複合延遲片及其製備方法，複合光學構件和液晶顯示器的製作方法

2023-06-08 06:52:41

專利名稱：複合延遲片及其製備方法，複合光學構件和液晶顯示器的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種被層壓在液晶單元上的複合延遲片及其製備方法，以 及各自包含這種複合延遲片的複合光學構件和液晶顯示器。本發明還涉及 一種用於防止複合延遲片的塗布延遲片破裂的技術。
背景技術：
近年，由於LCD的許多優點，例如，低電力消耗、低電壓操作、重 量輕而薄，液晶顯示器作為信息顯示裝置例如行動電話、個人數字助理、 計算機用監視器和電視，己經迅速得到廣泛應用。隨著LCD技術的進步， 已經提出了各種模式的液晶顯示器。在這樣的情形下，正在克服液晶顯示 器在響應速度、對比度、窄視角等方面的問題。
然而，應指出的是，LCD的視角仍比陰極射線管(CRTs)的視角更窄。 在這樣的情形下，己經對加寬LCD的視角進行了各種試驗。
這樣的LCD之一是垂直取向(或VA)模式LCD，其中具有正或負的介 電常數各向異性的棒狀液晶分子垂直於基板取向。在這樣的垂直取向模式
中，液晶分子在它們不受驅動時垂直於基板取向，因此，光在沒有任何偏 振變化的情況下穿過液晶層。當將線偏振片設置在這種液晶面板的上側和 下側，使得它們的偏振軸可以相互正交時，在正面被觀察時，該液晶面板 被觀察到基本上是完全黑的，因而，可以得到高的對比率。
然而，其中僅將偏振片設置在液晶單元上的此類VA模式液晶顯示器 遭受導致對比率顯著降低的光洩漏之苦。這是因為，當從斜向觀察液晶顯 示器時，被設置的偏振片的軸角度偏離90°，並且單元中的棒狀液晶分子 顯現出雙折射。
為了消除這種光洩漏，必須在液晶單元和每一個線偏振片之間設置光 學補償膜。因此，常規上，在液晶單元與上和下偏振片的每一個之間分別
設置1個雙軸延遲片；或將1個正單軸延遲片和1個完全雙軸延遲片分別
設置在液晶單元的上側和下側，或將該兩個延遲片都設置在液晶單元的一
例如，JP-A-2001-109009公開了一種VA模式液晶顯示器，其中在上 偏振片和液晶單元之間以及在下偏振片和液晶單元之間分別設置a-片(即， 正單軸延遲片)和c-片(g卩，完全雙軸延遲片)。
正單軸延遲片是這樣的膜，其中它的面內相位差值RO與它的厚度方 向上的相位差值Rth的比例(即，RO/Rth)基本上為2。完全雙軸延遲片是其 中面內相位差值RO基本上為零(O)的膜。在這點上，面內相位差值RO和 在厚度方向上的相位差值Rth分別由下列等式(I)和(II)定義
RO=(nx-ny)x d (1)，禾口
Rth=[(nx+ny)/2-nz] x d (11)，
其中，nx表示膜在面內延遲軸方向上的折射率；ny表示膜在面內超前軸 (advancing axis)方向(即，與面內延遲軸正交的方向)上的折射率；nz表示 厚度方向上的折射率；以及d表示膜的厚度。
正單軸膜具有nzHny的關係，使得比例RO/Rth基本上為 2(R0/Rth^2)。即使是正單軸膜，但是根據取向條件的變化，比例RO/Rth 可以在約1.8至約2.2的範圍內變化。由於完全雙軸膜具有nx— ny的關係， 因此它的面內相位差值基本上為零(RO —0)。完全雙軸膜僅在厚度方向上的 折射率上不同(或更小)，因而是負單軸的。因此，此膜是在法線方向上具 有光學軸的膜，因而，它有時稱為如上所述的c-片。
作為用於上述目的的光學補償膜，JP-A-2005-338215公開了一種通過 下列方法得到的複合延遲片經由壓敏粘合劑層，將由具有折射率各向異 性的塗層組成的第二延遲片層壓在由面內取向的透明樹脂膜組成的第一 延遲片上。JP-A-2006-10912公開了由含有有機改性粘土複合物和基於脂 族二異氰酸酯的聚氨酯樹脂的塗布液形成延遲片，並且公開了一種經由壓 敏粘合劑層將偏振片層壓在上述延遲片上所得到的複合偏振片。然而， JP-A-2005-338215和JP-A-2006-10912中公開的結構具有下列缺點由於
塗布延遲片被夾在兩個壓敏粘合劑層之間，因此當將物理外力施加在複合
延遲片或複合偏振片上時，應力集中在該塗布延遲片上，從而導致可能引 起光洩漏的塗布延遲片的破裂。

發明內容
在製備通過將面內取向的第一延遲片和由顯示出折射率各向異性的 塗層製成的第二延遲片相互層壓而得到的複合延遲片的試驗過程中，本發 明人發現了下列事實即，通過使用底塗層代替迄今為止被設置在第一和 第二延遲片之間的壓敏粘合劑層，可以抑制因物理外力而易於發生的第二 延遲片的破裂所引起的光洩漏。本發明基於此發現而得以完成。
因此，本發明的一個目的是提供一種當被層壓到液晶單元上時，比常 規複合延遲片中的任何一種更能抑制光洩漏的複合延遲片，並且提供用於 製備該複合延遲片的方法。
本發明的另一個目的是提供一種複合光學構件，所述複合光學構件通 過在此複合延遲片上層壓具有其它光學功能的光學層例如偏振片而得到， 並且在被層壓在液晶單元上時，可以抑制光洩漏。
本發明的又一個目的是提供一種通過使用此複合光學構件，能夠顯著 抑制光洩漏的液晶顯示器。
因此，本發明提供了一種複合延遲片，所述複合延遲片包含以下列順 序層壓的第一延遲片、底塗層、第二延遲片和壓敏粘合劑層，其中所述第 二延遲片是通過從塗布液中蒸發有機溶劑得到的，所述塗布液在有機溶劑 中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂。
此複合延遲片可以通過下列方法中的任一種來製備。
(l)包括下列步驟的方法
底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的表面上形成底塗層； 塗層形成步驟，其中通過將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和
粘合劑樹脂的塗布液塗覆到轉印基底上以形成塗層，並且使所述溶劑從所
述塗層中蒸發，形成第二延遲片；
層壓步驟，其中將在所述底塗層形成步驟中得到的所述底塗層和在所
述塗層形成步驟中得到的第二延遲片相互層壓；
轉印基底剝離步驟，其中從第二延遲片上剝離所述轉印基底；以及
壓敏粘合劑層形成步驟，其中在第二延遲片的表面上形成壓敏粘合劑
層，
其中至少所述底塗層形成步驟和所述塗層形成步驟是在其它步驟以 前進行的，並且
其中進行各個步驟，以得到由第一延遲片/所述底塗層/第二延遲片/所 述壓敏粘合劑層以此順序組成的層結構。 (2)包括下列步驟的方法
底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的一個表面上形成底塗層；
塗層形成步驟，其中將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合 劑樹脂的塗布液塗覆在所述底塗層的表面上以形成塗層，然後從所述塗層 除去所述溶劑，以形成第二延遲片；和
壓敏粘合劑層形成步驟，其中在第二延遲片的表面上形成壓敏粘合劑
層，
其中以此順序進行上述步驟，以得到由第一延遲片/所述底塗層/第二 延遲片/所述壓敏粘合劑層以此順序組成的層結構。
在方法(l)中，可以在底塗層形成步驟和塗層形成步驟以後，以下列順
序進行層壓步驟、轉印基底剝離步驟和壓敏粘合劑層形成步驟；或備選地，
可以在底塗層形成步驟和塗層形成步驟以後，以下列順序進行壓敏粘合劑 層形成步驟、轉印基底剝離步驟和層壓步驟。
此外，本發明提供了一種複合光學構件，所述複合光學構件通過在上 述複合延遲片上層壓具有其它光學功能的光學層例如偏振片等而得到。
另外，本發明提供了一種液晶顯示器，所述液晶顯示器通過將上述復 合光學構件設置在液晶單元的至少一個表面上而得到。
附圖簡述


圖1顯示說明其結構的複合延遲片的示意性截面圖。
圖2顯示用於說明製備複合延遲片的第一實施方案(第一轉印方法)， 以描述各個步驟的示意性截面圖。
圖3顯示用於說明在第一轉印方法中的下列步驟(第一步驟)的示意 圖在第一延遲片的一個表面上形成底塗層。
7
圖4顯示用於說明在第一轉印方法中的下列步驟(第二步驟)的示意 圖在轉印基底的一個表面上形成第二延遲片，並且層壓第一延遲片的底 塗層。
圖5顯示用於說明在第一轉印方法中的下列步驟(第三步驟)的示意 圖在層壓底塗層和第二延遲片以後，剝離轉印基底，並且形成壓敏粘合 劑層。
圖6顯示用於說明製備複合延遲片的第二實施方案(第二轉印方法)， 以描述各個步驟的示意性截面圖。
圖7顯示用於說明在第二轉印方法中的下列步驟(第一步驟)的示意 圖在轉印基底的一個表面上形成第二延遲片，並且在第二延遲片上形成 壓敏粘合劑層。
圖8顯示用於說明在第二轉印方法中的下列步驟(第二步驟)的示意
圖在第一延遲片的一個表面上形成底塗層，並且將第二延遲片層壓在底 塗層上，同時剝離轉印基底。
圖9顯示用於說明在第二轉印方法中的下列步驟(第三步驟)的示意 圖在將第二延遲片層壓在底塗層上以後，乾燥層壓體。
圖IO顯示用於說明製備複合延遲片的第三實施方案(塗布法)，以描述 各個步驟的示意性截面圖。
圖11顯示用於說明在塗布法中不斷地進行從在第一延遲片上形成底 塗層，直至形成壓敏粘合劑層的過程的實例的示意圖。
圖12顯示用於說明在塗布法中的下列步驟(第一步驟)的示意圖在第 一延遲片的表面上形成底塗層。
圖13顯示用於說明在塗布法中的下列步驟(第二步驟)的示意圖在形 成在第一延遲片的表面上的底塗層上形成第二延遲片，並且在其上進一步 形成壓敏粘合劑層。
圖14顯示說明其結構的複合光學構件的示意性截面圖。
符號說明
10...複合延遲片 11 ...第一延遲片12 ...底塗層
13 ...具有底塗層的第一延遲片 14...第二延遲片
15 ...轉印基底
16...具有附著於其上的轉印基底的第二延遲片
17 ...包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/轉印基底的層壓體的半成
口 叩
18 ...包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片的層壓體的半成品 19...壓敏粘合劑層
20...具有壓敏粘合劑的膜
21 ...包含轉印基底/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體的半成品
22...包含第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體的半成品
23 ...包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片的層壓體的半成品
30...第一延遲片供給輥
31 ...底塗層塗布機
32...底塗層乾燥區
35 ...第一半成品輥
40...轉印基底供給輥
