線圈盤和電磁烹飪器具的製作方法
2023-06-24 02:32:01 3
本實用新型涉及電磁加熱領域，特別涉及一種線圈盤和電磁烹飪器具。
背景技術：
：相比傳統的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡單方便等優勢，基於電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產生的高頻交變電磁場在鍋具中產生渦流以加熱。然而，現有的線圈盤中，加熱中心位於靠近盤心的內部區域，導致線圈盤整體加熱不均勻，加熱效果差。技術實現要素：本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤，旨在解決上述加熱不均勻的問題，改善線圈盤的加熱效果。為實現上述目的，本實用新型提出的線圈盤，用於電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設於所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環形，所述異形線圈繞組具有沿環周間隔設置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米。優選地，在同一匝線圈中相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為15～110毫米。優選地，所述線圈盤還包括設於所述線圈盤座的圓環形線圈繞組。優選地，所述異形線圈繞組和所述圓環形線圈繞組內外層相間設置。優選地，所述圓環形線圈繞組的外圍設有所述異形線圈繞組。優選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為35～130毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為25～110毫米。優選地，所述異形線圈繞組的外圍設有所述圓環形線圈繞組。優選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～100毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為15～90毫米。優選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環形側部，所述異形線圈繞組設於所述盤底或所述側部。本實用新型進一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤用於電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設於所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環形，所述異形線圈繞組具有沿環周間隔設置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米。優選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實用新型技術方案中，線圈盤座設有異形線圈繞組，異形線圈繞組呈環形，具有沿環周間隔設置的多個凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部之間形成異形線圈繞組的凹部，從而在異形線圈繞組的分布區域形成強弱間隔分布的磁場，進而形成多個加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強磁場強度，加強加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米，以使加熱中心之間具有適中的距離，既不會因為加熱中心間距過小、分布過於集中而導致加熱區域的重疊，又避免了加熱中心間距過大、分布過疏而產生加熱效果微弱的加熱盲區，從而使線圈盤整體的加熱更均勻，改善了線圈盤的加熱效果。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。圖1為本實用新型線圈盤一實施例的結構示意圖；圖2為圖1中線圈盤的加熱區域分布示意圖；圖3為本實用新型線圈盤另一實施例的結構示意圖；圖4為圖3中線圈盤的加熱區域分布示意圖。附圖標號說明：標號名稱標號名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環形線圈繞組本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、後……)，則該方向性指示僅用於解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關係、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在，也不在本實用新型要求的保護範圍之內。本實用新型提出一種線圈盤。在本實用新型實施例中，如圖1所示，該線圈盤用於電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及異形線圈繞組200，異形線圈繞組200設於線圈盤座100，異形線圈繞組200呈環形，異形線圈繞組200具有沿環周間隔設置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組200的凹部220，異形線圈繞組200包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～130毫米。具體的，線圈盤座100用於支撐異形線圈繞組200，根據安培定則，沿環周間隔分布的凸部210和凹部220使得線圈盤中的磁場呈強弱間隔分布。如圖2所示，在線圈盤中，加熱區域的分布與磁場強度的分布基本相對應，即線圈盤中磁場較強的區域，加熱效果也較強，強弱間隔分布的磁場在線圈盤上形成多個間隔的加熱中心，圖2中異形線圈繞組200所在區域的虛線所圍成的閉合區域即加熱中心。加熱中心的分布與異形線圈繞組200的凸部210和凹部220的尺寸相關，為了避免相鄰兩個加熱中心之間的距離過大形成加熱效果微弱的加熱盲區，或相鄰兩個加熱中心之間的距離過小導致加熱中心重疊相連，導致線圈盤的加熱不均勻，在包括多匝線圈的異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～130毫米，其中，最凸點為凸部210上距離環心最遠的點。