一種基板及其製備方法、顯示面板、掩模板與流程
2023-06-11 00:15:31
本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種基板及其製備方法、顯示面板、掩模板。
背景技術：
隨著顯示技術的發展，LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)顯示、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發光二極體)顯示、柔性顯示等廣泛地應用於各個領域。
其中，為了提高基板的開口率，通常會根據基板的結構，將基板上的走線合理的排布在基板非顯示區的布線區。
如圖1所示，基板布線區設置有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向與第二方向相交，導致走線10具有拐角。其中，為了防止同層設置的走線10發生短路或者異層設置的走線10之間產生幹擾，走線10之間通常會設置有間隙，而走線10與走線之間的間隙會具有一個高度差。這樣一來，走線10遠離襯底一側的其他膜層在成膜的過程中，位於間隙內拐角位置處的膜層相對位於間隙內非拐角位置處的膜層，會出現端差，導致顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)，從而降低產品良率。
技術實現要素：
本發明的實施例提供一種基板及其製備方法、顯示面板、掩模板，可改善現有技術中因端差而引起的顯示面板顯示不均勻的現象。
為達到上述目的，本發明的實施例採用如下技術方案：
一方面，提供一種基板，包括布線區，所述布線區中設置有沿第一方向至第二方向延伸的走線，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走線與所述走線之間的間隙具有高度差；還包括填平層，所述填平層包括與所述走線之間的間隙對應的填平圖案，用於降低所述走線與所述走線之間間隙的高度差。
優選的，所述走線包括第一子走線；所述基板還包括顯示區，所述顯示區包括第一信號線；所述第一子走線與所述第一信號線同層且電連接；所述填平層的厚度與所述第一子走線的厚度相同。
進一步優選的，所述顯示區還包括第二信號線，所述第二信號線與所述第一信號線異層設置；所述走線還包括第二子走線；所述第二子走線與所述第二信號線同層且電連接；所述第二子走線與所述第一子走線間隔排布，且所述第二子走線與所述第一子走線的厚度相同。
優選的，所述第一信號線為柵線；所述柵線靠近所述基板的襯底設置；所述基板還包括與所述柵線同層且電連接的柵極、依次設置在所述柵極遠離所述襯底一側的柵絕緣層、有源層、以及源極和漏極；所述填平層設置在所述柵絕緣層遠離所述襯底的表面。
優選的，所述第一信號線為柵線，所述第二信號線為數據線；所述柵線靠近所述基板的襯底設置；所述基板還包括與所述柵線同層且電連接的柵極、依次設置在所述柵極遠離所述襯底一側的柵絕緣層、有源層、與所述數據線同層的源極和漏極、以及鈍化層；所述填平層設置在所述鈍化層遠離所述襯底的表面。
優選的，所述填平層的材料包括氧化矽、氮化矽、氮氧化矽中的至少一種。
基於上述，優選的，所述填平層僅設置在所述布線區。
第二方面，提供一種顯示面板，包括第一方面所述的基板。
第三方面，提供一種基板的製備方法，所述基板包括布線區，所述布線區中形成有沿第一方向至第二方向延伸的走線，所述第一方向和所述第二方向相交；所述走線與所述走線之間的間隙具有高度差；所述方法還包括在所述基板的襯底上形成填平層，所述填平層包括形與所述走線之間的間隙對應的填平圖案，用於降低所述走線與所述走線之間間隙的高度差。
優選的，所述走線包括第一子走線；在形成所述第一子走線時，還在顯示區形成與所述第一子走線連接的柵線、與所述柵線連接的柵極；所述方法還包括：在形成有所述柵極、柵線的所述襯底上，依次形成柵絕緣層、有源層、數據線、源極和漏極；其中，所述填平層形成在所述柵絕緣層之後所述有源層之前；所述填平層的厚度與所述第一子走線的厚度相同。
優選的，所述走線包括第一子走線和第二子走線，所述第一子走線和所述第二子走線間隔排布；在形成所述第一子走線時，還在顯示區形成與所述第一子走線連接的柵線、與所述柵線連接的柵極；所述方法還包括：在形成有所述柵極、柵線的所述襯底上，依次形成柵絕緣層、有源層、數據線、源極和漏極、以及鈍化層；所述數據線、源極和漏極與所述第二子走線同時形成；其中，所述填平層形成在所述鈍化層之後；所述第二子走線、所述第一子走線、以及所述填平層的厚度均相同。
