有機層沉積裝置、有機發光顯示裝置及其製造方法

2023-06-05 01:24:26 2

專利名稱：有機層沉積裝置、有機發光顯示裝置及其製造方法
技術領域：
本發明的實施例的多個方面涉及一種有機層沉積裝置、一種通過使用該有機層沉積裝置製造有機發光顯示裝置的方法以及一種有機發光顯示裝置。
背景技術：
與其它顯示裝置相比，有機發光顯示裝置具有更大的視角、更好的對比度性能和更快的響應速度，因此有機發光顯示裝置作為下一代顯示裝置而備受關注。通常，有機發光顯示裝置具有堆疊結構，該堆疊結構包括陽極、陰極及置於陽極和陰極之間的發射層。當分別從陽極和陰極注入的空穴和電子在發射層複合而因此發射光時，該裝置顯示彩色圖像。然而，使用這種結構難以實現高的發光效率。因此，可在發射層和每個電極之間額外地設置包括電子注入層、電子傳輸層、空穴傳輸層、空穴注入層等的中間層。

發明內容
根據本發明實施例的多個方面，有機層沉積裝置易於製造，並且該有機層沉積裝置可簡單應用於大規模製造大尺寸的顯示裝置，提高生產產率和沉積效率，並且具有改進的基底傳送的精確度。根據本發明實施例的另外方面，提供了一種通過利用上述的有機層沉積裝置製造的有機發光顯示裝置的製造方法以及一種有機發光顯示裝置。根據本發明的實施例，一種用於在 基底上形成有機層的有機層沉積裝置包括:沉積源，用於排放沉積材料；沉積源噴嘴單元，布置在沉積源的一側並包括多個沉積源噴嘴；圖案縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地布置並包括多個圖案縫隙；靜電吸盤，基底能夠附於靜電吸盤並能夠從靜電吸盤拆卸；吸盤移動構件，與靜電吸盤組合併被構造為使靜電吸盤移動；以及引導構件，引導吸盤移動構件的移動。吸盤移動構件包括第一磁力發生器。引導構件包括與第一磁力發生器對應的第二磁力發生器。吸盤移動構件由於第一磁力發生器和第二磁力發生器產生的磁力而能夠在引導構件上移動。基底與圖案縫隙片分隔開，並且基底和圖案縫隙片中的至少一個能夠相對於另一個移動。圖案縫隙片在第一方向或垂直於第一方向的第二方向中的至少一個方向上小於基底。第一磁力發生器中的每個可包括位於吸盤移動構件中的一個吸盤移動構件的表面上的多個磁體。在磁體軌道中，磁體可沿布置成行並且所述多個磁體中的相鄰的磁體具有不同的極性。所述多個磁體可包括電磁體、永磁體或超導磁體。第二磁力發生器中的每個可包括:多個磁輥，與磁體軌道分隔開；軸，連接所述多個磁輥；以及軸固定單元，將軸固定在引導構件上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。所述多個磁輥可包括沿軸的長度方向螺旋纏繞的多個磁體。在所述多個磁輥中，相鄰的磁體可具有不同的極性。當磁輥旋轉時，磁輥產生的第一磁場可改變，以使吸盤移動構件在引導構件上移動，吸盤移動構件均包括磁體軌道。第二磁力發生器中的每個還可包括用於使軸旋轉的驅動單元。第一磁力發生器中的每個可包括:多個磁輥；軸，連接所述多個磁輥；以及軸固定單元，將軸固定在引導構件上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。所述多個磁輥可包括沿軸的長度方向螺旋纏繞的多個磁體。在所述多個磁輥中，相鄰的磁體可具有不同的極性。第二磁力發生器中的每個可包括位於吸盤移動構件的表面上的多個磁體，所述多個磁棍與磁體軌道分隔開。在磁鐵軌道中，磁體可沿布置成行，並且所述多個磁體中的相鄰的磁體可具有不同的極性。

所述多個磁體可包括電磁體、永磁體或超導磁體。當磁輥旋轉時，磁輥產生的第一磁場可改變第二磁場，第二磁場可改變，成使吸盤移動構件在引導構件上移動，吸盤移動構件均包括磁體軌道。第一磁力發生器中的每個還可包括用於使軸旋轉的驅動單元。驅動單元可位於吸盤移動構件的每個上，並且與相應的吸盤移動構件一起在相應的引導構件上移動。所述有機層沉積裝置還可包括位於吸盤移動構件中的每個與引導構件中的相應的弓I導構件之間的線性運動(LM)引導件。LM引導件中的每個可包括:引導塊,位於吸盤移動構件中的相應的吸盤移動構件上；引導軌道，位於引導構件中的相應的引導構件上，引導塊可在引導軌道上可移動。所述有機層沉積裝置還可包括:裝載單元，用於將基底附於靜電吸盤上；以及卸載單元，用於從靜電吸盤拆卸已經執行過沉積的基底。圖案縫隙片可小於基底。沉積源噴嘴單元可包括沿一個方向布置的多個沉積源噴嘴，並且圖案縫隙片的所述多個圖案縫隙可沿垂直於所述一個方向的另一方向布置。根據本發明的另一實施例，一種利用所述有機層沉積裝置製造的有機發光顯示裝置包括:基底；以及至少一個有機層，通過利用所述有機層沉積裝置形成在基底上。所述至少一個有機層具有線形圖案。所述至少一個有機層可包括發射層。所述至少一個有機層可包括從由空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層組成的組中選擇的至少一層。所述至少一個有機層可具有非均勻的厚度。根據本發明的另一實施例，一種有機發光顯示裝置包括至少一個有機層，所述至少一個有機層具有非均勻的厚度並通過利用所述有機層沉積裝置形成。
