搬運裝置和溼式處理裝置的製作方法

2023-05-28 13:11:56 3

本說明書公開的技術涉及搬運裝置和溼式處理裝置。

背景技術：

以往，已知在作為液晶顯示裝置的主要構成部件的液晶面板的製造過程中，一邊利用搬運裝置搬運玻璃基板一邊對玻璃基板的表面實施清洗處理、抗蝕劑塗敷處理等溼式處理的溼式處理裝置。溼式處理裝置所具備的搬運裝置通常是軸狀的搬運輥和軸承部沿著玻璃基板的搬運方向配置有多個而構成的，軸承部配置在搬運輥的兩端部，以使搬運輥能繞其軸旋轉的方式支撐搬運輥。

在這種搬運裝置中，有時在搬運輥旋轉時會由於滑脫等而搬運輥與軸承部之間發生滑動，從而導致軸承部的滑動接觸部位發生磨損，從該滑動接觸部位產生鏽粉等塵埃。其結果是，從滑動接觸部位產生的塵埃等有時會附著於玻璃基板的表面。因此，例如下述專利文獻1公開了能防止從搬運裝置的軸承部產生的這種塵埃附著於玻璃基板的溼式處理裝置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：特許第3233243號公報

技術實現要素：

發明要解決的問題

然而，在上述專利文獻1公開的溼式處理裝置中，將搬運輥的旋轉機構配置在設置於溼氣氛外的外部室，並且將排氣單元設置於該外部室，從而防止塵埃附著於溼氣氛內的玻璃基板。因此，這樣將搬運輥的旋轉機構、排氣單元配置在外部室，會導致裝置在整體上會大型化，另外，存在部件個數變多的問題

本說明書中公開的技術是鑑於上述問題而完成的，其目的在於提供能避免裝置的大型化並且防止或抑制從軸承部產生的塵埃附著於搬運構件的搬運裝置和溼式處理裝置。

用於解決問題的方案

本說明書中公開的技術涉及一種搬運裝置，具備：搬運輥，其按軸狀延伸，沿著搬運方向搬運搬運構件；軸承部，其支撐上述搬運輥，使上述搬運輥能繞上述搬運輥的軸旋轉；以及保持構件，其保持上述軸承部，具有液體收納部，上述軸承部的滑動接觸部位的至少一部分在該液體收納部內露出。

在上述搬運裝置中，通過使純水等液體流入液體收納部內，能使軸承部的滑動接觸部位中的在液體收納部內露出的部位浸入液體。其結果是，液體收納部內的液體能發揮作為軸承部的潤滑劑的功能，能防止或抑制在軸承部的滑動接觸部位產生塵埃。另外，即使在軸承部的滑動接觸部位產生了塵埃，也能利用液體收納部內的液體將上述塵埃從該滑動接觸部位洗掉，能防止或抑制上述塵埃附著於搬運構件。另外，只需在保持構件中設置液體收納部就能防止或抑制上述塵埃附著於搬運構件，因此能避免裝置大型化。這樣，在上述搬運裝置中，能避免裝置的大型化並且能防止或抑制從軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃附著於搬運構件。

也可以是，上述軸承部是滾珠軸承，具有：環狀的環狀部，其繞上述搬運輥的軸配置；以及多個滾珠，其介於上述搬運輥與上述環狀部之間，由上述環狀部支撐而能滑動，上述滑動接觸部位是上述環狀部中的支撐上述多個滾珠的部位。

根據該構成，能提供軸承部和滑動接觸部位的具體構成。

也可以是，上述液體收納部按槽狀延伸。

根據該構成，流入液體收納部後的液體會沿著液體收納部的延伸方向流動，因此能利用液體流動所產生的力將在軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃等有效地洗掉。

也可以是，在上述液體收納部的延伸方向的一端部設置有向上述液體收納部內供應液體的液體供應部，在上述液體收納部的延伸方向的另一端部設置有將在上述液體收納部內流動的液體排出的液體排出部。

在該構成中，在液體供應部中向液體收納部內依次供應新的液體，並且將洗掉軸承部表面的塵埃後的液體在液體排出部中從液體收納部依次排出，由此能有效地將在軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃等洗掉。

也可以是，上述液體收納部以上述一端部配置在上述搬運方向的上遊側並且上述另一端部配置在上述搬運方向的下遊側的形式沿著上述搬運方向延伸。

根據該構成，能從搬運方向的上遊側往下遊側按順序將在軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃等洗掉。

也可以是，上述搬運構件是基板，上述搬運輥以其延伸方向與上述搬運方向正交的形式在該搬運方向上並列配置有多個，上述軸承部分別配置在上述搬運輥的兩端部。

根據該構成，能提供用於搬運作為搬運構件的基板的搬運裝置的具體構成。

本說明書中公開的另一技術是一種溼式處理裝置，具備：上述搬運裝置；以及溼式處理槽，其對沿著上述搬運方向搬運的上述基板進行溼式處理。

在幀對基板的清洗處理、塗敷處理等溼式處理中，對基板的表面噴射清洗水，使所噴射的清洗水在溼式處理槽內循環，再次用作清洗水。因此，在塵埃等流出到清洗水內的情況下，這些塵埃等容易附著於基板。在上述溼式處理裝置中，利用液體收納部內的液體將塵埃從軸承部的滑動接觸部位洗掉，因此能防止或抑制塵埃等流出到清洗水內。其結果是，能防止或抑制在溼式處理槽內從軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃等附著於基板。此外，在本說明書中所說的溼式處理不限於基板的清洗處理、基板的塗敷處理，也可以包括基板的浸漬處理等其它處理。