41 ...塗層塗布機
42...塗層乾燥區
45 ...第二半成品輥
46...第二半成品乾燥區47...轉印基底剝離輥
48 ...轉印基底巻繞輥
49...用於供給具有壓敏粘合劑的膜的輥
50 ...第三半成品輥
55 ...第四半成品輥
56...成品乾燥區
60 ...成品輥
70...複合光學構件
71 ...顯示出其它光學功能的光學層
72...壓敏粘合劑層
實施本發明的最佳實施方案
以下，將參考附圖詳細描述本發明的實施方案。如圖1中所示，通過 以下列順序層壓第一延遲片11、底塗層12、第二延遲片14和壓敏粘合劑 層19製備複合延遲片10。
考慮到容易形成具有取向性質的膜，用作第一延遲片11的膜是在它 的平面中取向，並且具有優異的透明性和均勻性的膜，優選為由熱塑性樹 脂形成的取向透明膜。熱塑性樹脂的實例包括聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、 聚醚碸、纖維素樹脂、含有烯烴例如丙烯和乙烯作為主要單體的聚烯烴樹 脂，以及含有環烯烴例如降冰片烯作為主要單體的環狀聚烯烴樹脂。作為 第一延遲片11，還可以使用在其上形成液晶材料的塗層以在樹脂片中產生 相位差的纖維素樹脂的透明樹脂片。
根據複合延遲片的最終用途，可以在約30至約300 nm的範圍內適當 地選擇第一延遲片的面內相位差值。當將複合延遲片用於例如行動電話或 個人數字助理的較小而緊湊的液晶顯示器時，有利的是使用1/4波長片作 為第一延遲片。
有利的是，底塗層12由透明樹脂通過塗布形成。儘管術語"底塗"通 常是指下塗，但是本發明中所指的底塗層12起著通過塗布形成的第二延 遲片的下塗層的作用。即使當直接對底塗層塗覆用於第二延遲片14的塗 布液時，底塗層12的形成也有效防止塗布液中的有機溶劑對第一延遲片 的影響。底塗層12是由不顯示出像壓敏粘合劑這樣高的彈性的樹脂形成 的。儘管對樹脂的類型沒有限制，但是優選使用塗布性優異的樹脂，特別 是能夠賦予優異的透明性以及與形成的層的粘合性的樹脂。
構成底塗層12的樹脂在使用前，可以溶解在溶劑中，或可以用溶劑 稀釋，以調節底塗層的厚度。根據樹脂的溶解性，可以使用常規有機溶劑。 常規有機溶劑的實例包括芳族烴(例如，苯、甲苯、二甲苯等)、酮(例如， 丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等)、酯(例如，乙酸乙酯、乙酸異丁酯 等)、氯代烴(例如，二氯甲烷(chlorinatedmethylene),三氯乙垸、氯仿等)，
以及醇(例如，乙醇、l-丙醇、2-丙醇、l-丁醇等)。然而，由含有有機溶劑 的溶液形成的底塗層12可能影響第一延遲片11的光學特性。因此，優選 形成含有水作為溶劑的塗布液的底塗層12。
環氧樹脂是作為構成底塗層12的樹脂的優選實例給出的，並且可以 使用單組分固化型環氧樹脂或雙組分固化型環氧樹脂。特別優選的是水溶 性環氧樹脂。水溶性環氧樹脂的實例是通過表氯醇和聚醯胺-多胺之間的反 應得到的聚醯胺環氧樹脂，所述聚醯胺-多胺通過將聚亞烷基-多胺例如二 亞乙基三胺或三亞乙基四胺與二羧酸例如己二酸反應而得到。作為可商購
的聚醯胺環氧樹脂，示例的有由Sumika Chemtex Co.， Ltd.生產的 "SUMIREZ RESIN 650(30)"和"SUMIREZ RESIN 675"(商品名)。
當將水溶性環氧樹脂用作構成底塗層12的樹脂時，優選將這種樹脂 與其它的水溶性樹脂例如聚乙烯醇樹脂混合，以改善其塗布性能。聚乙烯
醇樹脂可以是部分皂化的聚乙烯醇或完全皂化的聚乙烯醇，或改性的聚 乙烯醇樹脂，例如羧基-改性的聚乙烯醇、乙醯乙醯基-改性的聚乙烯醇、 羥甲基-改性的聚乙烯醇、氨基-改性的聚乙烯醇等。合適的可商購的聚乙
烯醇樹脂是作為由株式會社可樂麗(KURARAY CO., LTD.)生產的羧基-改 性的聚乙烯醇的"KL-318"和"KL-506"(商品名)。由株式會社可樂麗生產的 這些聚乙烯醇的細節是以在波瓦爾樹脂-專業視野(poval resin-specialized sight) 中 的 "KURARAY POVAL ， special brand" <URL:http:〃www.poval.jp/japan/poval/s.grades/sg.k.html〉(訪問曰2006年 3月3日)的形式描述的。
當由含有水溶性環氧樹脂的塗布液形成底塗層12時，按100重量份 的水計，環氧樹脂的濃度優選為約0.2至約5.5重量份。按100重量份的 水計的環氧樹脂的濃度可以選自以上規定的範圍內的相對低的範圍例如 約0.2至約1.5重量份，或選自以上規定的範圍內的相對高的範圍例如約 0.5至約5.5重量份。此濃度的選擇對進一步改善底塗層的功能是有效的。 當將此塗布液與聚乙醇樹脂混合時，按100重量份的水計，樹脂的量優選 為約1至約25重量份。按100重量份的水計的聚乙烯醇樹脂的量可以選 自以上規定的範圍內的相對低的範圍例如約1至約6重量份，或可以選自 以上規定的範圍內的相對高的範圍例如約5至約25重量份。此量的選擇
也是有效的。底塗層12的厚度優選為約0.1至約10pim，更優選為約0.5 至約10 |im。
對用於形成底塗層的塗布法沒有具體限制，並且可以使用任何一種已 知塗布法，例如直接凹印刷法、反轉凹印法、口模式塗布法、間歇塗布法 (comma coating method)、棒塗法等。
第二延遲片14是通過從塗布液蒸發有機溶劑而得到的層，所述塗布 液在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂。
這裡使用的有機改性粘土複合物是有機物質和粘土礦物的複合物。例 如，這種複合物是通過將具有層狀結構的粘土礦物與有機化合物複合得到 的，並且在有機溶劑中是可分散的。具有層狀結構的粘土礦物的實例包括 屬於蒙脫石類和溶脹性雲母的粘土礦物，其由於它們的陽離子交換能力， 可以與有機化合物複合。
首先，蒙脫石類的粘土礦物是優選的，因為它們還具有優良的透明性。 蒙脫石類的粘土礦物的實例包括鋰蒙脫石、蒙脫土、膨潤土等。在這些中， 化學合成的粘土礦物是優選的，因為它們含有較少的雜質並且具有優良的 透明性。尤其優選的是粒子尺寸被控制得更小的合成鋰蒙脫石，因為它們 的使用對抑制可見光線的散射是有效的。
作為與粘土礦物複合的有機化合物，使用與粘土礦物的氧原子或羥基 反應的化合物，或可與可交換的陽離子交換的離子化合物。對該有機化合 物的選擇沒有限制，只要此化合物的使用允許有機改性粘土複合物在有機 溶劑中溶脹或分散即可。這種有機化合物的具體實例包括含氮化合物等。 該含氮化合物的實例包括一級、二級或三級胺、季銨化合物等。在這些中， 季銨化合物是優選的，因為它們易於與陽離子交換。
在這點上，可以組合使用兩種以上的有機改性粘土複合物。合適的可 商購有機改性粘土複合物是在由CO-OP CHEMICAL CO., LTD.生產的 "LUCENTITE STN"和"LUCENTITE SPN"的商品名下的季銨化合物和合 成鋰蒙脫石的複合物。
考慮到容易塗布到底塗層12或稍後所述的轉印基底、光學特性的顯 現以及力學特性，將在有機溶劑中可分散的有機改性粘土複合物與粘合劑 樹脂組合使用。作為與有機改性粘土複合物組合使用的粘合劑樹脂，優選使用在有機溶劑例如甲苯、二甲苯、丙酮和乙酸乙酯中可溶的粘合劑樹脂， 尤其是具有比室溫更低的玻璃化轉變溫度(約2(TC以下)的粘合劑樹脂。優 選使用疏水性粘合劑樹脂，以得到用於液晶顯示器的複合延遲片所需的足 夠的耐溼熱性和易操作性。這種優選的粘合劑樹脂的實例包括聚乙烯醇 縮醛樹脂，例如聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇縮甲醛；纖維素類樹脂，例如 乙酸丁酸纖維素；丙烯酸類樹脂，例如丙烯酸丁酯，聚氨酯樹脂，甲基丙 烯酸類樹脂，環氧樹脂和聚酯樹脂；等。
合適的可商購粘合劑樹脂是在由電氣化學工業株式會社(DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA)生產的"Denka Butyral 弁3000-K"的商品名下的聚乙烯醇的醛改性樹脂、在由東亞合成株式會社 (TOAGOSEI CO., LTD.)生產的"ALON S1601"的商品名下的丙烯酸類樹 脂、在由蘇米加拜耳聚氨酯有限公司(Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.)生產 的"SBU Lacquer 0866"的商品名下的異佛爾酮二異氰酸酯-基聚氨酯樹脂，等。
可分散在有機溶劑中的有機改性粘土複合物與粘合劑樹脂的重量比
為0.5:1至10:1，尤其是1:1至2:1。此重量比範圍優選改善力學性能，例 如防止含有有機改性粘土複合物和粘合劑的層的破裂。
有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂包含於有機溶劑中，以形成塗布 液，所述塗布液然後被塗覆到底塗層12或轉印基底上。通常，將粘合劑 樹脂溶解在有機溶劑中，並且將有機改性粘土複合物分散在有機溶劑中。 對這種液體分散體的固體濃度沒有限制，只要液體分散體不形成凝膠或變 白，在其製備後不伴隨實用問題即可。然而，通常使用有機改性粘土複合 物和粘合劑樹脂，使得它們的總固體濃度可以為約3至約15重量％。最佳 固體濃度根據有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂的種類以及它們的組成 比而變化，因此，根據它們的組成中的每一種來選擇最佳固體濃度。可以 向液體分散體中加入添加劑，例如用於改善用於形成膜的塗布能力的粘度 調節劑、用於改善疏水性和/或耐久性的交聯劑，等。
對用於形成第二延遲片14的塗布法沒有限制即，可以使用任何一 種已知塗布法，例如直接凹印法、反轉凹印法、口模式塗布法、間歇塗布 法、棒塗法等。
第二延遲片在它的厚度方向上的折射率各向異性由上述等式(II)中定 義的在厚度方向上的相位差值Rth表示。此值是由當作為傾斜軸的面內延
遲軸傾斜成40。的角度時所測量的相位差值R40以及由面內相位差值RO
計算的。即，由等式(II)確定的厚度方向上的相位差值Rth可以如下計算
使用面內相位差值RO、當作為傾斜軸的延遲軸傾斜成40。的角度時所得到 的相位差值R40、膜的厚度d以及膜的平均折射率nO，以通過下列數字等 式(m)至(V)得到nx、 ny和nz的值，並且將這些所得到的值代入上述等式 (II)中
RO = (nx-ny)xd (III), R40 = (nx - ny') x d/cos(()(IV)，禾口 (nx + ny + nz)/3 = n0 (V)， 其中小和ny'由下列等式計算