根據本發明的另一實施例，一種製造有機發光顯示裝置的方法包括:將基底固定到靜電吸盤上；將靜電吸盤與吸盤移動構件結合；通過使吸盤移動構件在引導構件上移動來將靜電吸盤移動到室中；以及通過使布置在室中的基底或有機層沉積組件中的至少一個相對於另一個移動來在基底上形成有機層。吸盤移動構件由於磁力而在引導構件上移動，基底與有機層沉積組件分隔開。有機層沉積組件的圖案縫隙片在第一方向或垂直於第一方向的第二方向中的至少一個方向上小於基底。吸盤移動構件中的每個可包括位於其表面上的第一磁力發生器，引導構件中的每個可包括位於其表面上且與第一磁力發生器中的一個對應的第二磁力發生器。第一磁力發生器中的每個可包括磁體軌道，磁體軌道包括多個磁體。第二磁力發生器中的每個可包括:多個磁輥，與磁體軌道分隔開；軸，連接所述多個磁輥；以及軸固定單元，將軸固定在相應的引導軌道上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。
使靜電吸盤移動的步驟可包括:通過利用驅動單元產生驅動力，以使軸旋轉，並且當軸旋轉時，磁棍旋轉以產生第一電場，並且吸盤移動構件在由於第一磁場和磁體之間的磁力而在引導構件上移動。


通過參照附圖來詳細描述本發明的一些示例性實施例，本發明的以上和其它特徵和方面將變得更加清楚，在附圖中:圖1是根據本發明實施例的有機層沉積裝置的示意圖；圖2是根據本發明實施例的圖1中的有機層沉積裝置的靜電吸盤的示意性剖視圖，其中，靜電吸盤具有附於其的基底；圖3是根據本發明實施例的包括在圖1中的有機層沉積裝置中的第一運送單元和第一有機層沉積組件的透視圖；圖4是圖3中的第一運送單元和第一有機層沉積組件的正視圖；圖5是根據本發明實施例的包括在圖1中的有機層沉積裝置中的吸盤移動構件和引導構件的透視圖；圖6是根據本發明另一實施例的包括在有機層沉積裝置中的第一運送單元和第一有機層沉積組件的透視圖；圖7是包括在圖6中的有機層沉積裝置中的第一運送單元的正視圖；圖8是包括在圖6中的有機層沉積裝置中的第一運送單元的側視圖；圖9是根據本發明實施例的包括在圖6中的有機層沉積裝置中的吸盤移動構件和引導構件的透視圖；圖10是根據本發明實施例的圖1中的有機層沉積裝置的有機層沉積組件的示意性透視圖；圖11是圖10中的有機層沉積組件的示意性剖視側面圖；圖12是圖10中的有機層沉積組件的示意性剖視平面圖；圖13是根據本發明另一實施例的有機層沉積組件的示意性透視圖；圖14是根據本發明另一實施例的有機層沉積組件的示意性透視圖15是根據本發明實施例的使用有機層沉積裝置製造的有源矩陣有機發光顯示裝置的剖視圖；圖16是示出根據本發明實施例的以等間隔形成在有機層沉積組件的圖案縫隙片中的圖案縫隙的俯視圖；和圖17是示出根據本發明實施例的使用圖16中的圖案縫隙片在基底上形成的有機層的剖視側面圖。
具體實施例方式在下文中，參照附圖更詳細地描述本發明的一些示例性實施例；然而，本發明的實施例可以以不同的形式來實施，並不應該被理解為限於在此示出和闡述的示例性實施例。相反，以示例的方式提供這 些示例性實施例是為了理解本發明，並將本發明的範圍傳達給本領域技術人員。如本領域技術人員將認識到的，在均未脫離本發明的精神或範圍的情況下可以以各種方式修改描述的實施例。圖1是根據本發明實施例的有機層沉積裝置的示意圖。參照圖1，有機層沉積裝置包括裝載單元710、沉積單元730、卸載單元720、第一運送單元610和第二運送單元620。在一個實施例中，裝載單元710可包括第一支架712、運輸機器人714、運輸室716和第一倒置室718。其上未塗覆沉積材料的多個基底500堆疊在第一支架712上。運輸機器人714從第一支架712拾取基底500中的一個，將其放置在由第二運送單元620傳送的靜電吸盤600上，然後將其上具有基底500的靜電吸盤600移動至運輸室716中。第一倒置室718與運輸室716相鄰設置。在一個實施例中，設置在第一倒置室718中的第一倒置機器人719將其上具有基底500的靜電吸盤600倒置，然後將吸盤其裝載到沉積單元730的第一運送單元610上。參照圖2，在一個實施例中，靜電吸盤600可包括嵌入在由陶瓷形成的主體601中的電極602，其中，對電極602供電。當對電極602施加高電壓時，基底500附於主體601的
