真空吸附臺面及具有該真空吸附臺面的真空吸附臺的製作方法

2023-05-30 17:19:26 2

專利名稱：真空吸附臺面及具有該真空吸附臺面的真空吸附臺的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及真空吸附技術領域，尤其涉及一種真空吸附臺面及具有該真空吸附臺面的真空吸附臺。
背景技術：
真空吸附臺是一種常用的工件支撐設備，其用於在線路板製造、液晶顯示面板製造、半導體工藝、光學薄膜製造等領域中支撐並定位工件，以便對工件進行各種處理。如圖1 所示，現有的真空吸附臺通常包括真空源，真空源包括通過真空泵接口 93連接真空泵的真空腔室9，真空腔室9上方開口並覆蓋有支撐網91，帶有多個支撐板吸附孔「的支撐板1位於支撐網91上並通過定位銷釘92等定位結構被定位，待加工的工件被放在支撐板1上，當真空泵開始抽真空時，工件會被支撐板吸附孔11吸住而定位。發明人發現現有技術中至少存在如下問題由於吸附時支撐板1兩側分別為真空和大氣壓，存在較大的壓差，故支撐板1必須採用有較高硬度和強度的材料製造以保證其不會彎曲變形；但有些工件的表面硬度較低(例如，線路板表面阻焊層的硬度在曝光前後分別僅約為2H和4H)，或者有些工件的表面具有易損傷的光學薄膜等，且工件與支撐板1間的作用力又較大(因為存在真空吸附力)，因此當真空吸附臺用於支撐這類工件時，較硬的支撐板1 (尤其是支撐板吸附孔11)很容易在工件表面造成吸痕等表面不良。
發明內容本實用新型的實施例提供一種真空吸附臺面，其可以在保證支撐穩定的情況下避免工件表面的損傷。為達到上述目的，本實用新型的實施例採用如下技術方案一種真空吸附臺面，包括用於設在真空源上的支撐板，所述支撐板上具有支撐板吸附孔；設在所述支撐板上的承載板，所述承載板上與所述支撐板吸附孔相對應的位置處具有承載板吸附孔，且所述承載板中，至少用於承載工件的部分的硬度低於所述支撐板的硬度。由於本實用新型的實施例的真空吸附臺面中，工件與硬度較低的承載板相接觸， 而承載板又被硬度較高的支撐板支撐，因此其可在保證支撐穩定的情況下避免工件表面的損傷。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板吸附孔的橫截面尺寸小於或大於其所對應的所述支撐板吸附孔的橫截面尺寸。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑比其所對應的所述支撐板吸附孔的直徑小1毫米以上。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑在0. 5毫米至1毫米之間，所述支撐板吸附孔的直徑在 1.5毫米至3毫米之間。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板用於承載所述工件的面上在所述承載板吸附孔的邊緣具有倒角。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板由塑料或橡膠構成。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡膠中的任意一種構成。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板的厚度在0. 1毫米至0. 5 毫米之間。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，所述承載板的厚度為0. 2毫米。本實用新型的實施例還提供一種真空吸附臺，其可避免工件表面的損傷。為達到上述目的，本實用新型的實施例採用如下技術方案一種真空吸附臺，包括用於提供真空環境的真空源，以及設在所述真空源上的上述的真空吸附臺面。由於本實用新型的實施例的真空吸附臺具有上述的真空吸附臺面，因此其可在保證支撐穩定的情況下避免工件表面的損傷。作為本實用新型的實施例的一種優選方案，真空吸附臺還包括用於將所述支撐板和承載板相對定位的定位結構。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。圖1為現有的真空吸附臺分解時的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例一的真空吸附臺面分解時的結構示意圖；圖3為本實用新型實施例一的真空吸附臺面承載工件時的剖視結構示意圖；圖4為本實用新型實施例的另一種承載板的剖視結構示意圖；圖5為本實用新型實施例二的真空吸附臺分解時的結構示意圖。
具體實施方式
本實用新型提供一種真空吸附臺面，包括用於設在真空源上的支撐板，所述支撐板上具有支撐板吸附孔；其特徵在於，所述真空吸附臺面還包括設在所述支撐板上的承載板，所述承載板上與所述支撐板吸附孔相對應的位置處具有承載板吸附孔，且所述承載板中，至少用於承載工件的部分的硬度低於所述支撐板的硬度。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板吸附孔的橫截面尺寸小於或大於其所對應的所述支撐板吸附孔的橫截面尺寸。[0034]優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑比其所對應的所述支撐板吸附孔的直徑小1毫米以上。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑在0. 5毫米至1毫米之間，所述支撐板吸附孔的直徑在1. 