發明效果

根據在本說明書中公開的技術，能提供一種能避免裝置的大型化並且能防止或抑制從軸承部產生的塵埃附著於搬運構件的搬運裝置和溼式處理裝置。

附圖說明

圖1是示出沿著長邊方向切斷液晶顯示裝置的截面的概略截面圖。

圖2是液晶面板的概略俯視圖。

圖3是示出液晶面板的截面構成的概略截面圖。

圖4是示出構成液晶面板的陣列基板中的顯示區域的平面構成的俯視圖。

圖5是圖4的V-V截面的截面圖，是示出陣列基板的一部分的截面構成的截面圖。

圖6是用於說明各製造裝置對玻璃基板的處理過程的框圖。

圖7是實施方式1的搬運裝置的側面圖。

圖8是搬運裝置的俯視圖。

圖9是在搬運方向的下遊側端部將搬運裝置放大的放大立體圖。

圖10是軸承部的主視圖。

圖11是圖10的XI-XI截面的截面圖，是純水流入了液體收納部的狀態下的軸承部附近的截面圖。

圖12是純水流入了液體收納部的狀態下的軸承部的主視圖。

圖13是實施方式2的搬運裝置的軸承部的主視圖。

圖14是圖13的XIV-XIV截面的截面圖，是純水流入了液體收納部的狀態下的軸承部附近的截面圖。

圖15是實施方式3的搬運裝置的截面圖。

圖16是將搬運裝置的一部分放大的放大立體圖。

圖17是示出在實施例中應用了本發明前後的柵極絕緣膜異物和柵極絕緣膜缺損的檢測結果的表。

圖18是示出在實施例中應用了本發明前後的層間絕緣膜異物和層間絕緣膜缺損的檢測結果的表。

具體實施方式

＜實施方式1＞

參照圖1至圖12對實施方式1進行說明。在本實施方式中，示出了在作為液晶顯示裝置10的構成部件的液晶面板11的製造過程中，一邊對玻璃基板30A的表面實施清洗處理一邊搬運玻璃基板30A的清洗裝置50(參照圖7)的例子。此外，在一部分附圖中示出了X軸、Y軸和Z軸，各軸方向在各附圖中描繪為共同的方向。另外，在圖1、圖3以及圖5中，將圖的上側設為液晶顯示裝置10的上側(表側)。

首先對液晶顯示裝置10以及液晶面板11的構成進行說明。如圖1和圖2所示，液晶顯示裝置10具備：液晶面板11；IC晶片17，其安裝於液晶面板11，是驅動該液晶面板11的電子部件；控制基板19，其從外部對IC晶片17供應各種輸入信號；柔性基板18，其將液晶面板11和外部的控制基板19電連接；以及背光源裝置14，其是對液晶面板11供應光的外部光源。另外，液晶顯示裝置10具備用於收納並保持相互組裝後的液晶面板11和背光源裝置14的表裡一體的外部構件15、16，其中，在表側的外部構件15中設置有用於從外部觀察在液晶面板11中顯示的圖像的開口部15A。

如圖1所示，背光源裝置14具備：底座14A，其呈向表側開口的大致箱型；配置在底座14A內的未圖示的光源(冷陰極管、LED、有機EL等)；以及以覆蓋底座14A的開口部的形式配置的未圖示的光學構件。光學構件具有將從光源出射的光變換為面狀光等的功能。通過光學構件後成為面狀的光入射到液晶面板11，用於在液晶面板11中顯示圖像。

如圖2所示，液晶面板11整體上呈縱長的矩形，其長邊方向與各附圖的Y軸方向一致，其短邊方向與各附圖的X軸方向一致。在液晶面板11中，在其大部分中配置有能顯示圖像的顯示區域A1，在其長邊方向的偏向一方端部側(圖2所示的下側)的位置配置有不顯示圖像的非顯示區域A2。在非顯示區域A2的一部分，隔著各向異性導電膜(未圖示)通過壓接連接而安裝有IC晶片17和柔性基板18。此外，如圖1所示，在液晶面板11中，比後述的彩色濾光片基板20小一圈的框狀的點劃線形成顯示區域A1的外形，比該點劃線靠外側的區域為非顯示區域A2。

如圖3所示，液晶面板11具備：透光性良好的一對玻璃制的基板20、30；以及包含作為光學特性會隨著施加電場而發生變化的物質的液晶分子的液晶層11A。構成液晶面板11的兩個基板20、30在維持著液晶層11A的厚度的單元間隙的狀態下由未圖示的密封材料貼合。兩個基板20、30中的表側(正面側)的基板20為彩色濾光片基板20，裡側(背面側)的基板30為陣列基板(電路基板的一個例子)30。在兩個基板20、30的內面側，如圖3所示，分別形成有用於使液晶層11A中包含的液晶分子取向的取向膜11B、11C。另外，在構成兩個基板20、30的玻璃基板20A、30A的外面側分別貼附有偏振板11D、11E。

如圖2所示，彩色濾光片基板20的短邊尺寸與陣列基板30大致相同，而長邊尺寸比陣列基板30小，以長邊方向上的一方端部(圖2所示的上側)與陣列基板30對齊的狀態被貼合。因此，陣列基板30中的長邊方向上的另一方端部(圖1所示的下側)在規定範圍中不與彩色濾光片基板20重合，而成為表裡兩板面向外部露出的狀態，在此處確保了IC晶片17和柔性基板18的安裝區域。在構成陣列基板30的玻璃基板30A中，在其主要部分貼合有彩色濾光片基板20和偏振板11E，確保IC晶片17和柔性基板18的安裝區域的部分與彩色濾光片基板20和偏振板11E是不重疊的。