表面上。參照圖1，運輸機器人714將基底500中的一個放置在靜電吸盤600的上表面上，然後其上放置有基底500的靜電吸盤600被裝載到運輸室716中。第一倒置機器人719將靜電吸盤600倒置，使得在沉積單元730中基底500被翻轉成面朝下。在一個實施例中，卸載單元720被構成為以與上述的裝載單元710的操作方式相反的方式進行操作。在一個實施例中，第二倒置室728中的第二倒置機器人729將已經穿過沉積單元730的其上具有基底500的靜電吸盤600倒置，然後使其上具有基底500的靜電吸盤600移動至噴射室726中。然後，噴射機器人724將其上具有基底500的靜電吸盤600從噴射室726移開，將基底500與靜電吸盤600分離，隨後將基底500裝載在第二支架722上。與基底500分離的靜電吸盤600經第二運送單元620返回至裝載單元710。然而，本發明不限於上面的描述。例如，在另一實施例中，當基底500最初被放置在靜電吸盤600上時，基底500可被固定在靜電吸盤600的底表面上，然後被移動至沉積單元730中。在這種情況下，例如，不需要第一倒置室718和第一倒置機器人719以及第二倒置室728和第二倒置機器人729。
沉積單元730可包括至少一個沉積室。參照圖1，沉積單元730可包括第一室731，第一至第四有機層沉積組件100、200、300和400設置在第一室731中。儘管圖1示出了總共四個有機層沉積組件(即，第一至第四有機層沉積組件100至400)安裝在第一室731中，但是例如根據沉積材料和沉積條件，可安裝在第一室731中的有機層沉積組件的總數量可改變。第一室731在沉積工藝期間保持在真空狀態下。在第一實施例中，其上具有基底500的靜電吸盤600可通過第一運送單元610被至少移動至沉積單元730，或者可被順序移動至裝載單元710、沉積單元730和卸載單元720。當基底500通過卸載單元720與靜電吸盤600分離時，靜電吸盤600通過第二運送單元620移回至裝載單元710。圖3是根據本發明實施例的包括在圖1中的有機層沉積裝置中的第一運送單元610和第一有機層沉積組件100的透視圖。圖4是圖3中的第一運送單元和第一有機層沉積組件的正視圖。為了清晰的目的，在圖3中未示出第一室731。圖5是根據本發明實施例的包括在圖1中的有機層沉積裝置中的吸盤移動構件230和引導構件221的透視圖。參照圖3至圖5，有機層沉積裝置包括第一運送單元610和第一有機層沉積組件100。在一個實施例中，第一有機層沉積組件100包括沉積源110、沉積源噴嘴單元120和圖案縫隙片150。沉積源110包括:坩堝111，填充有沉積材料115 ;加熱器112，加熱坩堝111以朝向沉積源噴嘴單元120蒸發容納在坩堝111中的沉積材料115。沉積源噴嘴單元120設置在沉積源110的一側。在一個實施例中，沉積源噴嘴單元120包括沿一方向(例如，Y軸方向)布置的多個沉積源噴嘴121。圖案縫隙片150和框架155進一步設置在沉積源110和基底500之間。圖案縫隙片150包括沿一方向(例如，X軸方向)布置的多個圖案縫隙151。在一個實施例中，沉積源110、沉積源噴嘴單元120和圖案縫隙片150可作為分開的單元形成在沉積單元730中。對此在後面進行進一步描述。現在將更詳細地 描述第一運送單元610。第一運送單元610通過利用吸盤移動構件230來移動固定基底500的靜電吸盤600。在一個實施例中，第一運送單元610包括框架211、一個或多個片支撐單元215、引導構件221、第二磁力發生器240、線性運動(LM)引導件220和吸盤移動構件230。框架211包括下板213和上板217。片支撐單元215形成在框架211的內部。引導構件221形成在框架211上。第二磁力發生器240分別位於引導構件221的側面。LM引導件220中的每個設置在引導構件221中的一個與吸盤移動構件230中的一個之間。吸盤移動構件230中的每個與靜電吸盤600結合，並且包括被定位成分別與第二磁力發生器240對應的第一磁力發生器231中的一個。靜電吸盤600和吸盤移動構件230可經夾具250而相互組合或相互分離。這將在下面進行更詳細地描述。框架211用作第一運送單元610的底座(base)，並形成為具有大體上中空的盒子形狀。下板213形成框架211的下表面，並且沉積源110可設置在下板213上。上板217形成框架211的上表面並可具有開口 217a，在沉積源110中蒸發的沉積材料115可經開口217a穿過圖案縫隙片150，然後沉積在基底500上。框架211的這些構件可被單獨地製造，然後相互組合，或者可被一體地製造。儘管未示出，但是其上設置有沉積源110的下板213可以以匣盒形狀形成，從而下板213可與框架211分開。因此，可用另一沉積源容易地更換沉積源110。每個片支撐單元215可從框架211的內側表面突出並支撐圖案縫隙片150。片支撐單元215可引導通過多個沉積源噴嘴121排出的沉積材料115直線移動(例如，不沿X軸方向流動)。儘管未示出，在另一實施例中，片支撐單元可從引導構件221的內側表面突出並支撐圖案縫隙片150。在一個實施例中，引導構件221形成在上板217上。引導構件221被安裝成使基底500穿過沉積單元730的第一室731。引導構件221形成為沿一個方向(例如，Y軸方向)伸長並在一個方向(例如，Y軸方向)上相互對稱的一對引導構件。引導構件221提供吸盤移動構件230的移動路徑。