35.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述功能板為曲面狀或平面狀。
36.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射層為曲面狀或平面狀。
37.根據權利要求22或31所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形為三角形或多邊形。
38.根據權利要求37所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形為等邊三角形、正方形、菱形、正五邊形、正六邊形或者正八邊形。
39.根據權利要求38所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的二分之一。
40.根據權利要求39所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的四分之一。
41.根據權利要求40所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的八分之一。
42.根據權利要求41所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述基板單元的橫截面圖形的邊長小於入射電磁波工作波長的十分之一。
43.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線工作於Ku波段,所述基板單元厚度為0.5-4mm。
44.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線工作於X波段,所述基板單元厚度為0.7-6.5mm。
45.根據權利要求22所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線工作於C波段,所述基板單元厚度為1_12mm。
46.根據權利要求20所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為(Γ300度。
47.根據權利要求20所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為0 280度。
48.根據權利要求20所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為(Γ250度。
49.根據權利要求20所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線中的所有移相單元的最大移相量與最小移相量的差值的範圍為0 180度。
50.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線為發射天線、接收天線或收發兩用天線。
51.根據權利要求1所述的反射陣列天線,其特徵在於,所述反射陣列天線為衛星電視接收天線、衛星通信天線、微波天線或雷達天線。
專利摘要本實用新型提供了一種反射陣列天線,包括用於對入射電磁波進行波束調製的功能板以及設置在所述功能板上的用於反射電磁波且防止翹曲的反射層。通過設計反射層的防翹曲圖案,使得本實用新型的反射陣列天線的反射層不僅能夠在反射天線所在工作頻段內的電磁波,而且具有防止翹曲的功能。通過設計反射層來減少反射層的整體覆蓋率,從而釋放了功能板與反射層之間的應力,這也就避免了翹曲現象的出現。
文檔編號H01Q21/00GK202997056SQ20122059080
公開日2013年6月12日 申請日期2012年11月9日 優先權日2012年11月9日
發明者劉若鵬, 季春霖, 殷俊 申請人:深圳光啟創新技術有限公司

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專利名稱:直流氧噴裝置的製作方法技術領域:本實用新型涉及ー種醫療器械,具體地說是ー種直流氧噴裝置。背景技術:臨床上的放療過程極易造成患者的局部皮膚損傷和炎症,被稱為「放射性皮炎」。目前對於放射性皮炎的主要治療措施是塗抹藥膏,而放射性皮炎患者多伴有局部疼痛,對於止痛,多是通過ロ服或靜脈注射進行止痛治療

新型熱網閥門操作手輪的製作方法

專利名稱:新型熱網閥門操作手輪的製作方法技術領域:新型熱網閥門操作手輪技術領域:本實用新型涉及一種新型熱網閥門操作手輪,屬於機械領域。背景技術::閥門作為流體控制裝置應用廣泛,手輪傳動的閥門使用比例佔90%以上。國家標準中提及手輪所起作用為傳動功能,不作為閥門的運輸、起吊裝置,不承受軸向力。現有閥門

用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置的製作方法

專利名稱:用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置的製作方法背景技術:1-本發明所屬領域本發明涉及一種用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置,其中的管狀容器被放在循環於配送鏈上的文檔匣或託架裝置中。本發明特別適用於,然而並非僅僅專用於,對引入自動分析系統的血液樣本試管之類的自動識別。本發明還涉及專為實現讀