第四方面，提供一種掩模板，用於上述的基板的製備方法中形成填平層，所述掩模板包括間隔排布的完全透光部分和完全不透光部分，所述完全透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。
或者，所述完全不透光部分沿第一方向至第二方向延伸，所述第一方向和所述第二方向相交。
本發明的實施例提供一種基板及其製備方法、顯示面板、掩模板，通過在走線之間的間隙對應處設置填平圖案，來降低走線與走線之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線遠離襯底一側的其他膜層在成膜的過程中，位於間隙內拐角位置處的膜層相對位於間隙內非拐角位置處的膜層，出現端差的嚴重程度會減弱，當將基板應用於顯示面板時，可改善現有技術中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的現象，因而可提高產品良率。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為現有技術提供的一種布線區內走線的排布方式；
圖2為本發明實施例提供的一種布線區的俯視示意圖一；
圖3(a)為圖2中沿AA′向的截面示意圖一；
圖3(b)為圖2中沿AA′向的截面示意圖二；
圖4(a)為本發明實施例提供的一種基板的俯視示意圖一；
圖4(b)為圖4(a)中沿BB′向的截面示意圖；
圖5(a)為本發明實施例提供的一種布線區的俯視示意圖二；
圖5(b)為圖5(a)中沿CC′向的截面示意圖；
圖6為本發明實施例提供的一種布線區的俯視示意圖三；
圖7(a)為本發明實施例提供的一種基板的俯視示意圖二；
圖7(b)為圖7(a)中沿DD′向的截面示意圖；
圖8為本發明實施例提供的一種基板的結構示意圖；
圖9為本發明實施例提供的一種基板的製備方法的流程圖一；
圖10為本發明實施例提供的一種基板的製備方法的流程圖二；
圖11為本發明實施例提供的一種掩模板的俯視示意圖一；
圖12為本發明實施例提供的一種掩模板的俯視示意圖二。
附圖標記:
01-布線區；02-顯示區；03-非顯示區；100-襯底；10-走線；11-第一子走線；12-第二子走線；20-填平層；21-填平圖案；30-第一信號線；31-柵極；32-柵絕緣層；40-第二信號線；41-有源層；42-源極；43-漏極；50-鈍化層；200-掩模板；210-完全透光區；220-完全不透光區。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
本發明實施例提供一種基板，如圖2、圖3(a)和圖3(b)所示，包括布線區01，布線區01中設置有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向和第二方向相交；走線10與走線之間的間隙具有高度差；還包括填平層20，所述填平層20包括與走線10之間的間隙對應的填平圖案21，用於降低走線10與走線10之間間隙的高度差。
需要說明的是，第一，不對第一方向和第二方向進行限定，第一方向和第二方向相交即可，圖2中僅以第一方向和第二方向垂直進行示意。
第二，填平層20的材料優選為絕緣材料，基於此，對於填平層20，其可以僅包含填平圖案21，也可以既包含填平圖案21，又包含設置在走線區01以外部分的圖案。圖2、圖3(a)和圖3(b)僅以填平層20僅包含填平圖案21進行示意。
其中，不對填平層20的厚度進行限定，能使走線10與走線之間間隙的高度差降低，從而改善現有技術中的斜向汙漬即可。
此外，不對填平層20的設置位置進行限定，可根據基板上設置的膜層進行合理設置，圖3(a)和圖3(b)僅為示意。
第三，走線10可以僅包含同層排布的走線，也可以包含異層排布的走線，圖2、圖3(a)和圖3(b)中僅以走線10為同層排布進行示意。
本發明實施例提供一種基板，通過在走線10之間的間隙對應處設置填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側的其他膜層在成膜的過程中，位於間隙內拐角位置處的膜層相對位於間隙內非拐角位置處的膜層，出現端差的嚴重程度會減弱，當將基板應用於顯示面板時，可改善現有技術中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的現象，因而可提高產品良率。
由於氧化矽、氮化矽、氮氧化矽易於獲得，性能穩定，成本較低，因此，本發明實施例優選，填平層20的材料為氧化矽、氮化矽、氮氧化矽中至少一種。
當然，填平層20的材料也可以為樹脂材料，或其他透明絕緣材料。