在一個實施例中，引導構件221的上表面為大致平坦的表面，並且吸盤移動構件230分別設置在引導構件221上。LM引導件220的每個可設置在引導構件221中的一個和吸盤移動構件230中的一個之間，這裡稍後對此進行進一步描述。在一個實施例中，第二磁力發生器240中的每個設置在引導構件221中的一個引導構件的外側表面上。第一磁力發生器231可分別設置在吸盤移動構件230上以對應於第二磁力發生器240。由於第一磁力發生器231和第二磁力發生器240產生的磁力，吸盤移動構件230在引導構件221上移動。具體地講，第一磁力發生器231中的每個設置在吸盤移動構件230中的一個吸盤移動構件的表面上，以與第二磁力發生器240中的一個對應。在每個第一磁力發生器231中，多個磁體2311在吸盤移動構件230的移動方向(例如，Y軸方向)上成行布置。在一個實施例中，每個磁體2311被布置成具有與相鄰於其的磁體的極性不同的極性。在一個實施例中，如果磁體2311中的磁體231a具有朝向對應的第二磁力發生器240的N極，則磁體2311中的與磁體231a相鄰的磁體231b具有朝向對應的第二磁力發生器240的S極，並且磁體2311中的與磁體231b相鄰的磁體231c具有朝向對應的第二磁力發生器240的N極。即，在第一磁力發生器231中 ，磁體231a、231b和231c可成行布置以分別具有例如N極、S極和N極。磁體2311可為電磁體、永磁體或超導磁體。在一個實施例中，每個第二磁力發生器240可包括多個磁輥241、軸242和軸固定單元243。在一個實施例中，每個磁輥241包括螺旋纏繞的多個磁體241a和241b。磁體241a和241b沿吸盤移動構件230的移動方向(例如，Y軸方向)纏繞。在一個實施例中，相鄰的磁體241a和241b具有不同的極性。即，如果磁體241a具有朝向外側的N極，則與磁體241a相鄰的磁體241b具有朝向外側的S極。軸242連接多個磁輥241。多個磁輥241沿吸盤移動構件230的移動方向(例如，Y軸方向)設置成相互分隔開。軸242連接沿吸盤移動構件230的移動方向(例如，Y軸方向)布置的多個磁輥241。軸242將驅動單元(未示出)產生的驅動力傳遞給多個磁輥241。在一個實施例中，軸242的一端連接到驅動單元，驅動單元使軸242繞著沿軸242的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。連接到軸242的多個磁輥241與軸242 —起繞著沿軸242的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。軸固定單元243將軸242固定在對應的引導構件221的側面。軸固定單元243具有通孔(未示出)，軸242可穿過通孔並在通孔中旋轉。軸固定單元243可與磁輥241設置為彼此隔開的位置所暴露的軸242結合，並且可設置在對應的引導構件221的外側表面上。每個LM引導件220可設置在吸盤移動構件230中的一個與引導構件221中的一個之間。在一個實施例中，LM引導件220包括成對的引導軌道223和成對的引導塊225，其中，成對的引導軌道223中的每個設置在引導構件221中的一個引導構件的表面上，成對的引導塊225中的每個設置在吸盤移動構件230中的一個吸盤移動構件的表面上。引導塊225分別插入到引導軌道223中，並且在引導軌道223上往復移動。成對的LM軌道可被用作成對的弓I導軌道223，成對的LM塊可被用作成對的引導塊225，從而形成LM系統。由於與傳統的滑動引導系統相比，此LM系統具有低摩擦係數和低定位誤差，所以此LM系統是提供非常高的定位精確度的傳送系統。在本說明書中，不再提供對LM系統的詳細描述。現在將參照圖5更詳 細地描述在引導構件221上移動的吸盤移動構件230的操作。吸盤移動構件230由於第一磁力發生器231和第二磁力發生器240產生的磁力而在引導構件221上移動。在一個實施例中，每個第二磁力發生器240設置在對應的引導構件221的外側表面上，並包括多個磁輥241和連接多個磁輥241的軸242。軸242連接到驅動單元並將驅動單元產生的旋轉力傳遞至多個磁棍241。因此,磁棍241繞著沿軸242的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。多個磁輥241包括如上所述的螺旋成形的磁體241a和241b。當磁輥241旋轉時，磁體241a和241b產生電場，然後產生的電場螺旋移動。當電場移動時，包括磁體231a、231b和231c的吸盤移動構件230在引導構件221上移動。圖6是根據本發明另一實施例的包括在有機層沉積裝置中的第一運送單元610』和第一有機層沉積組件100的透視圖。圖7是包括在圖6中的有機層沉積裝置中的第一運送單元610』的正視圖。圖8是包括在圖6中的有機層沉積裝置中的第一運送單元610』的側視圖。