—sirf'[sin(40。)/n0]，禾口
ny' 二 ny x nz/[ny2 x sin2 + nz2 x cos2())]1/2。
優選地，根據第二延遲片14的最終用途，並且特別是，根據液晶單 元的特性，在約40至約300nm的範圍內適當地選擇第二延遲片14在它的 厚度方向上的相位差值Rth。在厚度方向上的相位差值Rth有利地為50 nm 以上，並且有利地為200nm以下。
壓敏粘合劑層19包含作為基本聚合物的丙烯酸類聚合物、矽氧烷-基 聚合物、聚酯、聚氨酯、聚醚等。首先，優選選擇地使用諸如丙烯酸類壓 敏粘合劑的產品，所述產品在光學透明性方面是優良的，並且能夠保持適 當的潤溼性和內聚力，並且在與基底的粘合性方面優良，具有耐候性和耐 熱性，以及沒有與剝離有關的任何問題，例如在加熱或加溼條件下的浮動 和剝離。關於丙烯酸類壓敏粘合劑，通過下列方法製備的丙烯酸類共聚物 可用作基體聚合物將丙烯酸垸基酯與含官能團的丙烯酸類單體聚合，從 而具有100,000以上的重均分子量以及優選25"C以下，更優選ot:以下的 玻璃化轉變溫度，所述丙烯酸垸基酯具有碳原子為20個以下的垸基，例
如甲基或乙基或丁基，所述含官能團的丙烯酸類單體包含(甲基)丙烯酸或 (甲基)丙烯酸羥乙酯。
接著，將描述根據本發明的複合延遲片的製備。如上所述，根據本發 明的複合延遲片可以通過下列方法中的任何一種來製備
(1) 包括下列步驟的方法
底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的表面上形成底塗層； 塗層形成步驟，其中通過將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和
粘合劑樹脂的塗布液塗覆到轉印基底上，隨後將所述溶劑從所得到的塗層
中除去，從而形成第二延遲片；
層壓步驟，其中將在所述底塗層形成步驟中得到的所述底塗層和在所
述塗層形成步驟中得到的第二延遲片相互層壓；
轉印基底剝離步驟，其中從第二延遲片上剝離所述轉印基底；以及 壓敏粘合劑層形成步驟，其中在第二延遲片的表面上形成壓敏粘合劑
層，
其中至少所述底塗層形成步驟和所述塗層形成步驟是在其它步驟以 前進行的，並且
其中進行上述各個步驟，以得到第一延遲片/所述底塗層/第二延遲片/ 所述壓敏粘合劑層的層結構；和
(2) 包括下列步驟的方法
底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的表面上形成底塗層； 塗層形成步驟，其中將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合
劑樹脂的塗布液塗覆在所述底塗層的表面上，然後從所得到的塗層除去溶
劑，從而形成第二延遲片；和
壓敏粘合劑層形成步驟，其中在第二延遲片的表面上形成壓敏粘合劑
層，
其中以此順序進行上述步驟，以得到第一延遲片/所述底塗層/第二延 遲片/所述壓敏粘合劑層的層結構。
作為方法(l)的實例，在底塗層形成步驟和塗層形成步驟以後，以下列 順序進行層壓步驟、轉印基底剝離步驟和壓敏粘合劑層形成步驟；或者相 反，在底塗層形成步驟和塗層形成步驟以後，以下列順序進行壓敏粘合劑層形成步驟、轉印基底剝離步驟和層壓步驟。
在前一方法(l)中，通過下列步驟製備具有第一延遲片/底塗層/第二延 遲片/壓敏粘合劑層的層結構的複合延遲片在第一延遲片的表面上形成底 塗層(底塗層形成步驟)；單獨地，將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合 物和粘合劑樹脂的塗布液塗覆到轉印基底上，隨後從得到的塗層除去溶 劑，以形成第二延遲片(塗層形成步驟)；將具有附著於其上的底塗層的第 一延遲片的底塗層側層壓在第二延遲片的暴露表面上(層壓步驟)；然後， 將轉印基底從第二延遲片剝離(轉印基底剝離步驟)；以及在第二延遲片的 沒有轉印基底的表面上形成壓敏粘合劑層(壓敏粘合劑層形成步驟)。以下， 將此方法任選稱為"第一實施方案"或"第一轉印法"。
在後一方法(l)中，通過下列步驟製備具有第一延遲片/底塗層/第二延 遲片/壓敏粘合劑層的層結構的複合延遲片將在有機溶劑中含有有機改性 粘土複合物和粘合劑樹脂的塗布液塗覆到轉印基底上，隨後從得到的塗層 除去有機溶劑和水，以形成第二延遲片(塗層形成步驟)；在第二延遲片的 暴露表面上形成壓敏粘合劑層(壓敏粘合劑層形成步驟)；單獨地，在第一 延遲片的表面上形成底塗層(底塗層形成步驟)；然後，從第二延遲片剝離 轉印基底(轉印基底剝離步驟)；以及將第二延遲片的沒有轉印基底的表面 層壓在第一延遲片的底塗層側上(層壓步驟)。以下，將此方法任選稱為"第 二實施方案"或"第二轉印法"。
在方法(2)中，通過下列步驟製備具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片/ 壓敏粘合劑層的層結構的複合延遲片在第一延遲片的表面上形成底塗層 (底塗層形成步驟)；將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹 脂的塗布液塗覆到底塗層上，隨後從得到的塗層去除溶劑，以形成第二延 遲片(塗層形成步驟)；以及在第二延遲片的表面上形成壓敏粘合劑層(壓敏 粘合劑層形成步驟)。以下，將此方法任選稱為"第三實施方案"或"塗布法"。
在作為順序示意性截面圖的圖2中，說明了第一實施方案(或第一轉印 法)。首先，如圖2(A)中所示，在第一延遲片11的表面上形成底塗層12， 以製備其上附著有底塗層的第一延遲片13。在此步驟中，優選將第一延遲 片11在它的兩個表面上進行電暈放電處理。如圖2(B)中所示，單獨地， 在轉印基底15的表面上形成第二延遲片14，以製備其上附著有轉印基底
的第二延遲片16。如圖2(C)中所示，使用底塗層12和第二延遲片14作為 接合面，將其上附著有底塗層的第一延遲片13與其上附著有轉印基底的 第二延遲片16相互層壓。因而，得到了具有第一延遲片/底塗層/第二延遲 片/轉印基底的層結構的半成品17。然後，將轉印基底15從半成品17剝 離並除去，以得到如圖2(D)中所示的具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片 的層結構的半成品18。最後，在第二延遲片14的沒有轉印基底的表面上 形成壓敏粘合劑層19，以完成具有圖2(E)中所示結構的複合延遲片10。
以圖3至5中所示的示意性截面圖形式，說明了此實施方案的複合延 遲片的巻材的製備步驟。在此實施方案的第一步驟中，在第一延遲片11 的片的表面上形成底塗層12，並且將得到的片巻起。這通過參考圖3得到 更詳細的描述通過底塗層塗布機31，將底塗層用塗布液塗覆到從第一延 遲片供給輥30倒巻的第一延遲片11的片表面上，並且相繼地使得到的片 穿過底塗層乾燥區32以進行乾燥。從而，製備了其上附著有底塗層的第 一延遲片13的片，並且將其巻繞在第一半成品輥35上。
當將具有底塗層的第一延遲片的片巻繞到第一半成品輥35上時，底 塗層12的表面在其上沒有任何覆蓋層的情況下暴露於空氣。因此，優選 在作為其上形成有底塗層的表面的相反側的第一延遲片的另一表面上，層 壓不是底塗層的粘合劑的保護膜。再次，優選地，在底塗層的乾燥過程中， 將底塗層的水分含量保持在約30至約60重量％。
在隨後的第二步驟中，在轉印基底15上以含有有機改性粘土複合物 的塗層形式形成第二延遲片14，並且將在第一步驟中獲得的其上附著有底 塗層的第一延遲片13的底塗層側層壓在第二延遲片14的暴露於空氣的表 面上。這通過參考圖4得到更詳細的描述通過塗層塗布機41，將塗層用 塗布液塗覆到從轉印基底供給輥40倒巻的轉印基底15的表面上，並且相 繼地使具有塗層的轉印基底穿過底塗層乾燥區42以進行乾燥。從而，制 備了其上附著有轉印基底的第二延遲片16，然後將其層壓在其上附著有底 塗層的第一延遲片13上。其上附著有底塗層的第一延遲片13之前被巻繞 在第一半成品輥35上，並且將其從所述輥35倒巻；並且將其上附著有底 塗層的第一延遲片13的暴露的底塗層12層壓在形成於轉印基底15上的 第二延遲片14的表面上。從而，製備了具有第一延遲片/底塗層/第二延遲
片/轉印基底的層結構的半成品17，並且將其巻繞到第二半成品輥45上。 在第三步驟中，將具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片/轉印基底的層
結構的半成品17乾燥，然後，從半成品剝離轉印基底15，同時在從其上 已經剝離轉印片的第二延遲片14的暴露表面上形成壓敏粘合劑層19:艮卩，
對半成品進行賦予的壓敏粘合性的處理。這通過參考圖5得到更詳細的描 述將半成品17從半成品輥45倒巻，並且使其穿過第二半成品乾燥區46 以進行乾燥，所述半成品17具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片/轉印基底 的層結構，之前在圖4中所示的第二步驟中被巻繞到半成品輥45上。在 此之後，通過轉印基底剝離輥47剝離轉印基底15，並且將從供給輥49 倒巻的其上塗覆有壓敏粘合劑的膜20供給到通過剝離暴露的第二延遲片 14的表面上，使得可以將膜20的壓敏粘合劑層側層壓在第二延遲片的表 面上。得到的複合延遲片被巻繞到成品輥60上。已經被剝離的轉印基底 15被巻繞到轉印基底巻繞輥48上。通過這些步驟，可以得到複合延遲片 IO，該複合延遲片10以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏 粘合劑層的層壓體。
圖3至5中看到的具有箭頭的曲線表示輥的旋轉方向，而下列圖7至 9以及圖11至13中看到的具有箭頭的曲線意思相同。
以圖6中所示的示意性截面圖形式，說明了第二實施方案(或第二轉印 法)。在此實施方案中，首先，如圖6(A)中所示，在轉印基底15上以含有 有機改性粘土複合物的塗層形式形成第二延遲片14，以製備其上附著有轉 印基底的第二延遲片16。然後，如圖6(B)中所示，在其上附著有轉印基底 的第二延遲片16的第二延遲片14的暴露於空氣的表面上形成壓敏粘合劑 層19，以製備具有轉印基底/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層結構的半成品 21。如圖6(C)中所示，單獨地，在第一延遲片11的表面上形成底塗層12， 以製備其上附著有底塗層的第一延遲片13。在此步驟中，優選地，將第一 延遲片11在它的兩個表面上進行電暈放電處理。將轉印基底15從圖6(B) 中所示的半成品21剝離並除去，以得到如圖6(D)中所示的具有第二延遲 片/壓敏粘合劑層的層結構的半成品22。然後，將其上附著有底塗層的第 一延遲片13的底塗層12層壓在半成品22的第二延遲片14 一側上，從而 完成圖6(E)中所示的複合延遲片10。