優選的，如圖4(a)和圖4(b)所示，走線10包括第一子走線11；基板還包括顯示區02，顯示區02包括第一信號線30；第一子走線11與第一信號線30同層且電連接；填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。
需要說明的是，第一，所述基板可包括顯示區02和非顯示區03，非顯示區03設置在顯示區02的外側。布線區01屬於非顯示區03的一部分。
第二，由於第一子走線11之間的間隙被填平後，可降低工藝的難度，因此，第一子走線11之間的間隙越早填平越好。在此基礎上，可結合所述基板的結構，以在形成填平層20時，不會導致工藝的複雜化為準。
其中，如圖4(b)所示，為了避免形成填平層20時對第一子走線11產生影響，填平層20可設置在覆蓋第一子走線11的絕緣層的上方。
當布線區01內只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，本發明實施例通過將填平層20的厚度與第一子走線11的厚度設置為相同，可以完全消除第一子走線11與第一子走線11之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位於間隙內拐角位置處的膜層產生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的問題。
進一步優選的，所述顯示區02還包括第二信號線，第二信號線與第一信號線30異層設置；在此基礎上，如圖5(a)、圖5(b)、和圖6所示，所述走線10還包括第二子走線12；第二子走線12與第二信號線同層且電連接；第二子走線12與第一子走線11間隔排布，且第二子走線12與第一子走線11的厚度相同。
需要說明的是，第一，由於第一信號線30和第二信號線異層設置，即，第一子走線11和第二子走線12異層設置，為了簡化工藝，填平層20可在第一子走線11和第二子走線12都形成之後形成。
其中，顯示區02包括異層設置的第一信號線30和第二信號線時，第一信號線30和第二信號線之間應設置有絕緣層。
第二，不對第一信號線30、第二信號線、第一子走線11和第二子走線12的布線方式進行限定，只要使第二子走線12與第一子走線11間隔排布即可。
當布線區01內設置間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，本發明實施例通過將第一子走線11、第二子走線12、填平層20的厚度設置為相同，可以完全消除第一子走線11和第二子走線12與第一子走線11和第二子走線12之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位於間隙內拐角位置處的膜層產生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的問題。
基於上述，優選的，填平層20僅設置在布線區01。即，填平層20僅包含填平圖案21。
本發明實施例通過僅將填平層20設置在布線區01，在解決端差引起顯示不均勻問題的基礎上，可以避免增加基板的厚度。
下面結合具體實施例，對本發明實施例提供的基板進行說明：
實施例一
如圖7(a)和圖7(b)所示，提供一種基板，包括顯示區02和布線區01，顯示區02包括設置在襯底100上的第一信號線30，即柵線、與柵線同層且電連接的柵極31、設置在柵極31遠離襯底100一側的柵絕緣層32、填平層20、有源層41、第二信號線40，即數據線、以及與數據線同層且電連接的源極42、以及漏極43。
所述基板還包括設置在布線區01內沿第一方向延伸至第二方向的第一子走線11，即柵線引線，第一方向與第二方向相交，第一子走線11與柵線同層且電連接。
其中，填平層20設置在布線區01，填平層20包含填平圖案21，填平圖案21與第一子走線11之間的間隙對應，且填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。
此處，當布線區01內只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，通過將填平層20設置在柵絕緣層32上方，一方面，使得填平層20可以採用與柵絕緣層32相同的成膜工藝成膜，從而簡化製備工序；另一方面，儘早填平第一子走線11之間的間隙，可以避免後續膜層在成膜過程中產生端差，從而較好的改善因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的問題。
實施例二
如圖8所示，提供一種基板，包括顯示區02和布線區01，顯示區02包括設置在襯底100上的第一信號線30，即柵線、與柵線同層且電連接的柵極31、設置在柵極31遠離襯底100一側的柵絕緣層32、有源層41、第二信號線40，即數據線、與數據線同層且電連接的源極42、漏極43、鈍化層50、以及填平層20。