圖9是包括在圖6中的有機層沉積裝置中的吸盤移動構件330和引導構件322的透視圖。參照圖6至圖8，根據本發明另一實施例的有機層沉積裝置包括第一運送單元610』和第一有機層沉積組件100。參照圖6，有機層沉積組件100包括沉積源110、沉積源噴嘴單元120和圖案縫隙片組件150。這些構件如以上參照圖3所描述的，因此，將不再重複進一步的描述。第一運送單元610』通過利用吸盤移動構件330來移動支撐基底500的靜電吸盤600。在一個實施例中，第一運送單元610』包括框架211、一個或多個片支撐單元215、引導構件321、輔助引導構件322、第二磁力發生器331、LM引導件220和吸盤移動構件330。框架211包括下板213和上板217。片支撐單元215形成在框架211內。引導構件321和輔助引導構件322形成在框架211上。第二磁力發生器331分別位於輔助引導構件322上。每個LM引導件220設置在引導構件321中的一個與吸盤移動構件330中的一個之間。每個吸盤移動構件330與靜電吸盤600結合，並包括定位成分別與第二磁力發生器331對應的第一磁力發生器340中的一個。下面更詳細對此加以描述。在一個實施例中，引導構件321可形成在上板217上，輔助引導構件322可分別形成在引導構件321的外側表面上。引導構件321和輔助引導構件322安裝成使基底500穿過圖1中的沉積單元730的第一室731。引導構件321和輔助引導構件322形成為沿一個方向(例如，Y軸方向)伸長並在一個方向(例如，Y軸方向)上相互對稱。引導構件321提供吸盤移動構件330的移動路徑。第二磁力發生器331可分別形成在輔助引導構件322上。在一個實施例中，引導構件321的上表面為大致平坦的表面，吸盤移動構件330分別設置在引導構件321上。每個LM引導件220可設置在引導構件321中的一個和吸盤移動構件330中的一個之間。這裡稍後對此進一步予以描述。輔助引導構件322可分別設置在引導構件321的外側表面上。引導構件321和輔助引導構件322可被分開地或一體地製造。每個第二磁力發生器331可設置在輔助引導構件322中的一個輔助引導構件的表面上，以與第一磁力發生器340對應。每個第一磁力發生器340可設置在吸盤移動構件330中的一個上，以與第二磁力發生器331中的一個對應。吸盤移動構件330由於第一磁力發生器340和第二磁力發生器331產生的磁力而在引導構件321上移動。在一個實施例中，每個第二磁力發生器331設置在輔助引導構件322中的一個輔助引導構件的表面上，以與第一磁力發生器340中的一個對應。在第二磁力發生器331的每個中，多個磁體3311沿吸盤移動構件330的移動方向(例如，Y軸方向)布置成行。在一個實施例中，每個磁體3311被布置成具有與相鄰於其的磁體的極性不同的極性。在一個實施例中，如果磁體3311中的磁體331a具有朝向對應的第一磁力發生器340的N極，則磁體3311中的與磁體331a相鄰的磁體331b具有朝向對應的第一磁力發生器340的S極，並且磁體3311中的與磁體331b相鄰的磁體331c具有朝向對應的第一磁力發生器340的N極。即，在第二磁力發生器3 31中，磁體331a、331b和331c可成行布置，以分別具有例如N極、S極和N極。磁體3311可為電磁體、永磁體或超導磁體。在一個實施例中，每個第一磁力發生器340可包括多個磁輥341、軸342和軸固定單元343。在一個實施例中，每個磁輥341包括螺旋纏繞的多個磁體341a和341b。磁體341a和341b沿吸盤移動構件330的移動方向(例如，Y軸方向)纏繞。在一個實施例中，相鄰的磁體341a和341b具有不同的極性。即，如果磁體341a具有朝向外側的N極，則與磁體341a相鄰的磁體341b具有朝向外側的S極。軸342連接多個磁輥341。在一個實施例中，多個磁輥341被設置成沿吸盤移動構件330的移動方向(例如，Y軸方向)相互分隔開。軸342連接沿吸盤移動構件330的移動方向(例如，Y軸方向)布置的多個磁輥341。軸342將驅動單元360產生的驅動力傳遞給多個磁輥341。在一個實施例中，軸342的一端連接到驅動單元360，驅動單元360使軸342繞著沿軸342的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。連接到軸342的多個磁輥341與軸342 —起繞著沿軸342的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。軸固定單元343將軸342固定在對應的吸盤移動構件330的一側。軸固定單元343具有通孔(未示出)，軸342可穿過通孔並在通孔中旋轉。軸固定單元343可與在彼此分開設置的相鄰的磁輥341之間暴露的軸342結合，並且可設置在對應的吸盤移動構件330的表面(例如，下表面)上。每個LM引導件220可設置在吸盤移動構件330中的一個和引導構件321中的一個之間。