以圖7至9中所示的示意性截面圖形式，說明了此實施方案的複合延 遲片的巻材的製備步驟。在此實施方案的第一步驟中，在轉印基底15上 以含有有機改性粘土複合物的塗層形式形成第二延遲片14;並且在第二延 遲片14的暴露於空氣的表面上形成壓敏粘合劑層19。換言之，對第二延 遲片14進行賦予壓敏粘合性的處理。這通過參考圖7得到更詳細的描述:
通過塗層塗布機41，將塗層用塗布液塗覆到從轉印基底供給輥40倒巻的 轉印基底15的表面上，並且相繼地使其穿過塗層乾燥區42以進行乾燥， 並且將乾燥的塗層層壓在其上塗覆有壓敏粘合劑的膜20上。將從膜供給 輥49倒巻的其上塗覆有壓敏粘合劑的膜20的壓敏粘合劑層側層壓在其上 附著有轉印基底的第二延遲片16的暴露於空氣的表面上，從而製備具有 轉印基底/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層結構的半成品21，所述半成品21 然後被巻繞到第三半成品輥50上。
在隨後的第二步驟中，在第一延遲片的表面上形成底塗層；並且將半 成品22層壓在底塗層的暴露於空氣的表面上，所述半成品22是通過從第 一步驟中得到的半成品21剝離轉印基底15所得到的。這通過參考圖8得 到更詳細的描述通過底塗層塗布機31，將底塗層用塗布液塗覆到從第一 延遲片供給輥30倒巻的第一延遲片11的表面上，並且相繼地使其穿過底 塗層乾燥區32以進行乾燥。然後，將其上附著有底塗層的第一延遲片層 壓在半成品22上。將之前在第一步驟中巻繞到第三半成品輥50上的半成 品21從所述輥50倒巻，並且通過轉印基底剝離輥47剝離轉印基底15， 以製備具有第二延遲片/壓敏粘合劑層的層結構的半成品22。將通過剝離 暴露的第二延遲片14的表面層壓在其上附著有底塗層的第一延遲片13的 底塗層12的表面上，從而製備具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘 合劑層的層結構的層壓延遲片10，所述層壓延遲片IO然後被巻繞到第四 半成品輥55上。剝離的轉印基底15被巻繞到轉印基底巻繞輥48上。
優選地，在第二步驟中對底塗層12這樣乾燥，使得可以將它的水分 含量保持在約30至約60重量％。
在第三步驟中，將層壓延遲片IO乾燥。這通過參考圖9得到更詳細 的描述將之前在圖8中所示的第二步驟中巻繞到第四半成品輥55上的 層壓延遲片10從所述輥55倒巻，並且使其通過成品乾燥區56以進行幹
燥，並且將得到的成品巻繞到成品輥60上。通過這些步驟，可以得到復
合延遲片IO，所述複合延遲片10以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二
延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
以圖10中所示的示意性截面圖形式，說明了第三實施方案(或塗布 法)。在此實施方案中，首先，如圖IO(A)中所示，在第一延遲片11的表 面上形成底塗層12，以製備其上附著有底塗層的第一延遲片13。在此步 驟中，優選將第一延遲片11的兩個表面進行電暈放電處理。在此之後， 在底塗層12的表面上形成第二延遲片14，以製備如圖IO(B)中所示的具有 第一延遲片/底塗層/第二延遲片的層結構的半成品23。在第二延遲片14 的表面上進一步形成壓敏粘合劑層19，以完成如圖IO(C)中所示的複合延 遲片10。
以圖11中所示的示意性截面圖形式，說明了通過此實施方案(或塗布 法)製備複合延遲片的巻材的實例。在此實施方案中，通過底塗層塗布機 31，將底塗層用塗布液塗覆到從第一延遲片供給輥30倒巻的第一延遲片 11的表面上。相繼地使具有塗層的第一延遲片穿過底塗層乾燥區32以進 行乾燥。在此之後，使用具有底塗層的第一延遲片，而以塗層形式形成第 二延遲片。而且，在其情形下，優選對第一延遲片11的兩個表面進行電 暈放電處理。然後，通過塗層塗布機41，將塗層用塗布液塗覆到底塗層 12的暴露於空氣的表面上，並且相繼地使其穿過塗層乾燥區42以進行幹 燥。在此之後，將得到的層壓體層壓在其上塗覆有壓敏粘合劑的膜20上。 將從膜供給輥49倒巻的此具有粘合劑的膜20供給到第二延遲片的暴露於 空氣的表面上，使得可以將該膜的壓敏粘合劑側層壓到第二延遲片的暴露 於空氣的表面上。然後將得到的層壓體巻繞到成品輥60上。通過這些步 驟，可以得到複合延遲片10，所述複合延遲片10以下列順序包含第一延 遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
還可以將圖11中所示的塗布法分為兩個步驟。以圖12和13中所示 的示意性截面圖形式，說明了此情形的實例。在第一步驟中，如圖12中 所示，通過底塗層塗布機31，將底塗層用塗布液塗覆到從第一延遲片供給 輥30倒巻的第一延遲片11的表面上，並且相繼地使其穿過底塗層乾燥區 32以進行乾燥。在此之後，製備其上附著有底塗層的第一延遲片13，並且將其巻繞到第一半成品輥35上。
在圖13中所示的第二步驟中，將其上附著有底塗層的第一延遲片13 從第一半成品輥35倒巻，所述第一延遲片13之前在圖12中所示的第一 步驟中被巻繞在第一半成品輥35上。通過塗層塗布機41，將塗層用塗布 液塗覆到第一延遲片13的表面上，並且相繼地使其穿過塗層乾燥區42以 進行乾燥。因而，製備了具有第一延遲片/底塗層/第二延遲片的層結構的 半成品23，然後將其層壓在其上塗覆有壓敏粘合劑的膜20上。將從膜供 給輥49倒巻的具有粘合劑的膜20供給到第二延遲片的暴露於空氣的表面 上，使得可以將膜20的壓敏粘合劑層側層壓在第二延遲片的暴露於空氣 的表面上。然後將得到的層壓體巻繞到成品輥60上。通過這些步驟，可 以得到複合延遲片10，該複合延遲片10以下列順序包含第一延遲片/底塗 層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
在圖5、 7、 11和13的每一個中，壓敏粘合劑層是以其上塗覆有壓敏 粘合劑的膜20的形式說明的，所述膜20是在它的壓敏粘合劑層側被層壓 的。另外，可以塗覆壓敏粘合劑塗布液，以形成壓敏粘合劑層。在圖3至 5、圖7至9和圖11至13中，相同的部分分別由相同的參考標記表示。 應理解的是，圖3和12具體說明了相同的情況。
在上述第一實施方案(或第一轉印法)和第二實施方案(或第二轉印法) 的每一個中，用於在其上以塗層形式形成第二延遲片14的轉印基底15可 以是如此處理以促進其上形成的層的剝離的膜。由於在其表面上通過塗覆 剝離劑例如矽樹脂或氟樹脂而處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯的樹脂膜是 可商購的，因此可以照原樣直接使用這種膜。由於通過塗布在轉印基底15 上以塗層形式形成第二延遲片14，因此水與在其上形成塗層的轉印基底的 表面的接觸角優選為90至130。，更優選為100。或更大，或120。或更小。 當水與這樣的表面的接觸角小於90°時，在形成塗層以後的轉印基底的剝 離不充分，這可能引起缺陷，例如在剝離轉印基底以後的第二延遲片14 中的相位差值的變化。當水與這樣的表面的接觸角大於130°時，塗覆到這 樣的表面上的塗布液趨於在其乾燥前引起收縮，其結果是可能在相位差中 發生面內點狀(spot-like)變化。這裡提到的水的接觸角是指使用水作為液體 時得到的接觸角，並且接觸角的值越大(上限為180。)表示材料越難以被水
浸潤。
在上述實施方案的任何一個中，在有機溶劑中含有有機改性粘土複合
物和粘合劑樹脂的塗層用塗布液的氯含量優選為2,000 ppm以下。由於用
於其生產的原料，有機改性粘土複合物更可能含有作為雜質的含氯化合 物。當照原樣使用含有大量的這種含氯化合物的有機改性粘土複合物時， 該含氯化合物可能從作為通過塗布所形成的第二延遲片的膜滲出。在此情 況下，當通過壓敏粘合劑層將得到的複合延遲片層壓在液晶單元玻璃上 時，壓敏粘合性隨時間顯著降低。為了克服此問題，優選通過洗滌有機改 性粘土複合物來除去含氯化合物，以將有機改性粘土複合物中的氯含量調
節到2,000 ppm以下。通過如此進行，可以防止壓敏粘合性降低。通過用 水洗滌有機改性粘土複合物，能夠除去含氯化合物。
更優選的是，將塗層用塗布液的水含量調節到當用卡爾'費歇爾溼度計 測量時的0.15至0.35重量％。當水含量超過0.35重量°/。時，在水不溶性 有機溶劑中發生相分離，並且塗布液趨於分離成兩相。另一方面，當水含 量小於1.5重量％時，得到的由這種塗布液形成的延遲片趨向於顯示出更 高的霧度值。儘管存在各種水分含量的測量方法，例如乾燥法、卡爾'費歇 爾法和介電常數滴定法等，但是在本發明中使用簡單並且能夠測量痕量的 卡爾，費歇爾法。
儘管對用於調節塗層用塗布液的水含量的方法的選擇沒有限制，但是 向塗布液中加入水是簡單而優選的方法。僅通過常規方法混合本發明中所 使用的有機溶劑、有機改性粘土複合物以及粘合劑樹脂幾乎不導致0.15 重量％以上的水含量。為了克服此問題，優選通過向含有有機溶劑、有機 改性粘土複合物和粘合劑樹脂的混合物的塗布液中加入少量的水，將水含 量調節到以上規定的範圍內的值。水可以在塗布液製備步驟過程中的任意 時間加入，並且對加入水的時間選擇沒有限制。然而，優選地，應當在塗 布液的製備過程中經過給定的時間後，對塗布液取樣以測量其水含量以 後，加入預定量的水，因為此方法可以以更高的重複性和更高的精確度控 制水含量。在這點上，由於一部分水和有機改性粘土複合物之間的可能的 相互作用(例如吸附)，加入的水的量有時不等於用卡爾'費歇爾溼度計測量 的結果。然而，通過將用卡爾.費歇爾溼度計測量的水含量維持到0.15至
0.35重量％，就保證將得到的塗布延遲片的霧度值保持更低。
將這樣得到的複合延遲片層壓在表現出其它種類的光學功能的光學 層例如偏振片等上，以製備複合光學構件。圖14以示意性截面圖形式顯 示了複合光學構件的層結構的實例。在此實例中，將表現出其它種類的光
學功能的光學層71層壓在圖1中所示的複合延遲片10的第一延遲片11 一側上，以製備複合光學構件70。例如，將壓敏粘合劑用於它們兩者的層 壓，並且這種壓敏粘合劑在圖14中是以壓敏粘合劑層72的形式顯示的。 優選地，表現出其它種類的光學功能的光學層71至少包括偏振片，並且 另外可以包括用於製造液晶顯示器等的常規構件，例如亮度增強膜等。
作為其它光學層71的偏振片透射在一個面內方向上具有振動面的線 性偏振光線，並且吸收在與上述一個面內方向正交的方向上具有振動面的 線性偏振光線。
