一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置的製作方法
2023-05-31 20:00:26 1
專利名稱：一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及半導體生產設備領域，特別涉及一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳 送裝置。
背景技術：
在化學氣相沉積系統的工藝腔內，多個晶片通常放置於轉盤的四周上，該轉盤通 過法蘭頭支撐，法蘭頭通過轉軸支撐，轉軸帶動法蘭頭旋轉進而帶動轉盤旋轉。當傳送晶片 的機械手臂將晶片傳送至工藝腔內並將晶片放置於轉盤上位於機械手臂下方的某一晶片 放置位置上後，轉軸帶動轉盤轉動，使得轉盤上的下一晶片放置位置對準於傳送晶片的機 械手臂的下方，這樣確保通過機械手臂多次拾取、放置晶片，最終使轉盤上的晶片放置位置 均被放置上晶片。在維護晶片傳送裝置時需要經常拆卸傳送裝置上的轉盤，因此不可避免的需要將 承載轉盤的法蘭頭(flange)與轉軸(shaft)分離。在此過程中，通常法蘭頭與轉軸非常難 以分離。主要原因是使用時間過長且長時間處於等離子體的環境中，轉軸與法蘭頭接觸的 上表面容易被侵蝕，並與法蘭頭粘附後難以分離。現有技術中在拆卸時通常採用異丙醇浸 泡法蘭頭和轉軸的結合部分，甚至採用敲擊等各種破壞性方法將法蘭頭與轉軸強行分離。 採用現有技術的方法拆分法蘭頭和轉軸後必須更換新的法蘭頭，並且很可能對轉軸也造成 損傷，引起整個晶片傳送裝置出現多種機械問題。
實用新型內容本實用新型要解決的技術問題是提供一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，以 解決在拆卸晶片傳送裝置上的轉盤時無法將承載轉盤的法蘭頭與傳送轉軸分離的問題。為解決上述技術問題，本實用新型提供一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置， 所述晶片傳送裝置包括轉軸和法蘭頭，所述法蘭頭通過固定組件固定於所述轉軸上，還包 括轉軸保護墊，所述轉軸保護墊放置於所述轉軸和所述法蘭頭之間，並通過所述固定組件 固定於所述轉軸和所述法蘭頭間。可選的，所述轉軸保護墊的形狀、直徑大小同所述轉軸的形狀、直徑大小相適應。可選的，所述轉軸保護墊上設置有中空孔。可選的，所述中空孔的大小、數量和分布位置與所述固定組件的大小、數量和分布 位置相適應。可選的，所述固定組件是螺絲或螺釘和螺母組合。可選的，所述轉軸保護墊採用聚四氟乙烯製成。本實用新型的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置可避免化學氣相沉積腔內的晶 片傳送裝置上法蘭頭和轉軸的表面直接接觸，使得轉軸與法蘭頭不會因為等離子體的侵 蝕而粘附在一起，拆卸時容易分離，拆卸時無需破壞法蘭頭，極大的降低了法蘭頭的更換頻 率，節省了大量的維護時間，提高了機臺的利用率，同時避免轉軸表面受到侵蝕損傷，延長了轉軸的使用壽命。本實用新型的轉軸保護墊採用不受等離子體侵蝕的聚四氟乙烯材質制 成，成本低廉、更換頻率低，且可以起到較突出的有益效果。
圖1為本實用新型中轉軸保護墊的結構示意圖；圖2為本實用新型中轉軸保護墊安裝於晶片傳送裝置中的法蘭頭和轉軸之間時 的結構示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型的上述目的、特徵和優點能夠更加明顯易懂，
以下結合附圖對本 實用新型的具體實施方式
做詳細的說明。本實用新型的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置可廣泛應用於多種領域，並且可 以利用多種替換方式實現，下面是通過較佳的實施例來加以說明，當然本實用新型並不局 限於該具體實施例，本領域內的普通技術人員所熟知的一般的替換無疑地涵蓋在本實用新 型的保護範圍內。其次，本實用新型利用示意圖進行了詳細描述，在詳述本實用新型實施例時，為了 便於說明，示意圖不依一般比例局部放大，不應以此作為對本實用新型的限定。請參看圖1，圖1為本實用新型中轉軸保護墊的結構示意圖，如圖1所示，本實用新 型的轉軸保護墊100上設置有中空孔101。