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耐場強平面電極的製作方法

2023-06-29 13:30:06

專利名稱:耐場強平面電極的製作方法
技術領域:
本實用新型屬於光電子學成像系統中平面電極結構的改進。
平面電極是光電子學成像系統中廣泛應用的一種電極形式,在工作中電極間加有高壓電場,電子從一側電極逸出,在電場驅動下,電子加速運動到達另一側電極螢光屏上成像,由於電子逸出時受橫向速度的影響,到達第二電極時,電子圖像產生彌散,降低了成像的空間解析度。為了系統地得到較高的空間解析度,可以從兩個途徑來解決問題,即提高電極場強和縮小兩電極間隙,但這樣很容易造成電極擊穿打火,毀壞整個成像系統。
本實用新型的目的是提出一種耐場強平面電極的結構,使之在較高場強下,不易造成電極擊穿打火,實現成像系統的空間解析度及亮度的提高。
本實用新型的技術方案是以如下方式實現的在平面電極兩相對面的其中一面鍍有2-3μm厚的絕緣耐壓層。
本實用新型所設計的耐場強平面電極,由於制有絕緣耐壓層,從而使電極間隙減小到300-400μm,使電極耐壓上升到10KV以上,克服了系統因場強擊穿打火的問題,保證了整個系統的正常工作。同時由於場強的增加,大大減小了電子彌散的影響,使成像亮度增加,空間解析度倍增。其具有結構簡單、製作容易的優點。



圖1為本實用新型所設計耐場強平面電極的一種實施例的結構示意圖,圖中1為微通道板,2為輸出電極,3為絕緣耐壓層,4為纖維面板,5為螢光屏(輸入電極)。
以下結合附圖來說明本實用新型的實施例。
附圖中為雙近貼變像管結構示意,其只是本實用新型的一個非限定性的實施例。在微通道板的輸出電極2端面上,用濺射鍍膜的方法鍍有三氧化二鋁玻璃絕緣耐壓層3,其厚度為2-3μm。在測試時與螢光屏4(輸出電極)間隔300-400μm,在微通道板上加電壓後,經測試工作電場強度可達十幾千伏/毫米,來出現擊穿打火現象,電子達到螢光屏時,幾乎沒有彌散影響,成像亮度好,空間解析度倍增。本實用新型所設計的耐場強平面電極可廣泛應用於當前飛躍發展的成像系統和診斷技術中去,如X射線增強器、條紋像機,MCP選通分幅像機,CCD等需要較高空間解析度的儀器、設備。
權利要求1,一種用於光電子學成像系統中的耐場強平面電極,其特徵在於在平面電極兩相對面的其中一面鍍有2-3μm厚的絕緣耐壓層。
專利摘要一種耐場強平面電極,本實用新型的特點是在平面電極兩相對面的其中一面鍍有絕緣耐壓層,從而使電極工作時的電場強度達十幾千伏/毫米,電子移動幾乎不產生彌散、成像系統的空間解析度和增益得到很大提高,這一技術可廣泛應用於光電子學的成像系統和診斷技術中。
文檔編號H01J1/30GK2252406SQ95245038
公開日1997年4月16日 申請日期1995年9月22日 優先權日1995年9月22日
發明者常增虎, 劉秀琴 申請人:中國科學院西安光學精密機械研究所

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