具體地，可以使用包含具有在其上被吸附並取向的二色性顏料的聚乙 烯醇膜，並且在其至少一側(即， 一側或兩側)上層壓有保護膜的偏振片。 偏振片的實例包括使用碘作為二色性顏料的碘型偏振片和使用二色性有 機染料的染料型偏振片，這兩者都可以用於本發明中。作為保護膜，使用 纖維素樹脂例如三乙醯基纖維素、包含環狀烯烴例如降冰片烯作為主要單
體的環狀聚烯烴樹脂等。當其它的光學層71包括偏振片時，如圖14中所 示，優選將包括此偏振片的其它光學層71層壓在複合延遲片10的第一延 遲片11 一側上。
當將壓敏粘合劑用於其它光學層71的層壓時，該壓敏粘合劑可以是 與用於之前通過參考圖1所述的壓敏粘合劑層19中的壓敏粘合劑相同的 壓敏粘合劑。
將圖14中所示的複合光學構件70設置在液晶單元的至少一側上，以 製造液晶顯示器。另外，可以將這種複合光學構件設置在液晶單元的兩側。 當將該複合光學構件設置在液晶單元的一側時，將另一偏振片任選經由延 遲片設置在液晶單元的另一側上。作為液晶單元，如背景技術部分中所述， 垂直取向(或VA)模式液晶單元是優選的。此外，相對於其它模式的液晶單 元例如彎曲取向(ECB)模式液晶單元，本發明的複合延遲片或複合光學構 件可以有效地起作用。
以下，本發明將通過其實施例進行更詳細的描述，所述實施例不應被 解釋為以任何方式限制本發明的範圍。在實施例中，除非另外規定，表示 含量或用量的單位，即份和％是基於重量的。以下描述在實施例1至6中 使用的底塗層用塗布液的組成以及在全部實施例和比較例中使用的第二 延遲片用塗布液的組成。 (稱為底塗層用塗布液A)
通過將作為水溶性環氧樹脂的"SUMIREZ RESIN 650(30)"(商品名，固 含量為30。/。的水溶液)，即由Sumika Chemtex Co.， Ltd.生產的聚醯胺環氧 樹脂，與作為聚乙烯醇樹脂的"KL-318"(商品名)，即由株式會社可樂麗生 產的羧基改性的聚乙烯醇以下列組成共混，製備此塗布液。
底塗層用塗布液A的組成
水 100份
聚醯jfe環氧樹脂
"SUMIREZ RESIN 650(30)" 1,5份
聚乙烯醇"KL-318" 3份
此塗布液是通過下列方法製備的將聚乙烯醇"KL-318"與加熱到 IO(TC的水混合，攪拌混合物並且將其冷卻到室溫，將混合物進一步與聚 醯胺環氧樹脂"SUMIREZRESIN 650(30)"混合，並且攪拌混合物，以得到 塗布液。
作為有機改性粘土複合物，使用由CO-OP CHEMICAL CO.， LTD.生產 的"LUCENTITE STN"(商品名)，其是合成鋰蒙脫石和三辛基銨離子的複合 物。作為粘合劑樹脂，使用由蘇米加拜耳聚氨酯有限公司生產的"SBU Lacquer 0866"(商品名)，其是固含量為30%的樹脂清漆並且是異佛爾酮二 異氰酸酯-基聚氨酯樹脂。第二延遲片用塗布液是通過以下列組成混合所述 組分製備的
第二延遲片用塗布液的組成
聚氨酯樹脂清漆"SBU Lacquer 0866'
有機改性粘土複合物
16.0份
甲苯 水
LUCENTITE STN
7.2份 76.8份 0.3份
這裡使用的有機改性粘土複合物是以在生產商一方通過下列方法制 備的這種形式得到的在對合成鋰蒙脫石進行有機改性之前，用酸洗滌合 成鋰蒙脫石；對洗滌的鋰蒙脫石進行有機改性；並且進一步用水洗滌改性 的鋰蒙脫石。有機改性粘土複合物的氯含量為l，lllppm。通過下列方法制 備此塗布液以上述組成混合組分；攪拌混合物；並且用孔徑為*m的 過濾器過濾所述混合物。用卡爾，費歇爾溼度計測量的塗布液的水含量為 0.25%。作為此塗布液中的固含量的有機改性粘土複合物與粘合劑樹脂的 重量比為6/4。
(a)複合延遲片的製備
在此實施例中，通過上述第一轉印法製備複合延遲片。首先，將上述 底塗層用塗布液A塗覆到作為降冰片烯樹脂的單軸取向膜的延遲片[由住 友化學株式會社(Sumitomo Chemical Company, Limited)生產的 "CSES430120Z-F-KY，，；面內相位差120 nm;即，第一延遲片]上，並且 在8(TC乾燥1分鐘，以形成水分含量為約35%的底塗層。單獨地，將經脫 模處理的厚度為38 |_im的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(水與處理表面的接觸 角110。)用作轉印基底；並且將上述第二延遲片用塗布液塗覆到轉印基底 的處理表面上，並且在卯'C乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延遲片。 使用底塗層和第二延遲片作為接合面，將其上形成有底塗層的第一延遲片 和形成在轉印基底上的第二延遲片相互層壓。將得到的層壓體在烘箱中幹 燥約10分鐘，使得底塗層的水分含量可以小於0.5%。在此之後，從第二
延遲片剝離轉印基底，並且將丙烯酸類壓敏粘合劑(由琳得科株式會社
(LINTEC CO., LTD.)生產的"P-3132")塗覆到從其上已經剝離轉印基底的第 二延遲片的表面上，以得到複合延遲片，該複合延遲片以下列順序包含第 一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。在此實施例中，底 塗層的厚度為約0.2至約0.3 pm。
(al)底塗層和第二延遲片之間的粘合力的評價l:剝離試驗
將此複合延遲片切割成寬度25 mmx長度約250 mm的小片；並且將 該小片在它的壓敏粘合劑層側貼合到鈉玻璃片上，然後在5 kg^cm2的壓力 下的5(TC高壓釜中進行壓力處理20分鐘。然後，在以180。的角度剝離以 及300 mm/min的牽拉速率的條件下，用由島津公司(SHIMADZU CORPORATION)製造的儀器"Autogmph AG-1"測量所得到的複合延遲片 的小片的粘合力，以評價底塗層和第二延遲片之間的粘合力。結果，在試 驗過程中，壓敏粘合劑層在9.4 N下破裂。因此，將底塗層和第二延遲片 之間的粘合力判斷為至少9.4 N。在此之後，繼續剝離，並且發現，壓敏 粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的層壓面積的 57%。
(a2)底塗層和第二延遲片之間的粘合力的評價2:劃格試驗
將步驟(a)中得到的複合延遲片在它的壓敏粘合劑層側層壓到鈉玻璃 片上，並且根據JISD0202-1988，從第一延遲片一側劃格，以進行劃格試 驗(在JIS中被描述為"劃格粘合試驗")。基於按100個劃格小片計的剝離的 劃格小片的數量，評價粘合力。結果，剝離的劃格小片的數量為100/100。
(b)複合光學構件的製備
將其上塗覆有壓敏粘合劑的聚乙烯醇/碘-基偏振片[由住友化學株式 會社生產的"SRW062AP6-HC2"]在它的壓敏粘合劑層側層壓在步驟(a)中 得到的複合延遲片的第一延遲片側的表面上，以製備複合光學構件，該復 合光學構件以下列順序包含偏振片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第 二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
(bl)歸因於由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏的評價
將此複合光學構件在它的最外壓敏粘合劑層側層壓到鈉玻璃片上。在 此之後，使用鉛筆硬度試驗裝置，將硬度為H的鉛筆向下壓到複合光學構 件的偏振片側上。增加鉛筆上的負荷，以發現並記錄發生光洩漏的負荷， 以評價歸因於由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。在此試驗中，在 具有層壓在其一個表面上的複合光學構件的鈉玻璃片的相反表面上設置 另一個新的偏振片，使得此偏振片可以與複合光學構件的偏振片處於正交 尼科耳狀態。然後，在燈箱上檢查來自此層壓體的光洩漏。結果，甚至在 作為負荷極限的2.0 kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
(b2)歸因於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏的評價
使用由OGINO SEIKI製造的"SUPER CUTTER NS-1200"，將以上步 驟(b)中得到的複合光學構件切割成為垂直方向上的41.42至56.40 mm^黃 向上的31.34至43.00 mm的長方形小片，以檢查是否在小片的端部發生光 洩漏。在此試驗中，在具有層壓在其一個表面上的複合光學構件的鈉玻璃 片的相反表面上設置另一個新的偏振片，使得此偏振片可以與複合光學構 件的偏振片處於正交尼科耳狀態。然後，在燈箱上檢查來自此層壓體的光 洩漏。結果，在小片的四個側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。
(a)複合延遲片的製備及其評價
在此實施例中，通過第二轉印法製備複合延遲片。首先，將上述第二 延遲片用塗布液塗覆到與實施例1中所用相同的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜 的轉印基底上，然後在與實施例1中的條件相同的條件下乾燥，以形成由 塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的 "P-3132"]塗覆到第二延遲片的表面上，以製備其上形成有壓敏粘合劑層的 第二延遲片。單獨地，將上述底塗層用塗布液A塗覆到延遲片 "CSES430120Z-F-KY"(作為第一延遲片)，即與實施例1中所用相同的降冰 片烯樹脂的單軸取向膜上，並且在與實施例1中相同的條件下乾燥，以形 成底塗層。從其上形成有壓敏粘合劑層的第二延遲片剝離轉印基底，並且將第二延遲片的暴露表面層壓在第一延遲片的底塗層上。將得到的層壓體 在烘箱中乾燥約10分鐘，使得底塗層的水分含量可以小於0.5%。因而， 得到以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體的複合延遲片。
以與實施例1的步驟(al)中相同的方式，對此複合延遲片進行剝離試 驗。在試驗過程中，壓敏粘合劑層在9.9N下破裂。因此，將底塗層和第 二延遲片之間的粘合力判斷為至少9.9 N。在此之後，繼續剝離，發現壓 敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的層壓面積 的25%。
以與實施例1的步驟(a2)中相同的方式，對此複合延遲片進行劃格試 驗。結果，剝離的劃格小片的數量為100/100。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例1的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"層壓在步驟(a)中得到的複合延遲片的第一延遲片 側的表面上，以製備複合光學構件，所述複合光學構件以下列順序包含偏 振片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體。