所述基板還包括設置在布線區01內沿第一方向延伸至第二方向的第一子走線11，即柵線引線和第二子走線12，即數據線引線，第一方向與第二方向相交，第一子走線11與第二子走線12間隔排布；且第一子走線11與柵線同層且電連接，第二子走線12與數據線同層且電連接。
其中，填平層20設置在布線區01，填平層20包含填平圖案21，填平圖案21與第一子走線11與第二子走線12之間的間隙對應，且第一子走線11、第二子走線12、以及填平層20的厚度相同。
此處，當布線區01內包含間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，通過將填平層20設置在鈍化層50上方，使得填平層20可以採用與鈍化層50相同的成膜工藝成膜，從而簡化製備工序。
以上實施例僅為本發明給出的具體實施方式，並不能完全涵蓋本發明所保護的全部實施方式。其中，上述實施例中各特徵的任意組合均屬於本發明保護的範圍，此處不再贅述。
本發明實施例還提供一種顯示面板，包括上述基板。
其中，所述顯示面板例如可以為液晶顯示面板或有機電致發光二極體顯示面板。
當顯示面板為液晶顯示面板時，所述基板還包括與漏極43電連接的像素電極；進一步的還包括公共電極。在此基礎上，所述顯示面板還包括對盒基板，對盒基板可以包括黑矩陣和彩膜。此處，彩膜可以設置在對盒基板上，也可設置在陣列基板上；公共電極可以設置在基板上，也可設置在對盒基板上。
當顯示面板為機電致發光二極體顯示面板時，所述基板還包括與漏極43電連接的陽極、陰極、以及位於陽極和陰極之間的有機材料功能層。所述顯示面板還包括封裝基板。
本發明實施例提供一種顯示面板，通過在基板上的走線10之間的間隙對應處設置填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側的其他膜層在成膜的過程中，位於間隙內拐角位置處的膜層相對位於間隙內非拐角位置處的膜層，出現端差的嚴重程度會減弱，可改善現有技術中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的現象，因而可提高產品良率。
本發明實施例還提供一種基板的製備方法，所述基板包括布線區01，布線區01中形成有沿第一方向至第二方向延伸的走線10，第一方向和第二方向相交；走線10與走線10之間的間隙具有高度差；所述方法還包括：在基板的襯底100上形成填平層20，填平層20包括與走線11之間的間隙對應的填平圖案21，用於降低走線10與走線10之間間隙的高度差。
本發明實施例提供一種基板的製備方法，通過在走線10之間的間隙對應處形成填平圖案21，來降低走線10與走線10之間的間隙位置處的高度差，這樣一來，走線10遠離襯底100一側的其他膜層在成膜的過程中，位於間隙內拐角位置處的膜層相對位於間隙內非拐角位置處的膜層，出現端差的嚴重程度會減弱，當將基板應用於顯示面板時，可改善現有技術中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的現象，因而可提高產品良率。
可選的，走線10包括第一子走線11，如圖9所示，所述方法具體包括如下步驟：
S10、參考圖7(a)和7(b)所示，在襯底100上形成柵線(即，第一信號線30)、柵極31和第一子走線11，柵線分別與柵極31和第一子走線11連接。
其中，柵線和柵極31位於顯示區02，第一子走線11位於布線區01。
S20、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有柵極31、柵線、第一子走線11的襯底100上形成柵絕緣層32。
S30、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有柵絕緣層32的襯底100上形成填平層20。
此處，填平層20可僅形成在布線區01，也可從布線區01延伸至顯示區02。
其中，填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同。
S40、參考圖7(a)和7(b)所示，在形成有填平層20的襯底100上形成有源層41。
S50、在形成有源層41的襯底100上形成數據線、源極42和漏極43，數據線與源極42相連。
