一種還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置的製作方法

2023-06-22 20:13:46

專利名稱：一種還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種多晶矽的生產設備，特別是一種還原氫化裝置利用富餘熱量生產蒸汽的裝置。
背景技術：
在西門子法生產多晶矽過程中，由於還原爐、氫化爐在生產中需要消耗大量的電能，一部分用來滿足反應需要的熱量，絕大部分用來給爐內物料加熱，以使物料達到反應條件。熱量一部分被吸收，一部分被尾氣帶走，一部分被爐壁夾套的高溫水帶走。高溫水起到冷卻爐壁、保護設備的作用。高溫冷卻水帶走的熱量很高，屬於品質較高的熱量，很有利用價值，可以產生蒸汽，供給工廠其它工序，但是該高溫冷卻水卻沒有得到充分地利用，浪費了資源。如圖1所示，V0802是閃蒸槽，V0803是高溫水循環槽。返回的高溫水由閥門控制， 既可以回到V0802產生蒸汽，又可以回到V0803由泵直接帶動循環。為了利用熱能閃蒸蒸汽，我們需要控制將水回到V0802。從理論上來講，返回的高溫水在V0802閃蒸後，蒸汽從頂部去往蒸汽管網，冷凝下來的水從底部到了 V0803。但實際上，由於高溫水回來後壓力突然下降才能產生閃蒸，形成蒸汽，因此閃蒸槽的壓力低於高溫水循環槽。而高溫水循環槽與高溫水的實際壓力一致，造成了閃蒸槽產生蒸汽後液化的水，無法從底部順利的壓到循環槽中，反而是循環水槽中的水從底部壓到了閃蒸槽，使得閃蒸槽的液位很高。這樣以來，閃蒸槽內液位高，沒有閃蒸空間，高溫水無法閃蒸，熱量沒有得到利用，造成了很大的浪費。

實用新型內容本實用新型的發明目的在於針對上述存在的問題，提供一種結構簡單，操縱方便快捷，高溫冷卻水得到充分地利用，減少了資源浪費的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置。本實用新型採用的技術方案如下本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，包括閃蒸槽和高溫水循環槽，冷凝液從閃蒸槽的頂部流入，所述閃蒸槽的頂部連接到蒸汽總管，且底部連接到地溝，所述閃蒸槽的底部與高溫水循環槽的底部之間導通，所述高溫水循環槽從其側端與底部連接到地溝，管網脫鹽水從高溫水循環槽的流入，高溫水從高溫水循環槽的底部流出，經還原爐和氫化爐後，流入到高溫水循環槽的頂部與閃蒸槽側端下部，所述閃蒸槽的頂部與高溫水循環槽的頂部之間通過平衡管導通。由於採用了上述結構，在閃蒸槽的和高溫水循環槽頂部，增加了一根平衡管，將兩個槽的頂部連通，平衡了兩個槽的壓力。加設該平衡管後，當循環槽的壓力升高，閃蒸槽的水壓不過來時，循環槽的壓力由平衡管自動卸至閃蒸槽，降低了循環槽的壓力後，水自然就可以從閃蒸槽順利地回到循環槽。由於的閃蒸槽頂部具有了空間，因此返回的高溫水也就可以閃蒸了。本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，能產生出蒸汽，節約能源，且結構簡單，操縱方便快捷，高溫冷卻水得到充分地利用。綜上所述，由於採用了上述技術方案，本實用新型的有益效果是1.本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，結構簡單，操縱方便快捷，且能產生出蒸汽，節約能源；2.本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，能夠將高溫冷卻水得到充分地利用，減少了能源的浪費，利於推廣。