以與實施例1的步驟(M)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，甚至在作為負荷極限的 2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，在小片的四個 側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。 [實施例3]
(a)複合延遲片的製備及其評價
在此實施例中，通過上述塗布法製備複合延遲片。首先，將上述底塗 層用塗布液A塗覆到延遲片"CSES4301Z-F-KY"(作為第一延遲片)，即與 實施例1中所用相同的降冰片烯樹脂的單軸取向膜上，並且在8(TC乾燥約 IO分鐘，以形成水分含量為約0.5%的底塗層。接著，將上述第二延遲片
用塗布液塗覆到底塗層上，然後在9(TC乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的
第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的"P-3132"]
塗覆到第二延遲片的表面上，以得到複合延遲片，該複合延遲片以下列順 序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
以與實施例1的步驟(a2)中相同的方式對此複合延遲片進行劃格試 驗。結果，剝離的劃格小片的數量為100/100。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例1的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"在它的壓敏粘合劑層側層壓在步驟(a)中得到的復 合延遲片的第一延遲片側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構 件以下列順序包含偏振片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第二延遲片/ 壓敏粘合劑層的層壓體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，甚至在作為負荷極限的 2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，在小片的四個 側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。
(a)複合延遲片的製備
將上述第二延遲片用塗布液塗覆到與實施例1中所用相同的聚對苯二 甲酸乙二醇酯膜的轉印基底上，然後在與實施例1中的條件相同的條件下 乾燥，以形成由塗層組成的第二延遲片。將延遲片[由住友化學株式會社生 產的"CSES430120Z6-F8-KY"]在它的壓敏粘合劑層側層壓到上述層壓體 的第二延遲片側，所述延遲片"CSES430120Z6-F8-KY"由構成實施例1至3 中使用的每一個第一延遲片的材料相同的材料形成，具有相同的面內相位 差值，並且具有在它的一側形成的壓敏粘合劑層。從第二延遲片剝離轉印 基底，並且將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的"P-3132"]塗
覆到第二延遲片的表面上，以製備複合延遲片，該複合延遲片以下列順序 包含第一延遲片/壓敏粘合劑層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例1的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏
振片"SRW062AP6-HC2"在它的壓敏粘合劑層側層壓在步驟(a)中得到的復 合延遲片的第一延遲片側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構 件以下列順序包含偏振片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/壓敏粘合劑層/第二 延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，在600 g的負荷下，發 生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，發現按100個 劃格小片計，28個劃格小片各自在小片的四個側邊的端部的任何一個具有 長度為500 !im以上的裂紋。
(a)複合延遲片的製備及其評價
在此實施例中，通過上述第一轉印法製備複合延遲片。首先，將上述 底塗層用塗布液A塗覆到作為聚碳酸酯樹脂的單軸取向膜的延遲片(由帝 人化成株式會社(TEIJIN CHEMICALS LTD.)生產的"WRF-S-141";面內相 位差值141 nm;即，第一延遲片)上，並且在8(TC乾燥1分鐘，以形成 水分含量為約30%的底塗層。單獨地，將經脫模處理的厚度為38 pm的聚
對苯二甲酸乙二醇酯膜(水與處理表面的接觸角110。)用作轉印基底；並
且將上述第二延遲片用塗布液塗覆到轉印基底的處理表面上，並且在90°C 乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延遲片。使用底塗層和第二延遲片 作為接合面，將其上形成有底塗層的第一延遲片和形成在轉印基底上的第 二延遲片相互層壓。將得到的層壓體在烘箱中乾燥約10分鐘，使得底塗 層的水分含量可以小於0.5%。在此之後，從第二延遲片剝離轉印基底，並且將丙烯酸類壓敏粘合劑(由琳得科株式會社生產的"P-3132")塗覆到從其 上已經剝離轉印基底的第二延遲片的表面上，以得到複合延遲片，該複合 延遲片以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層 壓體。
以與實施例1的步驟(al)中相同的方式，對此複合延遲片進行剝離試 驗。在試驗過程中，壓敏粘合劑層在6.4 N下破裂。因此，將底塗層和第 二延遲片之間的粘合力判斷為至少6.4 N。在此之後，繼續剝離，發現壓 敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的層壓面積 的25%。
以與實施例1的步驟(a2)中相同的方式，對此複合延遲片進行劃格試 驗。結果，剝離的劃格小片的數量為100/100。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例1的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"層壓在步驟(a)中得到的複合延遲片的第一延遲片 側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構件以下列順序包含偏振 片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，甚至在作為負荷極限的 2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，在小片的四個 側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。
(a)複合延遲片的製備及其評價
在此實施例中，通過第二轉印法製備複合延遲片。首先，將上述第二 延遲片用塗布液塗覆到與實施例4中所用相同的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜 的轉印基底上，然後在與實施例4中的條件相同的條件下乾燥，以形成由
塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的 "P-3 132"]塗覆到第二延遲片的表面上，以製備其上形成有壓敏粘合劑層的 第二延遲片。單獨地，將上述底塗層用塗布液A塗覆到延遲片
"WRF-S-141"(作為第一延遲片)，即與實施例4中所用相同的聚碳酸酯樹 脂的單軸取向膜上，並且在與實施例4中相同的條件下乾燥，以形成底塗 層。從其上形成有壓敏粘合劑層的第二延遲片剝離轉印基底，並且將第二 延遲片的暴露表面層壓在第一延遲片的底塗層上。將得到的層壓體在烘箱 中乾燥約10分鐘，使得底塗層的水分含量可以小於0.5%。因而，得到以 下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體的復 合延遲片。
以與實施例1的步驟(al)中相同的方式，對此複合延遲片進行剝離試 驗。在試驗過程中，壓敏粘合劑層在6.3 N下破裂。因此，將底塗層和第 二延遲片之間的粘合力判斷為至少6.3 N。在此之後，繼續剝離，發現壓 敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的層壓面積 的6%。
以與實施例1的步驟(a2)中相同的方式，對此複合延遲片進行劃格試 驗。結果，剝離的劃格小片的數量為100/100。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例4的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"層壓在步驟(a)中得到的複合延遲片的第一延遲片 側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構件以下列順序包含偏振 片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，甚至在作為負荷極限的 2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，在小片的四個 側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。
(a) 複合延遲片的製備及其評價
在此實施例中，通過上述塗布法製備複合延遲片。首先，將上述底塗