當布線區01內只有第一子走線11沿第一方向至第二方向延伸時，本發明實施例通過使填平層20的厚度與第一子走線11的厚度相同，可以完全消除第一子走線11與所述第一子走線之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位於間隙內拐角位置處的膜層產生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的問題。此外，通過將填平層20形成在柵絕緣層之後，使得填平層20可以採用與柵絕緣層相同的成膜工藝成膜，從而簡化製備工序，而且可避免對有源層41造成影響。
可選的，走線10包括間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向延伸至第二方向，如圖10所示，所述方法具體包括：
S100、參考圖8所示，在襯底100上形成柵線(即，第一信號線30)、柵極31、第一子走線11，柵線分別與柵極31和第一子走線11連接。
其中，柵線和柵極31位於顯示區02，第一子走線11位於布線區01。
S200、參考圖8所示，在形成有柵極31、柵線、第一子走線11的襯底100上形成柵絕緣層32。
S300、參考圖8所示，在形成有柵絕緣層32的襯底100上形成有源層41。
S400、在形成有源層41的襯底100上形成數據線(即，第二信號線)、源極42、漏極43和第二子走線12，數據線分別與源極42和第二子走線12連接。
S500、在形成有數據線、源極42、漏極43和第二子走線12的襯底100上形成鈍化層50。
S600、在形成有鈍化層50的襯底100上形成填平層20。
此處，填平層20可僅形成在布線區01，也可從布線區01延伸至顯示區02。
其中，第一子走線11、第二子走線12、以及填平層20的厚度相同。
當布線區01內包含間隔排布的第一子走線11和第二子走線12，且第一子走線11和第二子走線12均沿第一方向至第二方向延伸時，本發明實施例通過使第一子走線11、第二子走線12、填平層20的厚度相同，可以完全消除第一子走線11和第二子走線12與第一子走線和第二子走線之間的間隙位置處的高度差，從而能夠避免位於間隙內拐角位置處的膜層產生端差，消除因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的問題。此外，通過將填平層20形成在鈍化層50遠離襯底100一側，使得填平層20可以採用與鈍化層50相同的成膜工藝成膜，從而簡化製備工序。
需要說明的是，對於實施例一和實例二，製備方法中形成各膜層可以是通過成膜，光刻膠塗布，曝光，顯影，刻蝕，剝離的步驟，來形成所需圖案。
此外，根據基板的類型，當所述基板為液晶顯示面板的基板時，其製備方法還應包括形成像素電極、公共電極等。當所述基板為有機電致發光二極體顯示裝置時，其製備方法還應包括形成陽極、有機材料功能層和陰極；其中，有機材料功能層和陰極可通過蒸鍍工藝形成。
本發明實施例還提供一種掩模板200，用於形成上述基板的製備方法中的填平層20。如圖11所示，所述掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，完全透光部分210沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。
其中，當將掩模板200應用於製備上述基板中的填平層20時，掩模板200的完全透光部分210與基板上的走線10對應，且塗覆在填平層膜層表面的光刻膠應為正性光刻膠。
本發明實施例提供一種掩模板200，通過使掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，並使完全透光部分210沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。這樣一來，將掩模板200用於製備上述基板中的填平層20時，能夠製備出包含填平圖案21的填平層20，從而使基板在應用於顯示面板時，可改善現有技術中因端差原因引起的顯示面板顯示不均勻(斜向汙漬)的現象，因而可提高產品良率。
本發明實施例還提供一種掩模板200，用於形成上述基板的製備方法中的填平層20。如圖12所示，所述掩模板200包括間隔排布的完全透光部分210和完全不透光部分220，完全不透光部分220沿第一方向至第二方向延伸，第一方向和第二方向相交。
其中，當將掩模板200應用於製備上述基板中的填平層20時，掩模板200的完全不透光部分220與基板上的走線10對應，且塗覆在填平層膜層表面的光刻膠應為負性光刻膠。
本實施例提供的掩模板200與上述掩模板200的有益效果相同，此處不再贅述。
以上所述，僅為本發明的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以所述權利要求的保護範圍為準。