接著，對陣列基板30和彩色濾光片基板20中的顯示區域A1內的構成進行說明。在構成陣列基板30的玻璃基板(基板的一個例子)30A的內面側(液晶層11A側)，如圖3和圖4所示，作為具有3個電極32A～32C的開關元件的TFT(Thin Film Transistor：薄膜電晶體)32和包括ITO(Indium Tin Oxide：銦錫氧化物)等透明導電膜的像素電極33排列設置有多個。如圖4所示，在這些TFT32和像素電極33周圍，以包圍的方式配置有呈格子狀的柵極配線34和源極配線35。柵極配線34和源極配線35分別與TFT32的柵極電極32A和源極電極32B連接，像素電極33通過漏極配線(未圖示)與TFT32的漏極電極32C連接。

另外，在陣列基板30中設有與柵極配線34並行並且俯視時與像素電極33重疊的電容配線36。電容配線36在Y軸方向上與柵極配線34交替配置。柵極配線34配置於在Y軸方向上相鄰的像素電極33之間，而電容配線36配置在橫穿各像素電極33中的Y軸方向的大致中央部的位置。在該陣列基板30的端部設置有從柵極配線34和電容配線36引出的端子部和從源極配線35引出的端子部，從圖1所示的控制基板19對該各端子部輸入各信號或者基準電位，由此控制TFT32的驅動。

另一方面，如圖3所示，在構成彩色濾光片基板20的玻璃基板20A的內面側(液晶層11A側)，在俯視時與陣列基板30的各像素電極33重疊的位置排列設置有多個彩色濾光片。在彩色濾光片中，呈R(紅色)、G(綠色)、B(藍色)的各著色部22沿著X軸方向交替排列配置。在構成彩色濾光片的各著色部22間形成有用於防止混色的大致格子狀的遮光部(黑矩陣)23。遮光部23是俯視時與陣列基板30側的柵極配線34、源極配線35以及電容配線36重疊的配置。另外，在各著色部22和遮光部23的表面設置有與陣列基板30側的像素電極33相對的相對電極24。在液晶面板11中，由R(紅色)、G(綠色)、B(藍色)的3色著色部22以及與它們相對的3個像素電極33的組構成作為顯示單位的1個顯示像素。

在此，詳細說明作為設置於陣列基板30的開關元件的TFT32。如圖4和圖5所示，TFT32是在陣列基板30上層疊有多個膜的構成。具體地說，如圖5所示，從下層側(玻璃基板30A側)起按順序層疊有與柵極配線34連接的柵極電極32A、柵極絕緣膜37、半導體膜38、與源極配線35連接的源極電極32B及與像素電極33連接的漏極電極32C、層間絕緣膜39、保護膜40。

柵極電極32A包括與柵極配線34相同的材料，並且用與柵極配線34相同的工序圖案化在陣列基板30上，能用鋁(Al)、鉻(Cr)、鉭(Ta)、鈦(Ti)、銅(Cu)等金屬膜單體或者與它們的金屬氮化物的層疊膜形成。柵極絕緣膜37例如包括矽氧化膜(SiOx)，使柵極電極32A與半導體膜38之間絕緣。半導體膜38例如包括非晶矽(a-Si)或者透明的非晶體氧化物半導體(InGaZnOx)，一端側與漏極電極32C連接，另一端側與源極電極32B連接，由此作為謀求相互間的導通的溝道區域而發揮功能。

源極電極32B和漏極電極32C包括與源極配線35相同的材料，並且用與源極配線35相同的工序圖案化在陣列基板30上。源極電極32B和漏極電極32C是將下層側(半導體膜38側)的第1導電膜32B1、32C1和上層側(層間絕緣膜39側)的第2導電膜32B2、32C2層疊的構成。下層側的第1導電膜32B1、32C1包括以高濃度摻雜有磷(P)等n型雜質的非晶矽(n+Si)，作為歐姆接觸層而發揮功能。上層側的第2導電膜32B2、32C2是將不同的金屬膜層疊而成的雙層結構，其中的下層側的金屬膜包括鈦(Ti)，上層側的金屬膜包括鋁(Al)。

上述源極電極32B和漏極電極32C隔著規定的間隔(開口區域)配置為相對狀，因此相互未直接電連接。但是，源極電極32B和漏極電極32C通過其下層側的半導體膜38間接地電連接，該半導體膜38的兩個電極32B、32C間的橋部分作為流動漏極電流的溝道區域而發揮功能。

層間絕緣膜39例如包括矽氧化膜(SiOx)，是與上述柵極絕緣膜37相同的材料。保護膜40包括作為有機材料的丙烯酸樹脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯樹脂(PMMA))、聚醯亞胺樹脂。因此，該保護膜40的膜厚比包括其它無機材料的柵極絕緣膜37、層間絕緣膜39要厚，並且能作為平坦化膜而發揮功能。此外，TFT32中的各絕緣膜(柵極絕緣膜37、層間絕緣膜39和保護膜40)分別在陣列基板30中包括TFT32的形成區域以外的區域，並且在大致整個範圍中形成為均勻的膜厚。

在陣列基板30上形成上述TFT32、像素電極33以及各配線34、35、36等薄膜時，使用已知的光刻法，為此使用各種製造裝置50～56。具體地說，如圖6所示，製造裝置50～56採用清洗裝置50、成膜裝置51、清洗裝置50A、抗蝕劑塗敷裝置52、曝光裝置53、顯影裝置54、清洗裝置50B、蝕刻裝置55以及抗蝕劑剝離裝置56。並且，在構成陣列基板30的玻璃基板30A上，經過清洗裝置50的清洗工序、成膜裝置51的成膜工序、清洗裝置50A的清洗工序、抗蝕劑塗敷裝置52的抗蝕劑塗敷工序、曝光裝置53的曝光工序、顯影裝置54的顯影工序、清洗裝置50B的清洗工序、蝕刻裝置55的蝕刻工序、抗蝕劑剝離裝置56的抗蝕劑剝離工序而以規定的圖案形成目標薄膜，通過對各薄膜反覆進行該過程，按順序層疊形成各薄膜。