層用塗布液A塗覆到延遲片"WRF-S-141"(作為第一延遲片)，即與實施例 4中所用相同的聚碳酸酯樹脂的單軸取向膜上，並且在8(TC乾燥約10分 鍾，以形成水分含量為約0.5%的底塗層。接著，將上述第二延遲片用塗布 液塗覆到底塗層上，然後在90。C乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延 遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的"P-3132"]塗覆到 第二延遲片的表面上，以得到複合延遲片，該複合光學構件以下列順序包 含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
以與實施例1的步驟(a2)中相同的方式，對此複合延遲片進行劃格試 驗。結果，剝離的劃格小片的數量為0/100。
(b) 複合光學構件的製備及其評價
將與實施例4的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"層壓在步驟(a)中得到的複合延遲片的第一延遲片 側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構件以下列順序包含偏振 片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，甚至在作為負荷極限的 2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，在小片的四個 側邊的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。 (a)複合延遲片的製備
將上述第二延遲片用塗布液塗覆到與實施例4中所用相同的聚對苯二
甲酸乙二醇酯膜的轉印基底上，然後在與實施例4中的條件相同的條件下
乾燥，以形成由塗層組成的第二延遲片。將延遲片[由帝人化成株式會社生
產的"WRF-S-141-P8"]在它的壓敏粘合劑層側層壓到上述層壓體的第二延 遲片側上，所述延遲片"WRF-S-141-P8"由構成實施例4至6中使用的每一 個第一延遲片的材料相同的材料形成，具有相同的面內相位差值，並且具 有在它的一側形成的壓敏粘合劑層。從第二延遲片剝離轉印基底，並且將 丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的"P-3132"]塗覆到第二延遲 片的暴露表面上，以製備複合延遲片，該複合光學構件以下列順序包含第 一延遲片/壓敏粘合劑層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
(b)複合光學構件的製備及其評價
將與實施例4的步驟(b)中所用相同的其上形成有壓敏粘合劑層的偏 振片"SRW062AP6-HC2"層壓在步驟(a)中得到的複合延遲片的第一延遲片 側的表面上，以製備複合光學構件，該複合光學構件以下列順序包含偏振 片/壓敏粘合劑層/第一延遲片/壓敏粘合劑層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的 層壓體。
以與實施例1的步驟(bl)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因於 由外力引起的第二延遲片的破裂的光洩漏。結果，在700 g的負荷下，發 生光洩漏。
還以與實施例1的步驟(b2)中相同的方式，評價此複合光學構件歸因 於由切割引起的第二延遲片的端部的破裂的光洩漏。結果，發現按100個 劃格小片計，17個小片各自在小片的四個側邊的端部的任何一個具有長度 為500 pm以上的裂紋。
接著，以下描述使用由具有較高的固含量的底塗層用塗布液形成的底 塗層的實施例。如下製備下列實施例7至12中使用的底塗層用塗布液。 [實施例7至12中使用的底塗層用塗布液] (以下稱為底塗層用塗布液B)
作為水溶性環氧樹脂，使用"SUMIREZRESIN650(30)"(商品名，固含 量為30%的水溶液)，其是由Sumika Chemtex Co.， Ltd.生產的聚醯胺環氧 樹脂。作為聚乙烯醇樹脂，使用"KL-506"(商品名)，其是由株式會社可樂
麗生產的羧基改性的聚乙烯醇。將兩種樹脂以下列組成共混。 底塗層用塗布液B的組成
此塗布液是通過下列方法製備的當將水加熱到IO(TC時，將水與聚
乙烯醇"KL-506"混合，攪拌得到的混合物，將該混合物冷卻至室溫，將該 混合物與聚醯胺環氧樹脂"SUMIRES RESIN 650(30)"進一步混合，並且攪 拌混合物。
在此實施例中，根據實施例1中使用的第一轉印法製備複合延遲片。 然而，使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。 首先，將上述底塗層用塗布液B塗覆到作為降冰片烯樹脂的單軸取向膜的 延遲片(由住友化學株式會社生產的"CSES430120Z-S-KY";面內相位差 值120 nm;即，第一延遲片)上，並且在80。C乾燥1分鐘，以形成厚度 為約2jLim、水分含量為約35%的底塗層。單獨地，將經脫模處理的厚度為 38pm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(水與處理表面的接觸角110。)用作轉印 基底；並且將上述第二延遲片用塗布液塗覆到轉印基底的處理表面上，並 且在9(TC乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延遲片。使用底塗層和第 二延遲片作為接合面，將其上形成有底塗層的第一延遲片和形成在轉印基 底上的第二延遲片相互層壓。將得到的層壓體在烘箱中乾燥約10分鐘， 使得底塗層的水分含量可以小於0.5%。在此之後，從第二延遲片剝離轉印 基底，並且將丙烯酸類壓敏粘合劑(由琳得科株式會社生產的"P-3132")塗 覆到從其上已經剝離轉印基底的第一延遲片的表面上，以得到複合延遲 片，該複合延遲片以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘 合劑層的層壓體。
水
聚醯胺環氧樹脂 "SUMIRES RESIN 650(30) 聚乙烯醇"KL-506"
7.5份 15份
100份
對此複合延遲片進行與實施例1中的步驟(al)和(a2)中所進行的試驗
相同的試驗。在剝離試驗和劃格試驗中，結果與實施例1中得到的結果類
似。底塗層和第二延遲片之間的粘合力被判斷為至少9.4 N。在整個剝離 試驗以後，壓敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃 片的層壓面積的57%。剝離的劃格小片的數量為100/100。
使用此複合延遲片，以與實施例1的步驟(b)中相同的方式製備複合光 學構件，並且以與實施例1的步驟(bl)和(b2)中相同的方式對其進行評價。 在歸因於外力和切割兩者的光洩漏方面，結果與實施例1中得到的結果類 似.-SP，甚至在作為負荷極限的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並 且在切割以後的小片的端部的任何一個中，沒有發生光洩漏。
在此實施例中，根據實施例2中使用的第二轉印法製備複合延遲片。 然而，使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。 首先，將上述第二延遲片用塗布液塗覆到與實施例7中所用相同的聚對苯 二甲酸乙二醇酯膜的轉印基底上，然後在與實施例7中的條件相同的條件 下乾燥，以形成由塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳得 科株式會社生產的"P-3132，，]塗覆到第二延遲片的表面上，以製備其上形成 有壓敏粘合劑層的第二延遲片。單獨地，將上述底塗層用塗布液B塗覆到 延遲片"CSES430120Z-S-KY"(作為第一延遲片)，即與實施例7中所用相同 的降冰片烯樹脂的單軸取向膜上，並且在與實施例7中相同的條件下乾燥， 以形成厚度為約2pm的底塗層。從其上形成有壓敏粘合劑層的第二延遲 片剝離轉印基底，並且將第二延遲片的暴露表面層壓在第一延遲片的底塗 層上。將得到的層壓體在烘箱中乾燥約10分鐘，使得底塗層的水分含量 可以小於0.5%。因而，得到以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲 片/壓敏粘合劑層的層壓體的複合延遲片。
對此複合延遲片進行與實施例1中的步驟(al)和(a2)中所進行的試驗 相同的試驗。在剝離試驗和劃格試驗中，結果與實施例2中得到的結果類 似。底塗層和第二延遲片之間的粘合力被判斷為至少9.9 N。在整個剝離 試驗以後，壓敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃
片的層壓面積的25%。剝離的劃格小片的數量為100/100。
使用此複合延遲片，以與實施例2的步驟(b)中相同的方式製備複合光 學構件，並且以相同的方式對其進行評價。在歸因於外力和切割兩者的光
洩漏方面，結果與實施例2中得到的結果類似即，甚至在作為負荷極限 的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並且在切割以後的小片的端部的
任何一個中，沒有發生光洩漏。
在此實施例中，根據實施例3中使用的塗布法製備複合延遲片。然而， 使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。首先， 將上述底塗層用塗布液B塗覆到延遲片"CSES4301Z-S-KY"(作為第一延遲 片)，即與實施例7中所用相同的降冰片烯樹脂的單軸取向膜上，並且在 80。C乾燥約10分鐘，使得底塗層可以具有乾燥後約為2nm的厚度，具有 約0.5%的水分含量。接著，將上述第二延遲片用塗布液塗覆到底塗層上， 然後在9(TC乾燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓 敏粘合劑[由琳得科株式會社生產的"P-3132"]塗覆到第二延遲片的表面 上，以得到複合延遲片，該複合延遲片以下列順序包含第一延遲片/底塗層 /第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體。
對此複合延遲片進行與實施例1的步驟(a2)中所進行的劃格試驗相同 的劃格試驗。結果與實施例3中得到的結果類似即，剝離的劃格小片的 數量為0/100。
使用此複合延遲片，以與實施例3的步驟(b)中相同的方式製備複合光 學構件，並且以相同的方式對其進行評價。在歸因於外力和切割兩者的光
洩漏方面，結果與實施例3中得到的結果類似g卩，甚至在作為負荷極限 的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並且在切割以後的小片的端部的 任何一個中，沒有發生光洩漏。