在一個實施例中，LM引導件220包括成對的引導軌道223和成對的引導塊225，其中，成對的引導軌道223中的每個設置在引導構件321中的一個引導構件的一個表面上，成對的引導塊225中的每個設置在吸盤移動構件330中的一個吸盤移動構件的一個表面上。引導塊225分別插入到引導軌道223中，並在引導軌道223上往復移動。成對的LM軌道可用作成對的引導軌道223，成對的LM塊可用作成對的引導塊225，從而形成LM系統。由於與傳統的滑動引導系統相比，此LM系統具有低摩擦係數和低定位誤差，所以此LM系統是提供非常高的定位精確度的傳送系統。在本說明書中，不再提供對LM系統的詳細描述。現在將參照圖9更詳細地描述在引導構件321上移動的吸盤移動構件330的操作。吸盤移動構件330由於第一磁力發生器340和第二磁力發生器331產生的磁力而在引導構件321上移動。在一個實施例中，每個第一磁力發生器340設置在對應的吸盤移動構件330的一個表面上，並包括多個磁輥341、連接多個磁輥341的軸342和產生旋轉力的驅動單元360。軸342連接到驅動單元360並將驅動單元360產生的旋轉力傳遞至多個磁輥341。因此，磁輥341繞著沿軸342的長度方向(例如，Y軸方向)延伸的軸旋轉。當磁輥341旋轉時，磁體341a和341b產生電場，然後產生的電場螺旋移動。當電場移動時，吸盤移動構件330在包括磁體331a·、331b和331c的輔助引導構件322和引導構件321上移動。在圖6至圖9中示出的有機層沉積裝置中，驅動單元360附於吸盤移動構件330，因此可獨立地控制吸盤移動構件330。此外，多個磁體331a、331b和331c在輔助引導構件322上成行布置，因此，吸盤移動構件330可在引導構件321上穩定地移動。參照圖10至圖12，根據本發明實施例的有機層沉積裝置的有機層沉積組件700包括沉積源110、沉積源噴嘴單元702、阻擋板組件130和圖案縫隙片150。儘管為了清晰的目的，在圖10至圖12中未示出室，但是有機層沉積組件700的組件可設置在保持在適當的真空度下的室內。室保持在適當的真空度下，從而使沉積材料115沿基本上直線移動穿過有機層沉積組件700。在室中，由靜電吸盤600傳送作為沉積目標基底的基底500，例如圖1所示。基底500可為用於平板顯示器的基底。可使用用於製造多個平板顯示器的大基底(例如，母玻璃)作為基底500。然而，也可以採用其它基底。在一個實施例中，基底500可相對於有機層沉積組件700移動。例如，在一個實施例中，如圖10所示，基底500可相對於有機層沉積組件700沿箭頭A的方向移動。在使用精細金屬掩模(FMM)的傳統沉積方法中，FMM的尺寸不得不大於或等於基底的尺寸。因此，FMM的尺寸不得不隨著基底的變大而增大。然而，既不容易製造大的FMM也很難使FMM延伸成與精細圖案精確地對齊。為了解決這個問題，在根據本發明實施例的有機層沉積組件700中，可在有機層沉積組件700和基底500中的至少一個相對於另一個移動的同時執行沉積。在一個實施例中，可在設置成面向有機層沉積組件700的基底500沿一方向(例如，Y軸方向)移動的同時連續執行沉積。即，可在基底500沿圖10中的箭頭A的方向移動的同時以掃描的方式執行沉積。儘管當執行沉積時，基底500被示出為沿Y軸方向在室(見圖1中的室731)內移動，但是本發明實施例的多個方面不限於此。例如，在另一實施例中，當基底500被固定時，可在有機層沉積組件700沿Y軸方向移動的同時執行沉積。因此，在有機層沉積組件700中，圖案縫隙片150可明顯小於在傳統沉積方法中使用的FMM。在有機層沉積組件700中，在基底500沿Y軸方向移動的同時可連續(S卩，以掃描方式)執行沉積。因此，在一個實施例中，只要圖案縫隙片150在X軸方向上的寬度和基底500在X軸方向上的寬度彼此基本相等，圖案縫隙片150在Y軸方向上的長度可明顯小於基底500的長度。然而，在另一實施例中，即使當圖案縫隙片150在X軸方向上的寬度小於基底500在X軸方向上的寬度時，也可以在基底500或有機層沉積組件700相對於另一個移動的同時以掃描方式對整個基底500執行沉積。如上所述，由於圖案縫隙片150可形成為明顯小於傳統沉積方法中使用的FMM，所以製造圖案縫隙片150是相對容易的。換言之，與使用較大的FMM的傳統沉積方法相比，在包括蝕刻和其它後續處理(諸如精確延伸、焊接、移動和清洗處理)的全部處理中，使用小於傳統沉積方法中使用的FMM的圖案縫隙片150則更為方便。這在製造相對大的顯示裝置方面是有優勢的。為了如上所述在有機層沉積組件700或基底500相對另一個移動的同時執行沉積，有機層沉積組件700和基底500可相互分開一定的距離(例如，預定的距離)。對此將在後面進行進一步描述。容納並加熱沉積材料115的沉積源110設置在室中的與設置基底500的一側相對的一側。 沉積源110包括填充有沉積材料115的坩堝111和加熱坩堝111的加熱器112。