5 毫米至3毫米之間。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板用於承載所述工件的面上在所述承載板吸附孔的邊緣具有倒角。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板由塑料或橡膠構成。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡膠中的任意一種構成。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板的厚度在0. 1毫米至0. 5毫米之間。優選地，在本實用新型的各實施例中，所述承載板的厚度為0. 2毫米。本實用新型提供一種真空吸附臺，包括用於提供真空環境的真空源，其特徵在於， 所述真空吸附臺還包括設在所述真空源上的、如前述的真空吸附臺面。優選地，在本實用新型的各實施例中，還包括用於將所述支撐板和承載板相對定位的定位結構。下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其它實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。本實用新型實施例提供一種真空吸附臺面，包括用於設在真空源上的支撐板，所述支撐板上具有支撐板吸附孔；設在所述支撐板上的承載板，所述承載板上與所述支撐板吸附孔相對應的位置處具有承載板吸附孔，且所述承載板中，至少用於承載工件的部分的硬度低於所述支撐板的硬度。由於本實用新型的實施例的真空吸附臺面中，工件與硬度較低的承載板相接觸， 而承載板又被硬度較高的支撐板支撐，因此其可在保證支撐穩定的情況下避免工件表面的損傷；且由此其還可提高工件成品率，減少後續所需的表面檢測、表面修補等步驟，並使真空吸附臺面能用於支撐一些因表面過軟而原先並不適用的工件，從而擴大了其應用範圍。實施例一本實用新型實施例提供一種真空吸附臺面，如圖2至圖4所示，其包括支撐板1和承載板2。支撐板1用於設在真空源(該真空源可為上方設有支撐網的真空腔室等形式) 上，支撐板1上具有多個支撐板吸附孔11。該支撐板1可具有與現有的常規支撐板1類似的結構。從材料上看，支撐板1優選由合金、工程塑料等具有較高硬度和強度的材料構成， 例如由不鏽鋼、鋁合金、特氟龍(聚四氟乙烯)等構成。當由合金材料構成時，支撐板1厚度優選在0. 5 1mm，當由工程塑料構成時，支撐板1厚度優選在1 2mm。支撐板吸附孔11優選為孔徑在1. 5 3mm的圓孔。支撐板吸附孔11在支撐板1上的分布也可採取不同的現有方式，例如，可如圖2所示均勻分布；或也可在對應工件(例如在曝光工藝中的線路板)8邊緣的位置分布密度較大(如孔中心距在4 8mm)，而在對應工件8中部的位置分布密度較小(如孔中心距在10 15mm)，以達到更好的吸附效果。承載板2則位於支撐板1上，從而在吸附時其可直接與工件8接觸。承載板2上與支撐板吸附孔11相對應的位置具有承載板吸附孔21，也就是說當承載板2正確定位在支撐板1上時，支撐板吸附孔11上方有承載板吸附孔21，承載板吸附孔21下方也有支撐板吸附孔11，兩種孔11、21形成貫通的結構。該承載板2用於支撐工件8的部分的硬度應當小於支撐板1的硬度(當然，也可承載板2整體的硬度均低於支撐板1的硬度)，以保證承載板2(尤其是承載板吸附孔21)不會對與其接觸的工件8表面造成吸痕等損傷。優選地，該承載板2可由塑料或橡膠材料構成，例如由聚氯乙稀(PVC)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚丙烯、丁苯橡膠中的任意一種構成；當然承載板2也可由其它的硬度低於支撐板1硬度的材料構成。在進行吸附時，硬度較高的支撐板1可以抵抗其兩側的壓差而基本不彎曲變形， 從而保證支撐面平整，為工件8提供穩定且均勻的支撐；而硬度較低的承載板2可與支撐板 1緊密接觸，從而保證與工件8相接觸的表面較軟，以防止工件8表面產生吸痕等。優選地，承載板吸附孔21的橫截面尺寸小於其所對應的支撐板吸附孔11的橫截面尺寸；也就是說承載板吸附孔21優選比支撐板吸附孔11更小，且從垂直於承載板2和支撐板1的方向上看，承載板吸附孔21優選位於支撐板吸附孔11內。這樣，如圖3所示，當進行吸附時，由於吸力的作用，承載板2可在承載板吸附孔21的周邊產生輕微凹陷，從而使承載板吸附孔21周邊與工件8形成平滑過渡的接觸，以更好地避免工件8在與承載板吸附孔21相對應的位置產生損傷。更優選地，當承載板吸附孔21和支撐板吸附孔11均為圓孔時，承載板吸附孔21的直徑應比支撐板吸附孔11的直徑小Imm以上(也就是孔的每一側小0. 5mm以上)；再優選地，當支撐板吸附孔11的直徑在1. 5 3mm之間時，承載板吸附孔 21的直徑可在0. 5 Imm之間。優選地，如圖4所示，承載板2用於承載工件8的面上在承載板吸附孔21的邊緣處具有倒角211，該倒角211同樣可以起到防止承載板吸附孔21損傷工件8的作用。優選地，承載板2的厚度在0. 1 0. 5mm之間，更優選為0. 2mm。這個範圍的厚度可以保證承載板2本身具有足夠的強度，能為工件8提供足夠的保護，同時還可保證吸附時承載板吸附孔21周邊能產生足夠程度的凹陷。優選地，在支撐板1和承載板2上均可具有定位銷釘孔12、22等用於將支撐板1 和承載板2相對定位的定位結構。實施例二本實用新型實施例提供一種真空吸附臺，如圖5所示，其包括用於提供真空環境的真空源，以及設在所述真空源上的上述的真空吸附臺面。