具體地說，在清洗工序中，利用清洗裝置50向形成各薄膜前的玻璃基板30A上供應清洗液從而對玻璃基板30A進行清洗，除去玻璃基板30A上的塵埃等。在成膜工序中，利用成膜裝置51使要形成的薄膜的材料相對於玻璃基板30A的板面成為均勻的膜厚來進行成膜。具體地說，該成膜裝置51使用CVD裝置、濺射裝置、真空蒸鍍裝置等。然後，為了除去成膜帶來的殘餘物質、垃圾而利用清洗裝置50A對基板進行清洗。接下來，在抗蝕劑塗敷工序中，利用抗蝕劑塗敷裝置52對由成膜裝置51進行成膜後的材料膜塗敷光致抗蝕劑使其成為均勻的膜厚而使其層疊。此時，光致抗蝕劑採用正型或者負型的光致抗蝕劑。在曝光工序中，利用曝光裝置53對由抗蝕劑塗敷裝置52塗敷的光致抗蝕劑隔著具有規定圖案的光掩模照射UV光等，由此將與光掩模的圖案相應的範圍曝光。

在顯影工序中，利用顯影裝置54向玻璃基板30A的板面上供應顯影液，由此使光致抗蝕劑顯影，除去曝光區域或者非曝光區域中的任意一個。在為了清洗顯影液等殘渣物而利用清洗裝置50B對基板進行清洗後，在蝕刻工序中，利用蝕刻裝置55將材料膜中殘留的未被光致抗蝕劑覆蓋的區域通過蝕刻除去，從而對材料膜進行圖案化。具體地說，蝕刻裝置55採用通過蝕刻氣體、離子、自由基對材料膜進行蝕刻的乾式蝕刻裝置、通過蝕刻液對材料膜進行蝕刻的溼式蝕刻裝置等。其中，在溼式蝕刻裝置中，向玻璃基板30A的板面上供應蝕刻液從而對材料膜進行蝕刻。在抗蝕劑剝離工序中，利用抗蝕劑剝離裝置56向玻璃基板30A的板面上供應抗蝕劑剝離液，由此除去殘留的光致抗蝕劑。

上述各製造裝置50～56中的清洗裝置除了上述成膜前後的清洗工序以及顯影后的清洗工序以外，有時會在其它製造裝置51～56的工序後使用。具體地說，例如在蝕刻裝置55採用乾式蝕刻裝置的情況下，有時會在其蝕刻工序後為了除去乾式蝕刻所產生的殘渣物而進行清洗工序，在該清洗工序中也要使用上述清洗裝置。

此外，在上述製造裝置50～56中的向玻璃基板30A上供應液體來進行處理的裝置中，具體地說，在清洗裝置50、50A、50B、抗蝕劑塗敷裝置52、顯影裝置54、進行溼式蝕刻的蝕刻裝置55以及抗蝕劑剝離裝置56中，採用了用於搬運玻璃基板30A的共同的搬運裝置60。以下詳細說明清洗裝置50內的搬運裝置60的構成。此外，在圖7至圖12中，設X軸方向為玻璃基板30A的搬運方向，在圖7和圖8中，設圖的左側為搬運方向的上遊側，圖的右側為搬運方向的下遊側。另外，在圖7、圖8以及圖10至圖12中，設圖的上側為搬運裝置60的上側，圖的下側為搬運裝置60的下側。另外，清洗裝置50、抗蝕劑塗敷裝置52、顯影裝置54、進行溼式蝕刻的蝕刻裝置55以及抗蝕劑剝離裝置56分別是溼式處理裝置的一個例子。

如圖7所示，清洗裝置50構成為具備從外部氣氛隔開的清洗槽(溼式處理槽的一個例子)50A和配置在該清洗槽50A內的搬運裝置60。另外，在清洗槽50A的上側設置有向由搬運裝置60搬運的玻璃基板30A上噴射清洗液的未圖示的多個噴嘴。在清洗裝置50中，從噴嘴噴射的清洗液被回收，利用未圖示的循環裝置進行循環而再次用作清洗液。在清洗裝置50中，玻璃基板30A是各種薄膜的形成面或者形成預定面朝向上側而被投入搬運方向的上遊側，以其長邊方向沿著X軸方向並且其短邊方向沿著Y軸方向的姿勢由搬運裝置60從搬運方向的上遊側向下遊側搬運(參照圖7和圖8的箭頭)。

如圖7和圖8所示，搬運裝置60，具備：多個搬運輥62，其按軸狀延伸，沿著搬運方向搬運玻璃基板30A；軸承部64，其支撐各搬運輥62的兩端部，使各搬運輥62能繞各自的軸旋轉；一對框架(保持構件的一個例子)66、67，其固定於規定的高度位置，保持軸承部64。其中，一對框架66、67為沿著玻璃基板30A的搬運方向延伸的形狀，在與各搬運輥62的裝配位置對應的位置具備凹陷為凹狀而成的多個凹狀部66A1。各凹狀部66A1以向上方開口的形式沿著玻璃基板30A的搬運方向斷續地設置。

各搬運輥62架設在一對框架66、67之間，以其延伸方向為沿著Y軸方向的姿勢沿著搬運方向按規定的間隔並列配置。如圖7和圖8所示，各搬運輥62具有金屬制的軸部62A和裝配於軸部62A的合成樹脂制的多個基板支撐部62B。如圖11所示，軸部62A的兩端部的頂端分別為比軸部62A的其它部位直徑縮小的縮徑部62A1。各基板支撐部62B為比軸部62A直徑大的圓板狀，在搬運輥62的延伸方向上隔開規定的間隔裝配於軸部62A。玻璃基板30A是與各種薄膜的形成面或者形成預定面相反一側的板面一邊被搬運輥62的基板支撐部62B持續地支撐，一邊沿著搬運方向被搬運。此外，如圖8所示，搬運裝置60具備用於使各搬運輥62繞各自的軸旋轉的旋轉機構68。旋轉機構68設置於各搬運輥62的延伸方向的一端側(圖8中的附圖上側)，構成為具備多個齒輪。