沉積源噴嘴單元702設置在沉積源110的一側，具體地講，設置在沉積源110的面向基底500的一側。在一個實施例中，沉積源噴嘴單元702包括多個沉積源噴嘴703，所述多個沉積源噴嘴703沿一方向(例如，X軸方向)以等間隔布置。在沉積源110中蒸發的沉積材料115朝向作為沉積目標基底的基底500穿過沉積源噴嘴單元702的沉積源噴嘴703。阻擋板組件130設置在沉積源噴嘴單元702的一側。在一個實施例中，阻擋板組件130包括多個阻擋板131和覆蓋阻擋板131的側面的阻擋板框架132。在一個實施例中，多個阻擋板131可沿X軸方向等間距地相互平行地布置。每個阻擋板131可平行於圖10中的Y-Z面布置，並且可具有大體上矩形的形狀。如上所述布置的多個阻擋板131將沉積源噴嘴單元702和圖案縫隙片150之間的沉積空間劃分成多個子沉積空間S。如圖12所示，在有機層沉積組件700中，沉積空間被阻擋板131劃分成分別與沉積源噴嘴703對應的子沉積空間S，其中，通過沉積源噴嘴703排放沉積材料115。阻擋板131可分別設置在相鄰的沉積源噴嘴703之間。換言之，每個沉積源噴嘴703可設置在兩個相鄰的阻擋板131之間。在一個實施例中，沉積源噴嘴703可分別位於兩個相鄰的阻擋板131之間的相應的中點處。然而，本發明不限於這種結構。例如，在另一實施例中，多個沉積源噴嘴703可設置在兩個相鄰的阻擋板131之間。在這種情況下，多個沉積源噴嘴703也可以分別位於兩個相鄰的阻擋板131之間的中點處。由於如上所述，阻擋板131將沉積源噴嘴單元702和圖案縫隙片150之間的沉積空間劃分成多個子沉積空間S，所以通過每個沉積源噴嘴703排放的沉積材料115不與通過其它沉積源噴嘴703排放的沉積材料混合，並穿過多個圖案縫隙151以沉積在基底500上。換言之，阻擋板131引導通過沉積源噴嘴703排放的沉積材料115直線移動，並且不沿X軸方向流動。如上所述，通過安裝阻擋板131強制沉積材料115直線移動，從而與不安裝阻擋板的情況相比，減少了在基底500上形成的陰影區。因此，有機層沉積組件700和基底500可相互分開一定的距離(例如，預定的距離)，如將在後面進一步所描述的。圖案縫隙片150和框架155設置在沉積源110和基底500之間。框架155的形狀可近似於窗口框架。圖案縫隙片150被束縛在框架155內。圖案縫隙片150包括沿X軸方向布置的多個圖案縫隙151。圖案縫隙151沿Y軸方向延伸。在沉積源110中已經蒸發並穿過沉積源噴嘴703的沉積材料115朝向基底500穿過圖案縫隙151。在一個實施例中，圖案縫隙片150可由金屬薄膜形成並被固定到框架150上，從而張力被施加在圖案縫隙片150上。可通過將圖案縫隙片150蝕刻成條紋圖案來形成圖案縫隙151。圖案縫隙151的數量可等於將形成在基底500上的沉積圖案的數量。阻擋板組件130和圖案縫隙片150可設置成相互分開預定的距離。可選擇地，阻擋板組件130和圖案縫隙片150可通過連接構件135連接。如上所述，根據本發明實施例的有機層沉積組件700在相對於基底500移動的同時執行沉積。為了使有機層沉積組件700相對於基底500移動，將圖案縫隙片150與基底500分開距離d(例如，預定的距離)(見圖12)。另外，為了當圖案縫隙片150和基底500被設置成彼此分開時防止或基本防止在基底500上形成相對大的陰影區，在沉積源噴嘴單元702和圖案縫隙片150之間布置阻擋板131，以強制沉積材料115沿直線方向移動。因此，可顯著減小會在基底500上形成的陰影區的尺寸。在使用FMM的傳統沉積方法中，為了防止在基底上形成陰影區，利用與基底緊密接觸的FMM執行沉積。然而，當使用與基底緊密接觸的FMM時，這種接觸會導致缺陷，諸如形成在基底上的圖案上的劃痕。另外，在傳統的沉積方法中，由於掩模不能相對於基底移動，所以掩模的尺寸不得不 與基底的尺寸相同。因此，掩模的尺寸不得不隨著顯示裝置的變大而增大。然而，不容易製造這麼大的掩模。為了解決這個問題，在根據本發明實施例的有機層沉積組件700中，圖案縫隙片150設置成與基底500分開距離d (例如，預定的距離)。通過安裝阻擋板131可有助於減小將在基底500上形成的陰影區的尺寸。如上所述，根據本發明的實施例，掩模形成為小於基底，並且在掩模相對於基底移動的同時執行沉積。因此，可容易製造這種掩模。另外，可防止或基本防止在傳統沉積方法中出現的由於基底和掩模之間的接觸而導致的缺陷。此外，由於在沉積處理過程中不是必須將掩模設置成與基底緊密接觸，所以可縮短製造時間。在一個實施例中，包括在有機層沉積組件700中的沉積源110、沉積源噴嘴單元702和圖案縫隙片150不是一體形成的，而是分開地包括在圖1中的沉積單元730中。因此，沉積源110可容易附於有機層沉積組件700並容易從有機層沉積組件700拆卸，以用沉積材料115填充沉積源110，清洗圖案縫隙片150或用另一圖案縫隙片更換圖案縫隙片150。