所述轉軸保護墊100的形狀、直徑大小同所述化 學氣相沉積腔內的晶片傳送裝置上的轉軸的形狀、直徑大小相適應；所述中空孔101的大 小、數量和分布位置與所述化學氣相沉積腔內的晶片傳送裝置上的將所述法蘭頭固定於所 述轉軸上的固定螺絲的大小、數量和分布位置相適應，所述中空孔101通常為三個，間距均 勻地分布於所述轉軸保護墊100上。所述轉軸保護墊100優選採用聚四氟乙烯材質製成。請參看圖2，圖2為本實用新型中轉軸保護墊安裝於晶片傳送裝置中的法蘭頭和 轉軸之間時的結構示意圖。如圖2所示，在將晶片傳送裝置的法蘭頭201固定於轉軸202 上時，將轉軸保護墊100放置於所述轉軸202的頂端，並將所述轉軸202連同其上所放置的 所述轉軸保護墊100插入至所述法蘭頭201上的轉軸安裝槽204內，將所述法蘭頭201固 定於所述轉軸202上的固定螺絲穿過所述轉軸保護墊100上的中空孔101內，通過所述固 定螺絲將所述法蘭頭201和轉軸保護墊100固定於所述轉軸202上。本實用新型的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置可避免化學氣相沉積腔內的晶 片傳送裝置上法蘭頭和轉軸的表面直接接觸，使得轉軸與法蘭頭不會因為等離子體的侵 蝕而粘附在一起，拆卸時容易分離，拆卸時無需破壞法蘭頭，極大的降低了法蘭頭的更換頻 率，節省了大量的維護時間，提高了機臺的利用率，同時避免轉軸表面受到侵蝕損傷，延長 了轉軸的使用壽命。本實用新型的轉軸保護墊採用不受等離子體侵蝕的聚四氟乙烯材質制 成，成本低廉、更換頻率低，且可以起到較突出的有益效果。顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用 新型的精神和範圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬於本實用新型權利要求及 其等同技術的範圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內。
權利要求一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，所述晶片傳送裝置包括轉軸和法蘭頭，所述法蘭頭通過固定組件固定於所述轉軸上，其特徵在於，還包括轉軸保護墊，所述轉軸保護墊放置於所述轉軸和所述法蘭頭之間，並通過所述固定組件固定於所述轉軸和所述法蘭頭間。
2.如權利要求1所述的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，其特徵在於，所述轉軸保 護墊的形狀、直徑大小同所述轉軸的形狀、直徑大小相適應。
3.如權利要求1所述的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，其特徵在於，所述轉軸保 護墊上設置有中空孔。
4.如權利要求3所述的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，其特徵在於，所述中空孔 的大小、數量和分布位置與所述固定組件的大小、數量和分布位置相適應。
5.如權利要求1所述的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，其特徵在於，所述固定組 件是螺絲或螺釘和螺母組合。
6.如權利要求1所述的化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置轉軸保護墊，其特徵在於， 所述轉軸保護墊採用聚四氟乙烯製成。
專利摘要本實用新型提供一種化學氣相沉積工藝腔晶片傳送裝置，所述晶片傳送裝置包括轉軸和法蘭頭，所述法蘭頭通過固定組件固定於所述轉軸上，還包括轉軸保護墊，所述轉軸保護墊放置於所述轉軸和所述法蘭頭之間，並通過所述固定組件固定於所述轉軸和所述法蘭頭間。本實用新型的轉軸保護墊可避免化學氣相沉積腔內的晶片傳送裝置上法蘭頭和轉軸的表面直接接觸，使得轉軸與法蘭頭拆卸時容易分離，極大的降低了法蘭頭的更換頻率，節省了大量的維護時間，提高了機臺的利用率。
文檔編號C23C16/00GK201732776SQ201020246378
公開日2011年2月2日 申請日期2010年6月30日 優先權日2010年6月30日
發明者龐明磊, 桂鵬 申請人:中芯國際集成電路製造(上海)有限公司