柔性基板處理裝置製造方法
2023-06-21 03:01:41 1
柔性基板處理裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種柔性基板處理裝置，包括用於盛放處理液的處理槽、位於處理液液面下方的定位輥輪、位於處理液液面上方的主動輥輪和被動輥輪，該裝置還包括：用於檢測卷繞在主動輥輪、定位輥輪以及被動輥輪上的柔性基板的實時線速度，並根據實時線速度計算出定位輥輪實時位置數據的檢測計算裝置，檢測計算裝置與主動輥輪或被動輥輪連接；用於根據所述實時位置數據實時調整所述定位輥輪位置的位移調整裝置，位移調整裝置分別與檢測計算裝置以及定位輥輪連接。通過適時調整定位輥輪的位置，實現了柔性基板處理過程中在處理液中的處理時間保持恆定的同時，無需額外增加或排除處理液，提高了柔性基板的質量。
【專利說明】柔性基板處理裝置
[0001]【技術領域】
[0002]本實用新型涉及半導體製造技術，特別是涉及一種柔性基板處理裝置。
[0003]【背景技術】
[0004]隨著柔性顯示產品的不斷開發，卷對卷工藝憑藉其低成本、高效率生產的特性，將逐步替代目前製造非柔性顯示產品所使用的逐張生產模式，成為未來顯示產品生產的主流。現有的卷對卷工藝中，由於纏繞柔性基板的輥輪的直徑隨著柔性基板纏繞層數的變化而變化，這就使得固定角速度轉動的輥輪上柔性基板的移動線速度在不停變化。從而導致柔性基板的浸泡時間會隨著輥輪的直徑變化而變化，進而導致柔性基板上的器件尺寸不均勻，影響柔性顯示產品的品質。
[0005]常見的解決方案為:通過控制處理液的液面位置來達到基板在處理液中浸泡時間恆定的效果，具體是通過排液和補液裝置來實現。但是上述技術方案有如下不足:需要進行頻繁的排液補液動作，會引起比較大的處理液擾動，這種擾動有很大機會將引起屏體顯示時的不均勻現象，降低柔性顯示產品的品質，同時會造成處理液的浪費。
[0006]實用新型內容
[0007]針對傳統技術中存在的上述問題，提供一種使柔性基板在處理液中的處理時間保持恆定的柔性基板處理裝置。
[0008]一種柔性基板處理裝置包括:用於盛放處理液的處理槽、位於處理液液面下方的定位輥輪、位於處理液液面上方的主動輥輪和被動輥輪，柔性基板處理裝置還包括:用於檢測卷繞在主動輥輪、定位輥輪以及被動輥輪上的柔性基板的實時線速度，並根據實時線速度計算出定位輥輪實時位置數據的檢測計算裝置，檢測計算裝置與主動輥輪或被動輥輪連接；根據實時位置數據實時調整定位輥輪位置的位移調整裝置，位移調整裝置分別與檢測計算裝置以及定位輥輪連接。
[0009]優選地，檢測計算裝置為距離傳感器和計算終端，距離傳感器與主動輥輪或被動輥輪相連接，距離傳感器與計算終端通信連接。
[0010]優選地，檢測計算裝置包括雷射厚度檢測儀和計算終端，雷射厚度檢測儀與主動輥輪或被動輥輪相連接，雷射厚度檢測儀與計算終端通信連接。
[0011]優選地，計算終端為電腦或伺服器。
[0012]優選地，位移調整裝置為步進電機及控制帶，步進電機通過控制帶與定位輥輪相連。
[0013]優選地，控制帶為絲槓。
[0014]本實用新型具有以下有益效果:檢測計算裝置與主動輥輪或被動輥輪相連接，通過檢測主動輥輪或被動輥輪的半徑或直徑變化情況計算柔性基板的實時線速度。根據柔性基板實時線速度的變化量，計算定位輥輪的實時位置數據，檢測計算裝置發送該實施位置數據至位移調整裝置，以供位移調整裝置實時調整定位輥輪在處理液中的位置。從而實現了柔性基板在處理液中的處理時間保持恆定，且無需額外增加或排除處理液，減少了處理液的浪費，又不會引起處理液較大的攪動，減少了屏體顯示時的不均勻現象，提高了柔性基板的質量。