圖1是現有的裝置的連接關係圖；圖2是本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置的連接關係圖。圖中標記V0802-閃蒸槽、V0803-高溫水循環槽、G-還原爐、氫化爐返還的高溫水入口、H-流向還原爐、氫化爐的高溫水出口、L-精餾返回的冷凝液入口、D-地溝、W-管網脫鹽水入口、Z-流向蒸汽總管出口、X-平衡管。
具體實施方式
以下結合附圖，對本實用新型作詳細的說明。為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，
以下結合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，並不用於限定本實用新型。如圖2所示，本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，包括閃蒸槽V0802和高溫水循環槽V0803，所述閃蒸槽V0802的頂部設置有精餾返回的冷凝液入口，冷凝液從該入口流入閃蒸槽V0802，且通過多個閥門控制；所述閃蒸槽V0802的頂部設置有流向蒸汽總管出口 Z，且通過該出口連接到蒸汽總管上；所述閃蒸槽V0802的連接到地溝D，所述閃蒸槽V0802的底部與高溫水循環槽V0803的底部之間通過管道導通，且管道上設置有閥門進行控制；所述高溫水循環槽V0803的側端與底部均連接到地溝D，且高溫水循環槽V0803 的頂部設置有管網脫鹽水入口 W，通過該入口使得管網脫鹽水從高溫水循環槽V0803的流入；所述高溫水循環槽V0803的底部設置有高溫水出口，且高溫水從該出口流出，部分高溫水閥門的控制，返還到高溫水循環槽V0803的頂部流入，部分高溫水通過閥門控制流入到還原爐與氫化爐內，高溫水經過還原爐與氫化爐後，從還原爐、氫化爐返還的高溫水入口 G 流入，且分布從高溫水循環槽V0803的頂部與閃蒸槽V0802側端下部流入，在閃蒸槽V0802 的頂部與高溫水循環槽V0803的頂部上設置有平衡管X，且閃蒸槽V0802與高溫水循環槽 V0803之間通過平衡管X導通。本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，在閃蒸槽的和高溫水循環槽頂部，增加了一根平衡管，將兩個槽的頂部連通，平衡了兩個槽的壓力。加設該平衡管後，當循環槽的壓力升高，閃蒸槽的水壓不過來時，循環槽的壓力由平衡管自動卸至閃蒸槽，降低了循環槽的壓力後，水自然就可以從閃蒸槽順利地回到循環槽。由於的閃蒸槽頂部具有了空間，因此返回的高溫水也就可以閃蒸了。本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，能產生出蒸汽，節約能源，且結構簡單，操縱方便快捷，高溫冷卻水得到充分地利用。以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，並不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。
權利要求1. 一種還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，包括閃蒸槽(V0802)和高溫水循環槽 (V0803)，冷凝液從閃蒸槽(V0802)的頂部流入，所述閃蒸槽(V0802)的頂部連接到蒸汽總管，且底部連接到地溝(T)，所述閃蒸槽(V0802)的底部與高溫水循環槽(V0803)的底部之間導通，所述高溫水循環槽(V0803)從其側端與底部連接到地溝(T)，管網脫鹽水從高溫水循環槽(V0803)的流入，高溫水從高溫水循環槽(V0803)的底部流出，經還原爐和氫化爐後，流入到高溫水循環槽(V0803)的頂部與閃蒸槽(V0802)側端下部，其特徵在於所述閃蒸槽(V0802)的頂部與高溫水循環槽(V0803)的頂部之間通過平衡管(X)導通。
專利摘要本實用新型公開了一種還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，屬於多晶矽生產設備領域。本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，冷凝液從閃蒸槽的頂部流入，所述閃蒸槽的頂部連接到蒸汽總管，且底部連接到地溝，所述閃蒸槽的底部與高溫水循環槽的底部之間導通，所述高溫水循環槽從其側端與底部連接到地溝，管網脫鹽水從高溫水循環槽流入，高溫水從高溫水循環槽的底部流出，經還原爐和氫化爐後，流入到高溫水循環槽的頂部與閃蒸槽側端下部，所述閃蒸槽的頂部與高溫水循環槽的頂部之間通過平衡管導通。本實用新型的還原氫化高溫水實現閃蒸的裝置，結構簡單，操縱方便快捷，且能產生出蒸汽，節約能源；高溫冷卻水得到充分地利用，利於推廣。
文檔編號F22B3/04GK202254875SQ201120273378
公開日2012年5月30日 申請日期2012年2月9日 優先權日2012年2月9日
發明者徐予晗 申請人:四川瑞能矽材料有限公司