其中，真空源可包括真空腔室9，真空腔室9具有與真空泵相連的真空泵接口 93， 而真空腔室9上方開口並設有支撐網91，真空吸附臺面的支撐板1即可被設在該支撐網91 上。當然，該真空源也可為其它形式的公知的真空源，例如，支撐網91可被支撐條等代替； 或真空源可為與真空泵直接相連的、具有較大開口的真空吸頭等。優選地，真空吸附臺還可包括用於將支撐板1和承載板2相對定位的定位結構。定位結構用於將支撐板1和承載板2相對定位，從而保證吸附時支撐板吸附孔11和承載板吸附孔21可以準確的處於對應位置。該定位結構可包括設在真空腔室9上的至少兩根定位銷釘92，定位銷釘92可穿過支撐板1和承載板2上的銷釘定位孔12、22，從而將支撐板1 和承載板2相對定位(此時實際為將真空腔室9、支撐板1、承載板2相對定位了)。當然， 定位結構也可為其它許多公知的形式，例如，定位結構也可包括設在真空腔室周邊的一圈凸邊，從而將支撐板1和承載板2 —起限定在該凸邊內；再如，定位結構也可包括位於支撐板1邊緣的凸起以及位於承載板2邊緣的凹口，當凸起卡入凹口時即可將支撐板1和承載板2相對定位。由於本實用新型的實施例的真空吸附臺具有上述的真空吸附臺面，因此其可在保證支撐穩定的情況下避免工件表面的損傷，並提高工件成品率，減少後續所需的表面檢測、 表面修補等步驟，具有較大的應用範圍。顯然，本實用新型實施例的真空吸附臺面和真空吸附臺還可進行許多變化。例如， 承載板、支撐板的具體形狀、尺寸、材料等可不同；承載板吸附孔、支撐板吸附孔的具體形狀、尺寸、分布位置可不同；定位結構的具體形式可不同；真空源的具體形式可不同等。顯然，本實用新型實施例的真空吸附臺面和真空吸附臺並不限於用在線路板的阻焊層曝光處理中；它們也可用於許多其它領域中，例如在薄膜沉積、刻蝕、顯影、摩擦等工藝中支撐液晶顯示基板、半導體基板、矽片、光學元件等許多其它工件。以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式
，但本實用新型的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術範圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護範圍之內。因此，本實用新型的保護範圍應以所述權利要求的保護範圍為準。
權利要求1.一種真空吸附臺面，包括用於設在真空源上的支撐板，所述支撐板上具有支撐板吸附孔；其特徵在於，所述真空吸附臺面還包括設在所述支撐板上的承載板，所述承載板上與所述支撐板吸附孔相對應的位置處具有承載板吸附孔，且所述承載板中，至少用於承載工件的部分的硬度低於所述支撐板的硬度。
2.根據權利要求1所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板吸附孔的橫截面尺寸小於或大於其所對應的所述支撐板吸附孔的橫截面尺寸。
3.根據權利要求1所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑比其所對應的所述支撐板吸附孔的直徑小1毫米以上。
4.根據權利要求1所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板吸附孔和支撐板吸附孔均為圓孔，且所述承載板吸附孔的直徑在0. 5毫米至1毫米之間，所述支撐板吸附孔的直徑在1.5毫米至3毫米之間。
5.根據權利要求1所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板用於承載所述工件的面上在所述承載板吸附孔的邊緣具有倒角。
6.根據權利要求1至5中任意一項所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板由塑料或橡膠構成。
7.根據權利要求1至5中任意一項所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡膠中的任意一種構成。
8.根據權利要求1至5任意一項所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板的厚度在0. 1毫米至0.5毫米之間。
9.根據權利要求1至5中任意一項所述的真空吸附臺面，其特徵在於，所述承載板的厚度為0.2毫米。
10.一種真空吸附臺，包括用於提供真空環境的真空源，其特徵在於，所述真空吸附臺還包括設在所述真空源上的、如上述權利要求1至9中任意一項所述的真空吸附臺面。
11.根據權利要求10所述的真空吸附臺，其特徵在於，還包括用於將所述支撐板和承載板相對定位的定位結構。
專利摘要本實用新型提供一種真空吸附臺面及具有該真空吸附臺面的真空吸附臺，屬於真空吸附技術領域，其可解決現有的真空吸附臺面易造成工件表面損傷的問題。本實用新型的真空吸附臺面包括用於設在真空源上的支撐板，所述支撐板上具有支撐板吸附孔；設在所述支撐板上的承載板，所述承載板上與所述支撐板吸附孔相對應的位置處具有承載板吸附孔，且所述承載板中，至少用於承載工件的部分的硬度低於所述支撐板的硬度。本實用新型的真空吸附臺包括用於提供真空環境的真空源，以及設在所述真空源上的上述真空吸附臺面。本實用新型可用於在曝光工藝中支撐線路板等。
文檔編號B25H1/08GK201931454SQ20102066859
公開日2011年8月17日 申請日期2010年12月9日 優先權日2010年12月9日
發明者朱興華, 蘇新虹 申請人:北大方正集團有限公司