[0015]【專利附圖】
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型柔性基板處理裝置的結構示意圖。
[0017]【具體實施方式】
[0018]圖1為本實用新型柔性基板處理裝置的結構示意圖，如圖1所示，柔性基板處理裝置包括用於盛放處理液12的處理槽11、定位輥輪14、主動輥輪132、被動輥輪131、檢測計算裝置16及位移調整裝置17。
[0019]定位輥輪14位於處理液12的液面下方。主動輥輪132和被動輥輪131位於處理液12的液面上方，主動輥輪132、定位輥輪14以及被動輥輪131之間卷繞有柔性基板18。檢測計算裝置16對柔性基板18的實時線速度進行檢測，並根據柔性基板18的實時線速度計算定位輥輪14的實時位置數據，檢測計算裝置16與主動輥輪132或被動輥輪131連接。位移調整裝置17獲取檢測計算裝置16發送的定位輥輪14的實時位置數據，根據該實時位置數據實時調整定位輥輪14的位置，位移調整裝置17與檢測計算裝置16以及定位輥輪14相連接。
[0020]具體地，柔性基板18設於主動輥輪132、定位輥輪14以及被動輥輪131上。當柔性基板處理裝置運行時，主動輥輪132帶動柔性基板18運動，柔性基板18通過定位輥輪14的定位，其中一部分浸泡在處理液12中。主動輥輪132不斷轉動過程中，柔性基板18不斷通過處理液12，從而使得柔性基板18的每一部分均能夠被處理液12所處理，其中處理液12為刻蝕液、清洗液、或剝離液。
[0021]柔性基板18不斷卷繞在主動輥輪132上後，主動輥輪132的半徑不斷增大並滿足如下公式V = w*r(其中，V為柔性基板18的線速度，w為主動棍輪132的角速度，r為主動輥輪132的半徑)。由以上公式可知:當主動輥輪132勻速轉動時，角速度w是恆定值，因此線速度V與半徑r成正比，使得當主動輥輪132的半徑增大時，其上卷繞的柔性基板18的傳送速度將增加，因此會導致產生柔性基板18在處理液12中被浸泡的時間減少的趨勢。
[0022]圖1所示中檢測計算裝置16連接於主動輥輪132上，通過檢測主動輥輪132的半徑變化量計算出定位輥輪14的實時位置數據。同樣的，檢測計算裝置16也可以連接於被動輥輪131上，通過檢測被動輥輪131的半徑變化量計算出定位輥輪14的實時位置數據。在主動輥輪132或被動輥輪131上連接檢測計算裝置16後，檢測計算裝置16檢測獲得主動輥輪132或被動輥輪131的實時半徑。根據實時半徑的變化量，計算出柔性基板18的實時線速度，然後根據實時線速度計算定位輥輪14的實時位置數據，其中實時位置數據是指定位輥輪14在垂直方向上需要進行上下移動的垂直位移的待移動距離。
[0023]實時位置數據的具體計算過程如下:工藝開始時，定位輥輪14位於處理液中的初始位置(位於處理液中相對底部的位置)，工藝進行過程中，檢測計算裝置16的計數器會記錄主動輥輪的旋轉圈數n，其初始值為零，主動輥輪132每旋轉一周，計數器旋轉圈數η就增加I。根據公式v=w*r=w*( r0+n*t)(其中，v為主動棍輪132的線速度，w為主動棍輪132的角速度，r0為主動輥輪132自有半徑，η為主動輥輪132的旋轉圈數，t為柔性基板18的厚度)可知，主動輥輪132的線速度是主動輥輪132旋轉圈數η的函數。
[0024]設定位輥輪14中心距處理液12的液面的距離為y，設柔性基板18在處理液12中的長度為S，S是y的函數，即S=f (y)，則柔性基板在處理液中的浸泡時間t等於S/v，即f(y) H,因此通過調整I能夠實現浸泡時間t的恆定。