在此實施例中，根據實施例4中使用的第一轉印法製備複合延遲片。 然而，使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。首先，將上述底塗層用塗布液B塗覆到延遲片〃WRF-S-141〃(即，第一延遲 片)，即與實施例4中所用相同的聚碳酸酯樹脂的單軸取向膜上，並且在 8(TC乾燥1分鐘，使得底塗層可以具有乾燥後約為2pm的厚度，具有約 30%的水分含量。單獨地，將經脫模處理的厚度為38/im的聚對苯二甲酸
乙二醇酯膜(水與處理表面的接觸角110。)用作轉印基底；並且將上述第
二延遲片用塗布液塗覆到轉印基底的處理表面上，並且在9(TC乾燥3分 鍾，以形成由塗層組成的第二延遲片。使用底塗層和第二延遲片作為接合 面，將其上形成有底塗層的第一延遲片和形成在轉印基底上的第二延遲片 相互層壓。將得到的層壓體在烘箱中乾燥約10分鐘，使得底塗層的水分 含量可以小於0.5%。在此之後，從第二延遲片剝離轉印基底，並且將丙烯 酸類壓敏粘合劑(由琳得科株式會社生產的"P-3132")塗覆到從其上已經剝 離轉印基底的第二延遲片的暴露表面上，以得到複合延遲片，所述複合延 遲片以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓 體。
對此複合延遲片進行與實施例1的步驟(al)和(a2)中所進行的試驗相 同的試驗。在剝離試驗和劃格試驗中，結果與實施例4中得到的結果類似。 底塗層和第二延遲片之間的粘合力被判斷為至少6.4 N。在整個剝離試驗 以後，壓敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的 層壓面積的25%。劃格試驗中剝離的劃格小片的數量為100/100。
使用此複合延遲片，以與實施例4的步驟(b)中相同的方式製備複合光 學構件，並且以相同的方式對其進行評價。在歸因於外力和切割兩者的光 洩漏方面，結果與實施例4中得到的結果類似即，甚至在作為負荷極限 的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並且在切割以後的小片的端部的 任何一個中，沒有發生光洩漏。
在此實施例中，根據實施例5中使用的第二轉印法製備複合延遲片。 然而，使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。 首先，將上述第二延遲片用塗布液塗覆到與實施例10中所用相同的聚對 苯二甲酸乙二醇酯膜的轉印基底上，然後在與實施例10中的條件相同的
條件下乾燥，以形成由塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由
琳得科株式會社生產的"P-3132"]塗覆到第二延遲片的表面上，以製備其上 形成有壓敏粘合劑層的第二延遲片。單獨地，將上述底塗層用塗布液B塗 覆到延遲片"WRF-S-141"(作為第一延遲片)，即與實施例10中所用相同的 聚碳酸酯樹脂的單軸取向膜的上，並且在與實施例10中相同的條件下幹 燥，以形成乾燥後的厚度為約2 ^m的底塗層。從其上形成有壓敏粘合劑 層的第二延遲片剝離轉印基底，並且將第二延遲片的暴露表面層壓在第一 延遲片的底塗層上。將得到的層壓體在烘箱中乾燥約10分鐘，使得底塗 層的水分含量可以小於0.5%。因而，得到以下列順序包含第一延遲片/底 塗層/第二延遲片/壓敏粘合劑層的層壓體的複合延遲片。
對此複合延遲片進行與實施例1的步驟(al)和(a2)中所進行的試驗相 同的試驗。在剝離試驗和劃格試驗中，結果與實施例5中得到的結果類似。 底塗層和第二延遲片之間的粘合力被判斷為至少6.3 N。在整個剝離試驗 以後，壓敏粘合劑層和第二延遲片殘留在鈉玻璃片的表面上，佔玻璃片的 層壓面積的6%。劃格試驗中剝離的劃格小片的數量為100/100。
使用此複合延遲片，以與實施例5的步驟(b)中相同的方式製備複合光 學構件，並且以相同的方式對其進行評價。在歸因於外力和切割兩者的光 洩漏方面，結果與實施例5中得到的結果類似即，甚至在作為負荷極限 的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並且在切割以後的小片的端部的 任何一個中，沒有發生光洩漏。
在此實施例中，根據實施例6中使用的塗布法製備複合延遲片。然而， 使用上述底塗層用塗布液B形成底塗層，並且底塗層的厚度略高。首先， 將上述底塗層用塗布液B塗覆到延遲片"WRF-S-141"(作為第一延遲片)， 即與實施例10中所用相同的聚碳酸酯樹脂的單軸取向膜上，並且在80°C 乾燥約10分鐘，以形成乾燥後的厚度為約2 pm、水分含量為約0.5%的底 塗層。接著，將上述第二延遲片用塗布液塗覆到底塗層上，然後在9(TC幹 燥3分鐘，以形成由塗層組成的第二延遲片。將丙烯酸類壓敏粘合劑[由琳 得科株式會社生產的"P-3132"]塗覆到第二延遲片的表面上，以得到複合延
遲片，所述複合延遲片以下列順序包含第一延遲片/底塗層/第二延遲片/壓 敏粘合劑層的層壓體。
對此複合延遲片進行與實施例1的步驟(a2)中所進行的劃格試驗相同 的劃格試驗。結果與實施例6中得到的結果類似g卩，劃格試驗中剝離的 劃格小片的數量為0/100。
使用此複合延遲片，以與實施例6的步驟(b)中相同的方式製備複合光
學構件，並且以相同的方式對其進行評價。在歸因於外力和切割兩者的光
洩漏方面，結果與實施例6中得到的結果類似g卩，甚至在作為負荷極限 的2.0kg的負荷下，也沒有發生光洩漏；並且在切割以後的小片的端部的 任何一個中，沒有發生光洩漏。
因為第一延遲片和第二延遲片經由底塗層相互層壓，因此當被層壓在 液晶單元上時，本發明的複合延遲片的任何一個可以有效地抑制歸因於第 二延遲片的破裂的光洩漏，所述破裂由於物理外力而易於發生。因而，所 得液晶顯示器可以得到足夠的顯示狀態。因此，可以抑制來自包含複合光 學構件的液晶顯示器的光洩漏，使得這種液晶顯示器得到優異的顯示狀 態，所述複合光學構件是通過將此複合延遲片與具有其它光學功能的光學 層，如偏振片組合而製備的。
權利要求
1. 一種複合延遲片，所述複合延遲片包含以下列順序層壓的第一延遲片、底塗層、第二延遲片和壓敏粘合劑層，其中所述第二延遲片是通過從塗布液中蒸發有機溶劑得到的，所述塗布液在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂。
2. 權利要求1所述的複合延遲片，其中所述第一延遲片包含面內取向的透明樹脂膜。
3. 權利要求1或2所述的複合延遲片，其中所述底塗層包含透明樹脂。
4. 權利要求3所述的複合延遲片，其中所述底塗層包含環氧樹脂。
5. 權利要求3所述的複合延遲片，其中所述底塗層由包含水溶性環氧 樹脂和聚乙烯醇樹脂的組合物形成。
6. 權利要求5所述的複合延遲片，其中所述水溶性環氧樹脂是聚醯胺 環氧樹脂。
7. —種用於製備複合延遲片的方法，所述方法包括 底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的表面上形成底塗層； 塗層形成步驟，其中將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂的塗布液塗覆到轉印基底上，以在其上形成塗層，並且從所述塗層 中除去所述溶劑以得到第二延遲片；層壓步驟，其中將在所述底塗層形成步驟中得到的所述底塗層和在所 述塗層形成步驟中得到的所述第二延遲片相互層壓；轉印基底剝離步驟，其中從所述第二延遲片上剝離所述轉印基底；以及壓敏粘合劑層形成步驟，其中在所述第二延遲片的表面上形成壓敏粘 合劑層，其中至少所述底塗層形成步驟和所述塗層形成步驟是在其它步驟以 前進行的，並且其中進行各個步驟，以得到由所述第一延遲片/所述底塗層/所述第二 延遲片/所述壓敏粘合劑層組成的層結構。
8. 權利要求7所述的方法，其中進行所述底塗層形成步驟和所述塗層 形成步驟，隨後以下列順序進行所述層壓步驟、所述轉印基底剝離步驟和 所述壓敏粘合劑層形成步驟。
9. 權利要求7所述的方法，其中進行所述底塗層形成步驟和所述塗層 形成步驟，隨後以下列順序進行所述壓敏粘合劑層形成步驟、所述轉印基 底剝離步驟和所述層壓步驟。
10. —種用於製備複合延遲片的方法，所述方法包括 底塗層形成步驟，其中在第一延遲片的表面上形成底塗層； 塗層形成步驟，其中將在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂的塗布液塗覆到所述底塗層的表面上，以在其上形成塗層，並且從 所述塗層中除去所述溶劑以得到第二延遲片；和壓敏粘合劑層形成步驟，其中在所述第二延遲片的表面上形成壓敏粘 合劑層，其中以此順序進行這些步驟，以得到由所述第一延遲片/所述底塗層/ 所述第二延遲片/所述壓敏粘合劑層組成的層結構。
11. 權利要求7至10中任一項所述的方法，其中所述在有機溶劑中含 有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂的塗布液具有2,000ppm以下的氯含
12. 權利要求7至11中任一項所述的方法，其中所述在有機溶劑中含 有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂的塗布液具有0.15至0.35重量％的水含量，所述水含量是使用卡爾'費歇爾溼度計測量的。
13. —種複合光學構件，所述複合光學構件通過在如權利要求1至6 中任一項所述的複合延遲片上層壓具有其它光學功能的光學層而製備。
14. 權利要求13所述的複合光學構件，其中所述光學層至少包括偏振片。
15. 權利要求14所述的複合光學構件，其中所述偏振片是層壓在所述 複合延遲片的所述第一延遲片一側上的。
16. —種液晶顯示器，所述液晶顯示器是通過將如權利要求13至15 中任一項所述的複合光學構件設置在液晶單元的至少一側上而組裝的。
全文摘要
一種複合延遲片(10)，所述複合延遲片(10)通過將第一延遲片(11)、底塗層(12)、第二延遲片(14)和粘合劑層(19)以這種順序層壓而得到，其中第二延遲片(14)是通過從塗布液中除去溶劑得到的，所述塗布液在有機溶劑中含有有機改性粘土複合物和粘合劑樹脂。因為在所述複合延遲片(10)中，第一延遲片(11)和第二延遲片(14)經由所述底塗層(12)粘合，因此當將所述複合延遲片(10)粘合到液晶單元上時，可以有效抑制由易受物理外力的第二延遲片(14)的破裂導致的光洩漏，並且可以得到良好的顯示狀態。
文檔編號G02B5/30GK101395505SQ20078000782
公開日2009年3月25日 申請日期2007年3月2日 優先權日2006年3月7日
發明者中川鑑應, 九內雄一朗, 古川淳 申請人:住友化學株式會社