如圖1所示，D1為最內匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離，D1不小於15毫米；D2為最外匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離，D2不大於130毫米；在最內匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離在D1和D2之間。在該尺寸範圍內，可避免加熱盲區的產生和加熱中心的重疊，從而提高線圈盤加熱的均勻性，改善線圈盤的加熱效果。本實用新型技術方案中，線圈盤座設有異形線圈繞組200，異形線圈繞組200呈環形，具有沿環周間隔設置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組的凹部220，從而在異形線圈繞組的分布區域形成強弱間隔分布的磁場，進而形成多個加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強磁場強度，加強加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米，從而使得加熱中心之間具有適中的距離，避免加熱區域的重疊或加熱盲區的產生，以使線圈盤的加熱更均勻，改善線圈盤的加熱效果。在本實用新型的一實施例中，在同一匝線圈中相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～110毫米。如圖1所示，在異形線圈繞組200的同一匝線圈中，凹部220上距離環心最近的點為最凹點，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～110毫米。D3為最內匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離，D3不小於15毫米；D4為最外匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離，D4不大於110毫米；在最內匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離在D3和D4之間。在該尺寸範圍內，可避免加熱盲區的產生和加熱中心的重疊，使加熱更均勻。在本實用新型的一實施例中，如圖1所示，線圈盤還包括設於線圈盤座100的圓環形線圈繞組300。根據安培定則，圓環形線圈繞組300所產生的磁場沿環周均勻分布，在線圈盤中形成連續分布的圓形或圓環形加熱區域，從而使得線圈盤在內外方向上的加熱更加均勻，如圖2所示，虛線所圍成的圓形區域為圓環形線圈繞組300所形成的加熱區域。進一步的，異形線圈繞組200和圓環形線圈繞組300內外層相間設置。線圈盤包括一個或多個異形線圈繞組200，以及，一個或多個圓環形線圈繞組300，通過內外層相間設置異形線圈繞組200和圓環形線圈繞組300，使沿環周分散分布的小加熱中心和連續的加熱區域在線圈盤內外間隔分布，從而在線圈盤中均勻地引入多個加熱中心，以改善加熱效果。在本實用新型的一實施例中，如圖1和圖2所示，圓環形線圈繞組300的外圍設有異形線圈繞組200，相應的，在內部的連續加熱區域外圍形成多個分散的加熱中心。通過將圓環形線圈繞組300設置在內部，可減小線圈盤內部的加熱盲區，考慮到每一分散的加熱中心和連續加熱區域的擴散範圍，使加熱中心之間、以及加熱中心和連續加熱區域之間不產生重疊或盲區；同時，考慮到在線圈盤的生產過程中，異形線圈繞組200繞設的工藝限制了其凸部210和凹部220之間的連接部轉折不宜過大，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為35～130毫米，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為25～110毫米。在本實用新型的另一實施例中，如圖3和圖4所示，異形線圈繞組200的外圍設有圓環形線圈繞組300，相應的，在多個分散的加熱中心外圍形成連續加熱區域。當異形線圈繞組200位於內部時，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～100毫米，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～90毫米，避免加熱中心之間的距離過小產生重疊或距離過大產生加熱盲區，同時，避免位於內部的加熱中心與外圍的連續加熱區域之間產生重疊或加熱盲區；同時，避免異形線圈繞組200的凸部210和凹部220之間的連接部轉折過大而導致繞設困難。在上述實施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環形線圈繞組300均繞設在同一平面上，相應的，分散的加熱中心和/或連續加熱區域也分布在同一平面上，適用於對平底鍋具進行加熱。在上述實施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環形側部，異形線圈繞組設於盤底或側部，當異形線圈繞組設於盤底時，盤底形成分散的加熱中心，以提高盤底的加熱強度；當異形線圈繞組設於側部時，側部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過程中側部加熱強度不足的問題，適應多種烹飪需求。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤，該線圈盤的具體結構參照上述實施例，由於本電磁烹飪器具採用了上述所有實施例的全部技術方案，因此至少具有上述實施例的技術方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實用新型的優選實施例，並非因此限制本實用新型的專利範圍，凡是在本實用新型的發明構思下，利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接/間接運用在其他相關的
技術領域：
均包括在本實用新型的專利保護範圍內。當前第1頁1 2 3