[0025]因此，檢測計算裝置16通過檢測到主動輥輪或被動輥輪13的半徑變化後，可計算出定位輥輪在垂直方向上需要進行調整的移動距離值，即實時位置數據。檢測計算裝置16將該實時位置數據發送至與定位輥輪14相連接的位移調整裝置17，位移調整裝置17根據該實時位置數據實時調整定位輥輪14的位置。
[0026]優選地，檢測計算裝置16為距離傳感器和計算終端，距離傳感器與主動輥輪132或被動輥輪131相連接，距離傳感器與計算終端通信連接。
[0027]優選地，檢測計算裝置16包括雷射厚度檢測儀和計算終端，雷射厚度檢測儀與主動輥輪132或被動輥輪131相連接，雷射厚度檢測儀與計算終端通信連接。
[0028]優選地，計算終端為電腦或伺服器。
[0029]優選地，位移調整裝置17為步進電機及控制帶，步進電機通過控制帶與定位輥輪相連。
[0030]優選地，控制帶為絲槓。
[0031]在本實施例的技術方案中，檢測計算裝置與主動輥輪或被動輥輪相連接，通過檢測主動輥輪或被動輥輪的半徑或直徑變化情況計算柔性基板的實時線速度。根據柔性基板實時線速度的變化量，計算定位輥輪的實時位置數據，檢測計算裝置發送該實施位置數據至位移調整裝置，以供位移調整裝置實時調整定位輥輪在處理液中的位置。從而實現了柔性基板在處理液中的處理時間保持恆定，且無需額外增加或排除處理液，減少了處理液的浪費，又不會引起處理液較大的攪動，減少了屏體顯示時的不均勻現象，提高了柔性基板的質量。
[0032]應說明的是:以上實施例僅用以說明本實用新型而非限制，本實用新型也並不僅限於上述舉例，一切不脫離本實用新型的精神和範圍的技術方案及其改進，其均應涵蓋在本實用新型的權利要求範圍中。
【權利要求】
1.一種柔性基板處理裝置，包括用於盛放處理液的處理槽、位於所述處理液液面下方的定位輥輪、位於所述處理液液面上方的主動輥輪和被動輥輪，其特徵在於，所述柔性基板處理裝置還包括: 用於檢測卷繞在所述主動輥輪、所述定位輥輪以及所述被動輥輪上的柔性基板的實時線速度，並根據所述實時線速度計算出所述定位輥輪實時位置數據的檢測計算裝置，所述檢測計算裝置與所述主動輥輪或被動輥輪連接； 用於根據所述實時位置數據實時調整所述定位輥輪的位置的位移調整裝置，所述位移調整裝置分別與所述檢測計算裝置以及所述定位輥輪連接。
2.根據權利要求1所述的柔性基板處理裝置，其特徵在於，所述檢測計算裝置為距離傳感器和計算終端，所述距離傳感器與所述主動輥輪或所述被動輥輪相連接，所述距離傳感器與所述計算終端通信連接。
3.根據權利要求1所述的柔性基板處理裝置，其特徵在於，所述檢測計算裝置包括雷射厚度檢測儀和計算終端，所述雷射厚度檢測儀與所述主動輥輪或所述被動輥輪相連接，所述雷射厚度檢測儀與所述計算終端通信連接。
4.根據權利要求2或3所述的柔性基板處理裝置，其特徵在於，所述計算終端為電腦或伺服器。
5.根據權利要求1所述的柔性基板處理裝置，其特徵在於，所述位移調整裝置為步進電機及控制帶，所述步進電機通過所述控制帶與所述定位輥輪相連。
6.根據權利要求5所述的柔性基板處理裝置，其特徵在於，所述控制帶為絲槓。
【文檔編號】H01L21/67GK203588979SQ201320698616
【公開日】2014年5月7日 申請日期:2013年11月7日 優先權日:2013年11月7日
【發明者】蔡世星, 習王鋒 申請人:崑山工研院新型平板顯示技術中心有限公司, 崑山國顯光電有限公司