如圖10所示，軸承部64是所謂的滾珠軸承，繞搬運輥62的軸部62A的縮徑部62A1的軸配置在外側。軸承部64具有呈環狀的金屬制的環狀部64A以及設置於縮徑部62A1與環狀部64A之間的金屬制的多個滾珠64B。軸承部64的環狀部64A的下側部分與各框架66、67的凹狀部66A1接合固定，從而軸承部64被保持於框架66。如圖11所示，在環狀部64A中的與軸部62A的縮徑部62A1相對的部位設置有向內側凹陷而成並且供各滾珠64B的一部分進入的軸承側凹部(滑動接觸部位的一個例子)64A1。該軸承側凹部64A1沿著環狀部64A設置成槽狀。另一方面，在軸部62A的縮徑部62A1中與軸承側凹部64A1相對的部位同樣設置有向內側凹陷而成並且供各滾珠64B的一部分進入的槽狀的軸側凹部62A2。該軸側凹部62A2沿著縮徑部62A1的外周設置成槽狀。

供各滾珠64B進入的軸承側凹部64A1和軸側凹部62A2為如上所述的構成，從而各滾珠64B為被環狀部64A支撐而能滑動的狀態。換言之，軸承部64在各軸承側凹部64A1中通過滾珠64B與搬運輥的軸部62A滑動接觸。如上所述，軸承部64被框架66保持，因此，各滾珠64B在軸承部64的環狀部64A與搬運輥62的軸部62A(縮徑部62A1)之間滑動，由此，環狀部64A不旋轉，而僅搬運輥62通過上述旋轉機構68繞其軸旋轉。

詳細說明各框架66、67的構成。如圖11所示，各框架66具有：構成框架66的主要部分的主體部66A、外板66B以及多個內板66C。其中，在主體部66A中設置有上述凹狀部66A1。此外，一對框架66、67為其一部分相互不同的構成。首先，說明設置於各搬運輥62的延伸方向的另一端側(圖8的附圖下側，與設置有旋轉機構68的一側相反的一側)的圖7所示的框架66(以下，稱為「一方框架66」)的構成。

構成一方框架66的主體部66A沿著搬運方向(X軸方向)按壁狀延伸，位於比凹狀部66A1略靠下方位置的部位的Y軸方向的厚度大於軸承部64的Y軸方向上的寬度尺寸。具體地說，在主體部66A中，位於比凹狀部66A1略靠下方位置的部位與搬運輥62中的軸部62A的縮徑部62A1的頂端相比更向外側(圖11所示的左側，搬運輥62的延伸方向上的與中心側相反的一側)突出(以下，將該突出的部位稱為「突出部66A2」)。外板66B為透明的合成樹脂制的板狀構件，在上下方向(Z軸方向)上其上端位於與搬運輥62的旋轉軸大致相同的高度的狀態下，其下側部分貼附固定於上述突出部66A2的外面(圖11所示的左側的面)。多個內板66C為板狀構件，在上下方向上其上端接近搬運輥62的軸部62A的縮徑部62A1的狀態下，其下側部分分別貼附固定於主體部66A的內面中的與各凹狀部66A1對應的位置。此外，如圖10和圖12所示，在主體部66A的各凹狀部66A1的上方，裝配有防止軸承部64從凹狀部66A1向上方脫落的防脫落板69(在除了圖10和圖12以外的各附圖中省略圖示)。

通過將一方框架66設為上述的構成，如圖9和圖11所示，在該一方框架66中被主體部66A、外板66B以及多個內板66C包圍的部分，形成有能收納液體的液體收納部70。在此，如上所述，多個內板66C是以其上端接近搬運輥62中的軸部62A的縮徑部62A1的狀態配置的，因此，如圖11所示，軸承部64的軸承側凹部64A1的至少一部分露出在液體收納部70內。此外，在一方框架66中，主體部66A的上述突出部66A2是跨搬運方向的上遊側端部到下遊側端部而設置的。因此，如圖7和圖8所示，一方框架66中的液體收納部70跨搬運方向的上遊側端部到下遊側端部而按槽狀延伸。

如圖7所示，在主體部66A中的搬運方向的上遊側端部，以在液體收納部70內露出的形式設置有用於向液體收納部70內供應液體的圓形的供應口(液體供應部的一個例子)66A3。另一方面，如圖7和圖9所示，在主體部66A中的搬運方向的下遊側端部，以在液體收納部70內露出的形式設置有用於將液體收納部70內的液體向外部排出的圓形的排水口(液體排出部的一個例子)66A4。另外，如圖7所示，在上述供應口66A3裝配有用於從清洗裝置50的外部向該供應口66A3供應液體的供應管72的一端，在上述排出口66A4裝配有用於從該排出口66A4向清洗裝置50的外部排出液體的排出管74的一端。根據這種構成，在一方框架66中，從清洗裝置50的外部通過供應口66A3供應到液體收納部70內的液體在液體收納部70內從搬運方向的上遊側向下遊側流動，從排出口66A4向清洗裝置50的外部排出。此外，如上所述，外板66B是透明的，因此在液體被收納在液體收納部70內的狀態下，能從搬運裝置60的側方觀察液體收納部70內的液體。

