基板溼式設備的製作方法

2023-06-30 09:19:56

專利名稱：基板溼式設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種溼式設備，特別是涉及一種用於基板刻蝕及清洗的設備。
背景技術：
液晶顯示器主要是由上、下兩片玻璃基板組成，在玻璃基板的內表面上設有 向液晶層施加電場用的透明電極，為控制電場設有相應的開關器件；為顯示顏色 在其中的一片玻璃基板上設有彩色膜；為使液晶分子沿特定方向取向，在玻璃基 板的內表面製備有金屬膜層，在經過曝光、蝕刻等工序後形成TFT作為開關進行 控制。
對玻璃基板的金屬膜進行蝕刻是液晶顯示元件製造過程中的一項重要步驟， 通常對金屬膜進行蝕刻使用的是溼式刻蝕設備。圖1是現有溼式設備的結構及傳 感器安裝示意圖，圖2是圖1中出口單元部分立體示意圖。請參見圖l和圖2，現 有溼式設備大致由入口單元11、工藝處理單元12、搬送單元13、出口單元14組 成，基板由所述入口單元11送進工藝處理單元12進行刻蝕、水洗、乾燥，然後 通過搬送單元13送至出口單元14，搬送單元13 —般由搬送滾輪102組成。
現有溼式設備出口單元14處一般設置有一光電傳感器101檢測基板位置。請 參見圖3，光電傳感器101得到信號後傳輸到可編程邏輯控制器(PLC) ， PLC 21 對信號進行處理後進入下一步工藝流程。光電傳感器101用於檢測玻璃基板位置， 因此僅在出口單元設置一個。
圖4是現有設備出口單元處基板檢測感應示意圖。請參見圖4，光電傳感器 101用於檢測玻璃基板是否到達位置。搬送單元13主要使用搬送滾輪102搬送， 滾輪分為上下兩邊，其上又帶有圓環0-RING來增加摩擦係數保證搬送順暢。由於 上滾輪是利用重力來增加摩擦係數，從而可能會導致上下滾輪上的圓環錯位而引 起在玻璃基板經過時產生一個剪切力，這樣會引起基板邊角輕微的破損。有些基 板的破損只發生在邊角的微小區域，但是隱藏的基板暗傷可能會對後續工序產生 不可預見的影響，需要儘早發現此類基板。

發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種基板溼式設備，能夠及時檢測溼式刻 蝕設備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題。
本發明為解決上述技術問題而釆用的技術方案是提供一種基板溼式設備，包 括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工 藝處理單元進行溼刻，然後通過搬送單元送至出口單元，其中，所述入口單元或 出口單元的四個邊角處設置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感 器分別和基板的四個邊角對準。
上述的溼式設備，其中，所述四個光電傳感器設置在出口單元，所述四個光 電傳感器串聯在一起。
上述的溼式設備，其中，所述四個光電傳感器設置在入口單元，所述四個光 電傳感器並聯在一起。
上述的溼式設備，其中，所述位置傳感器為光電傳感器。
本發明對比現有技術有如下的有益效果本發明提供的基板溼式設備，通過 在入口單元或出口單元的四個邊角處設置位置傳感器，能夠及時檢測溼式刻蝕設 備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題，避免有缺陷的基板進入後續工序。


圖1是現有溼式設備的結構及傳感器安裝示意圖2是圖1中出口單元部分立體示意圖3是現有傳感器電氣示意圖4是現有設備出口單元處基板檢測感應示意圖5是本發明溼式設備出口單元處基板檢測感應示意圖6是本發明出口單元傳感器串聯示意圖7是本發明入口單元傳感器安裝位置示意圖8是本發明入口單元傳感器並聯示意圖。
圖中
11入口單元 12工藝處理單元 13搬送單元
14出口單元 15基板 21 PLC101光電傳感器 102搬送滾輪
具體實施例方式
下面結合附圖及典型實施例對本發明作進一步說明。
圖5是本發明溼式設備出口單元處基板檢測感應示意圖。
請參見圖1和圖5，本發明的溼式設備包括入口單元11、工藝處理單元12、 搬送單元13及出口單元14，基板15由所述入口單元11送進工藝處理單元12進 行溼刻，然後通過搬送單元13送至出口單元14，其中，所述出口單元14的四個 邊角處設置有位置傳感器，位置傳感器可以選用光電傳感器101。當基板15放置 在出口單元時，所述四個光電傳感器101分別和基板15的四個邊角對準。
基板15 —般由玻璃製成，搬送單元13 —般由搬送滾輪102組成，滾輪上一 般還設置有圓環來增加摩擦係數保證搬送順暢，從而可能引起基板邊角輕微的破 損。在設備出口單元14設置四個邊角玻璃檢測傳感器101，可以檢測到大於2MM 以上的基板破損。由於現有出口單元一般有一光電傳感器101檢測檢測基板位置， 光電傳感器101得到信號後傳輸到PLC21， PLC 21對信號進行處理後進入下一步 工藝流程。為了與現有工藝相兼容，可將原位置傳感器放置在一個邊角，另外在 追加三個光電傳感器，當基板15放置其中時，保證所述四個位置傳感器分別和基 板15的四個邊角對準。其中，四個傳感器101串聯在一起，請參見圖6，這樣只 有在所有傳感器都檢測到玻璃基板時才會將整個迴路接通，發出OK信號，傳輸到 PLC 21後進入下一步工藝流程。
圖7是本發明入口單元傳感器安裝位置示意圖，圖8是本發明入口單元傳感 器並聯示意圖。
請參見圖7和圖8，實際生產過程中，出現基板輕微損傷有時不想暫停處理， 因此為了不影響生產效率，本發明可將四個光電傳感器安裝在設備入口單元11， 可以提前檢測到玻璃基板破損，節約工藝時間。此時電氣接入也改變為並聯，出 現基板邊角損傷時，PLC21僅僅進行記錄或報警，基板繼續進入後續工藝處理。
雖然本發明已以較佳實施例揭示如上，然其並非用以限定本發明，任何本領 域技術人員，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的修改和完善，因此 本發明的保護範圍當以權利要求書所界定的為準。
權利要求
1、一種基板溼式設備，包括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工藝處理單元進行溼刻，然後通過搬送單元送至出口單元，其特徵在於，所述入口單元或出口單元的四個邊角處設置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感器分別和基板的四個邊角對準。
2、 如權利要求l所述的溼式設備，其特徵在於，所述四個光電傳感器設置 在出口單元，所述四個光電傳感器串聯在一起。
3、 如權利要求1所述的溼式設備，其特徵在於，所述四個光電傳感器設置 在入口單元，所述四個光電傳感器並聯在一起。
4、 如權利要求1、 2或3所述的溼式設備，其特徵在於，所述位置傳感器 為光電傳感器。
全文摘要
本發明涉及一種基板溼式設備，包括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工藝處理單元進行溼刻，然後通過搬送單元送至出口單元，其中，所述入口單元或出口單元的四個邊角處設置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感器分別和基板的四個邊角對準。本發明提供的基板溼式設備，能夠及時檢測溼式刻蝕設備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題。
文檔編號C23F1/08GK101619456SQ20091005553
公開日2010年1月6日 申請日期2009年7月28日 優先權日2009年7月28日
發明者陳宇新 申請人:上海廣電光電子有限公司