在本實施方式中，舉例示出純水W1作為向液體收納部70內供應的液體的一個例子(參照圖7、圖8、圖11和圖12)。在一方框架66中，當純水W1流入液體收納部70內時，如圖11和圖12所示，在液體收納部70內露出的軸承部64的軸承側凹部64A1的一部分成為浸入純水W1的狀態。在此，在本實施方式的搬運裝置60中，有時在搬運輥62旋轉時會由於滑脫等而在搬運輥62與軸承部64之間發生滑動，從而導致軸承部64的軸承側凹部64A1發生磨損，從該軸承側凹部64A1產生鏽粉等塵埃。關於這一點，在搬運裝置60的一方框架66中，即使在配置於一方框架66側的軸承部64的軸承側凹部64A1中產生了鏽粉等塵埃的情況下，純水W1也會流入液體收納部70內，產生鏽粉等塵埃的軸承側凹部64A1如上所述成為浸入純水W1的狀態，從而將該塵埃從軸承側凹部64A1洗掉。另外，即使在軸承側凹部64A1中的在液體收納部70內露出的部位以外的部位產生了上述塵埃的情況下，該塵埃也會隨著搬運輥62的旋轉而沿著軸承側凹部64A移動到在液體收納部70內露出的軸承側凹部64A1的部位，從而該塵埃被液體收納部70內的純水W1洗掉。

接下來，簡單說明設置於各搬運輥62的延伸方向的一端側(圖8的附圖上側，設置有旋轉機構68的一側)的框架67(以下，稱為「另一方框架67」)的構成。如圖8所示，在另一方框架67中，形成於被主體部、外板以及多個內板包圍的部分的液體收納部71不是如一方框架66那樣跨搬運方向的上遊側端部到下遊側端部設置，而是沿著搬運方向斷續地形成有多個。因此，在另一方框架67中，流入液體收納部71內的純水W1不是從搬運方向的上遊側向下遊側流動，而是積存在液體收納部71內。即使在這種構成中，當純水W1流入液體收納部71內時，在液體收納部71內露出的軸承部64的軸承側凹部64A1也會成為浸入純水W1的狀態。因此，在配置於另一方框架67側的軸承部的軸承側凹部產生了鏽粉等塵埃的情況下，純水W1流入液體收納部70內，產生鏽粉等塵埃的軸承側凹部會隨著搬運輥62的旋轉而如上所述成為浸入純水W1的狀態，從而將該塵埃從軸承側凹部洗掉。

另外，在本實施方式的清洗裝置50中，從軸承部64的軸承側凹部64A1產生的鏽粉等塵埃有時會混入到從噴嘴噴射的清洗液中。並且，如上所述，在清洗裝置50中從噴嘴噴射的清洗液被循環而再次用作清洗液，因此，在陣列基板30的製造過程中，當在其它製造裝置51～56的工序後使用清洗裝置50時，有時會將混入了上述塵埃的清洗液噴射到玻璃基板30A上。因此，在其它製造裝置51～56的工序後使用清洗裝置50的情況下，從軸承側凹部64A1產生的鏽粉等塵埃有時會混在清洗液中而附著於例如在玻璃基板30A上成膜的上述柵極絕緣膜37、上述層間絕緣膜39，而被檢測為柵極絕緣膜異物或者層間絕緣膜異物。

另外，在其它製造裝置51～56進行的工序後使用清洗裝置50的情況下，從軸承側凹部64A1產生的塵埃有時會混在清洗液中而附著於例如在玻璃基板30A上成膜的上述柵極絕緣膜37、上述層間絕緣膜39，並與柵極絕緣膜37、層間絕緣膜39的一部分一起從玻璃基板30A剝離，從而被檢測為柵極絕緣膜缺損或者層間絕緣膜缺損。檢測出這種異物、缺損的陣列基板30成為次品。關於這一點，在上述清洗裝置50所具備的搬運裝置60中，如上所述，從軸承側凹部64A1產生的塵埃被流入液體收納部70內的純水W1洗掉，因此在陣列基板30的製造過程中，防止或抑制了由於從軸承側凹部64A1產生的塵埃而導致陣列基板30產生次品。

如以上說明的那樣，在本實施方式的清洗裝置50所具備的搬運裝置60中，通過使純水W1流入液體收納部70內，能使軸承部64的軸承側凹部64A1中的在液體收納部70內露出的部位浸入純水W1。其結果是，液體收納部70內的純水W1能作為軸承部64的潤滑劑而發揮功能，能防止或抑制在軸承部64的軸承側凹部64A1產生塵埃。另外，即使在軸承部64的軸承側凹部64A1中產生了塵埃，也能用液體收納部70內的純水W1將上述塵埃從該軸承側凹部64A1洗掉，能防止或抑制上述塵埃附著在玻璃基板30A上。另外，只需在框架66、67中設置上述構成的液體收納部70就能防止或抑制上述塵埃附著於玻璃基板30A，因此能避免裝置大型化。這樣，在本實施方式的搬運裝置60中，能避免裝置的大型化並且能防止或抑制從軸承部64的軸承側凹部64A1產生的塵埃附著於作為搬運對象的玻璃基板30A。

另外，在本實施方式中，設置於一方框架66側的液體收納部70按槽狀延伸。而且，在一方框架66側，在搬運方向(液體收納部70的延伸方向)的上遊側端部設置有向液體收納部70內供應純水W1的供應口66A3，在搬運方向的下遊側端部設置有將在液體收納部70內流動的純水W1排出的排出口66A4。根據這種構成，在一方框架66側，從供應口66A3向液體收納部70內依次供應新的純水W1，並且洗掉在軸承側凹部64A1產生的塵埃後的純水W1在排出口66A4中從液體收納部70依次排出。因此，能利用純水W1從搬運方向的上遊側向下遊側在槽狀的液體收納部70內流動的力來有效地洗掉在軸承部64的軸承側凹部64A1產生的塵埃等。

另外，在本實施方式中，如上所述，能防止從軸承部64和軸承側凹部64A1產生的塵埃混在清洗液中而附著於作為搬運對象的玻璃基板30A。其結果是，在陣列基板30的製造過程中，能防止或抑制由於上述塵埃而導致陣列基板30產生次品。

另外，在本實施方式中，如上所述，通過使純水W1流入液體收納部70內，液體收納部70內的純水W1也能作為滾珠軸承的軸承部64的潤滑劑而發揮功能。因此，能使被軸承部64支撐而能旋轉的搬運輥62的旋轉性能保持在良好的狀態。

＜實施方式2＞

參照圖13和圖14說明實施方式2。在實施方式2中，搬運裝置的搬運輥162的構成、軸承部164的構成、軸承部164對搬運輥162的支撐方式以及框架166中的軸承部164的保持方式分別與實施方式1不同。其它的構成與實施方式1是同樣的，因此省略結構、作用以及效果的說明。此外，在圖13、圖14中，分別對圖10、圖11的參照附圖標記加上了數字100的部位是與在實施方式1中說明的部位相同的部位。

在本實施方式的清洗裝置所具備的搬運裝置中，與實施方式1不同，作為滾珠軸承的軸承部164繞搬運輥162的軸部162A的軸配置在內側。即，如圖13所示，搬運輥162的軸部162A為筒狀，內部是中空的，並且其整體的直徑均勻。另一方面，如圖13和圖14所示，軸承部164包括：金屬制的圓柱部164A，其為圓柱狀，並且直徑小於搬運輥162的軸部162A的內徑；以及金屬制的多個滾珠164B，其設置於軸部162A與圓柱部164A之間。軸承部164的圓柱部164A的外面與框架166的主體部166A的內面接合固定，從而被保持於框架166。如圖14所示，在圓柱部164A中的與軸部162A相對的部位，設置有向內側凹陷而成並且供各滾珠164B的一部分進入的槽狀的軸承側凹部(滑動接觸部位的一個例子)164A1。另一方面，在軸部162A中與軸承側凹部164A1相對的部位，同樣設置有向內側凹陷而成並且供各滾珠164B的一部分進入的槽狀的軸側凹部162A2。

供各滾珠164B進入的軸承側凹部164A1和軸側凹部162A2為上述的構成，由此，各滾珠164B成為被圓柱部164A支撐而能滑動的狀態。換言之，軸承部164在各軸承側凹部164A1中通過滾珠164B與搬運輥的軸部162A滑動接觸。如上所述，在本實施方式的軸承部164中，其圓柱部164A被框架166保持，因此，各滾珠164B在軸承部164的圓柱部164A與搬運輥162的軸部162A之間滑動，由此，圓柱部164A不發生旋轉，而僅搬運輥162通過未圖示的旋轉機構繞其軸旋轉。

構成框架166的主體部166A與實施方式1同樣沿著搬運方向(X軸方向)按壁狀延伸。主體部166A的內面(與軸承部164的圓柱部164A接合的面)的上端與該圓柱部164A的上端大致一致，其外面側位於比該圓柱部164A的上端略靠下方的位置而形成臺階，成為向外面側突出的突出部166A2。外板166B為透明的合成樹脂制的板狀構件，以在上下方向(Z軸方向)上其上端位於比搬運輥162的軸部162A略靠上方的位置的形式接合固定於主體部166A的外面。多個內板166C為板狀構件，在上下方向上其上端位於比軸承部164的圓柱部164A的上端略靠上方的位置的狀態下，分別貼附固定於各軸承部164的圓柱部164A的內面。

在本實施方式中，搬運輥162、軸承部164以及框架166分別為上述構成，由此，如圖13和圖14所示，在框架166中被主體部166A、外板166B以及多個內板166C包圍的部分，形成有能收納液體的液體收納部170。在此，如上所述，多個內板166C是以其上端位於比軸承部164的圓柱部164A的上端略靠上方的位置的狀態配置的，因此，如圖14所示，軸承部164的軸承側凹部164A1的至少一部分露出在液體收納部170內。此外，本實施方式中的液體收納部170與實施方式1同樣是跨搬運方向的上遊側端部到下遊側端部而按槽狀延伸的，在主體部166A的搬運方向的上遊側端部設置有供應口，在主體部166A的搬運方向的下遊側端部設置有排出口。另外，在框架166的主體部166A裝配有位於軸承部164的下方的支承板168，由此，能承接從滾珠164B中的位於圖14下側的滾珠164B漏出的液體(清洗液)，將接到的液體從排出溝169向外部排出。

在如以上說明的本實施方式中，軸承側凹部164A1的至少一部分也在液體收納部170內露出，由此，與實施方式1同樣，通過使純水W1流入液體收納部170內，能使軸承部164的軸承側凹部164A1中的在液體收納部170內露出的部位浸入純水W1。其結果是，即使在軸承部164的軸承側凹部164A1產生了塵埃，也能利用液體收納部170內的純水W1將上述塵埃從該軸承側凹部164A1洗掉，能防止或抑制上述塵埃附著在作為搬運對象的玻璃基板上。另外，新的純水W1會從搬運方向的上遊側向下遊側在呈槽狀的液體收納部170內依次流動，因此能利用純水W1在液體收納部170內流動的力來有效地洗掉在軸承部164的軸承側凹部164A1產生的塵埃等。

＜實施方式3＞

參照圖15和圖16對實施方式3進行說明。在實施方式3中，搬運裝置260的框架266的構成與實施方式1不同。其它的構成與實施方式1是同樣的，因此省略結構、作用以及效果的說明。此外，在圖15、圖16中，分別對圖7、圖9的參照附圖標記加上了數字200的部位是與在實施方式1說明的部位相同的部位。

在本實施方式的清洗裝置250所具備的搬運裝置260中，如圖15和圖16所示，在框架266的主體部266A的突出部(在位於比凹狀部266A1略靠下方的位置的部位中向外側突出的部位)中，在相鄰的凹狀部266A1之間分別設置有將液體收納部270隔開的隔壁266A3。其結果是，在框架266中，以使1個液體收納部270與1個軸承部264對應的形式沿著搬運方向形成有被隔壁266A3隔開的多個液體收納部270。因此，在各液體收納部270內，成為軸承部264的軸承側凹部264A1的至少一部分露出的狀態。並且，流入各液體收納部270內的純水W1與實施方式1中的設置於另一方框架67側的液體收納部71同樣地積存在液體收納部270內。

在本實施方式中，在搬運裝置260中，在如上述那樣以使1個液體收納部270與1個軸承部264對應的形式形成有多個液體收納部270的情況下，當純水W1流入各液體收納部270內時，在各液體收納部270內露出的軸承部264的各個軸承側凹部264A1也會分別成為浸入純水W1的狀態。因此，即使在各軸承部264的軸承側凹部264A1產生了塵埃，也能用利用液體收納部270內的純水W1將上述塵埃從該軸承側凹部264A1洗掉，能防止或抑制上述塵埃附著在作為搬運對象的玻璃基板230A上。

以下列舉上述各實施方式的變形例。

(1)在上述各實施方式中，舉例示出了清洗裝置所具備的搬運裝置的構成，但是除了清洗裝置以外，也可以在對玻璃基板實施溼式處理的裝置即抗蝕劑塗敷裝置、顯影裝置、進行溼式蝕刻的蝕刻裝置以及抗蝕劑剝離裝置的各裝置中應用設置有上述液體收納部的搬運裝置。在這種情況下，即使在各裝置中使用的處理液中混入了從軸承部的軸軸承側凹部產生的塵埃，也能用流入液體收納部內的純水洗掉該塵埃，能防止或抑制該塵埃附著在被搬運裝置搬運的玻璃基板上。

(2)在上述各實施方式中，舉例示出了在陣列基板的製造過程中使用的清洗裝置，但是也能將本發明應用於在彩色濾光片基板的製造過程中使用的清洗裝置。在這種情況下，能防止或抑制由於從軸承側凹部產生的塵埃而導致彩色濾光片基板產生次品。

(3)在上述各實施方式中，舉例示出了純水作為流入液體收納部的液體的一個例子，但是流入液體收納部的液體只要是能洗掉從軸承部的軸承側凹部產生的塵埃的程度的粘度的液體即可，不限於純水。

(4)在上述各實施方式中，舉例示出了玻璃基板作為被搬運裝置搬運的搬運對象構件的一個例子，但是被搬運裝置搬運的搬運對象構件不限於玻璃基板。即使搬運對象構件不是玻璃基板，也能通過應用本發明來防止或抑制從軸承部的軸承側凹部產生的塵埃附著於該搬運對象構件。

(5)在上述各實施方式中，舉例示出了軸承部為滾珠軸承的構成，但是軸承部也可以是滾珠軸承以外的構成。在這種情況下，也能通過應用本發明來防止或抑制從軸承部的滑動接觸部位產生的塵埃附著於搬運對象構件。

(6)除了上述各實施方式以外，能適當變更保持構件中的液體收納部的形狀和構成。

以上，詳細說明了本發明的各實施方式，但是這些只不過是例示，並不是對權利要求的限定。權利要求記載的技術中包含對以上例示的具體例進行各種變形、變更的方案。

實施例

接下來，利用實施例具體說明本發明。在實施例中，在陣列基板的製造過程中，在對清洗裝置所具備的搬運裝置應用本發明前後，分別檢測在玻璃基板上成膜的柵極絕緣膜的柵極絕緣膜異物、柵極絕緣膜缺損以及在玻璃基板上成膜的層間絕緣膜的層間絕緣膜異物、層間絕緣膜缺損。此外，圖17和圖18中的數值用百分率(％)表示個別次品率(產生次品的個體相對於進行檢查的總個體數的比例)。

如圖17所示，關於檢測出的柵極絕緣膜異物和柵極絕緣膜缺損，在應用本發明前後能看出大幅減少。因此，能確認通過應用本發明能防止或抑制由於從軸承部的軸承側凹部產生的塵埃而導致在陣列基板上的柵極絕緣膜中產生柵極絕緣膜異物、柵極絕緣膜缺損。

另外，如圖18所示，關於檢測出的層間絕緣膜異物和層間絕緣膜缺損，層間絕緣膜缺損在應用本發明前後看不出大的變化，而層間絕緣膜異物在應用本發明前後能看出大幅減少。因此，能確認通過應用本發明能防止或抑制由於從軸承部的軸承側凹部產生的塵埃而導致陣列基板上的層間絕緣膜中產生層間絕緣膜異物。

根據以上的結果，能確認通過將本發明應用於在陣列基板的製造過程中使用的清洗裝置，能防止或抑制由於從軸承部的軸承側凹部產生的塵埃而導致陣列基板產生次品。

附圖標記說明：

10：液晶顯示裝置，11：液晶面板，20：彩色濾光片基板，30：陣列基板，30A：玻璃基板，37：柵極絕緣膜，39：層間絕緣膜，50、250：清洗裝置，50A、250A：清洗槽，60：搬運裝置，62、162、262：搬運輥，62A、162A、262A：軸部，62A1、262A1：縮徑部，62B、262B：基板支撐部，64、164、262：軸承部，64A、164A：環狀部，64A1、164A1、264A1：軸承側凹部，64B、164B、264B：滾珠，66、67、166、266：框架，66A、166A、266A：主體部，66A3：供應口，66A4：排出口，66B、166B、266B：外板，66C、166C：內板，70、71，170、270：液體收納部，72、272：供應管，74、274：排出管，264A：圓柱部，W1：純水。