圖13是根據本發明另一實施例的有機層沉積組件800的示意性透視圖。參照圖13，有機層沉積組件800包括沉積源110、沉積源噴嘴單元702、第一阻擋板組件130、第二阻擋板組件840和圖案縫隙片150。在一個實施例中，沉積源110、第一阻擋板組件130和圖案縫隙片150具有與以上參照圖10所描述的結構相同或相似的結構，因此，將不再重複對它們的進一步描述。有機層沉積組件800與以上參照圖10所描述的有機層沉積組件700的不同之處在於第二阻擋板組件840設置在第一阻擋板組件130的一側。在一個實施例中，第二阻擋板組件840包括多個第二阻擋板841和第二阻擋板框架842，第二阻擋板框架842覆蓋多個第二阻擋板841的側面。在一個實施例中，多個第二阻擋板841可沿X軸方向等間隔地相互平行地設置。另外，多個第二阻擋板841中的每個可形成為在圖13中的Y-Z面(S卩，垂直於X軸方向)延伸。如上所述布置的多個第一阻擋板131和多個第二阻擋板841劃分沉積源噴嘴單元702和圖案縫隙片150之間的沉積空間。多個第一阻擋板131和多個第二阻擋板841將沉積空間劃分成分別對應於沉積源噴嘴703的子沉積空間，其中，通過沉積源噴嘴703排放沉積材料115。多個第二阻擋板841可設置成分別對應於多個第一阻擋板131。換言之，多個第二阻擋板841可分別相對於多個第一阻擋板131對齊。即，每對相應的第一阻擋板131和第二阻擋板841可位於同一平面上。多個第一阻擋板131和多個第二阻擋板841分別被示出為在X軸方向上具有基本相同的厚度，但是本發明實施例的多個方面不限於此。在一個實施例中，與圖案縫隙151精確對齊的第二阻擋板841可形成為相對薄，而不需要與圖案縫隙151精確對齊的第一阻擋板131可形成為相對厚。這使得製造有機層沉積組件800較為容易。圖14是根據本發明另一實施例的有機層沉積組件900的示意性透視圖。參照圖14，有機層沉積組件900包括沉積源910、沉積源噴嘴單元920和圖案縫隙片950。沉積源910包括坩堝911和加熱器912，坩堝911填充有沉積材料915，加熱器912加熱坩堝911以朝向沉積源噴嘴單元920蒸發容納在坩堝911中的沉積材料915。沉積源噴嘴單元920設置在沉積源910的一側。沉積源噴嘴單元920包括沿一方向(例如，Y軸方向)布置的多個沉積源 噴嘴921。圖案縫隙片950和框架955進一步設置在沉積源910和基底500之間。圖案縫隙片950包括沿一方向(例如，X軸方向)布置的多個圖案縫隙951。在一個實施例中，沉積源910和沉積源噴嘴單元920可通過連接構件935連接到圖案縫隙片 950。有機層沉積組件900在包括在沉積源噴嘴單元920中的多個沉積源噴嘴921的布置方面不同於前面描述的實施例。對此將在下面進行更詳細的描述。沉積源噴嘴單元920設置在沉積源910的一側，具體地講，設置在沉積源910的面向基底500的一側。在一個實施例中，沉積源噴嘴單元920包括多個沉積源噴嘴921，所述多個沉積源噴嘴921可沿Y軸方向(即，基底500的掃描方向)等間隔布置。在沉積源910中蒸發的沉積材料915朝向作為沉積目標基底的基底500穿過沉積源噴嘴單元920。如上所述，當沉積源噴嘴單元920包括沿Y軸方向(即，基底500的掃描方向)布置的多個沉積源噴嘴921時，由於只有沿X軸方向的一排沉積源噴嘴921，所以由通過圖案縫隙片950的多個圖案縫隙951中的每個所排放的沉積材料915形成的圖案的尺寸受多個沉積源噴嘴921中的沉積源噴嘴的尺寸的影響。因此，可防止或基本防止在基底500上形成陰影區。另外，由於多個沉積源噴嘴921沿基底500的掃描方向布置，所以即使沉積源噴嘴921之間的流量存在差異，也可以補償這種差異並可保持沉積均勻性恆定。此外，有機層沉積組件900不包括如圖10中所示出的阻擋板組件，從而提高了沉積材料915的利用率。
圖15是根據本發明實施例的通過使用有機層沉積裝置製造的有源矩陣有機發光顯示裝置10的剖視圖。參照圖15，有源矩陣有機發光顯示裝置10形成在基底30上，例如，基底30可為圖1中的基底500。例如，基底30可由諸如玻璃、塑料或金屬的透明材料形成。在一個實施例中，諸如緩衝層的絕緣層31形成在基底30的整個表面上。參照圖15，薄膜電晶體(TFT)40、電容器50和有機發光二極體(OLED)60設置在絕緣層31上。在一個實施例中，半導體有源層41以預定的圖案形成在絕緣層31上，並且柵極絕緣層32形成為覆蓋半導體有源層41。半導體有源層41可包括p型或n型半導體材料。TFT40的柵電極42形成在柵極絕緣層32的與半導體有源層41對應的區域中。層間絕緣層33形成為覆蓋柵電極42。在一個實施例中，柵極絕緣層32和層間絕緣層33被蝕亥Ij(例如，通過幹蝕刻)以形成用於暴露半導體有源層41的部分的接觸孔。源/漏電極43形成在層間絕緣層33上以接觸通過接觸孔暴露的半導體有源層41。在一個實施例中，鈍化層34形成為覆蓋源/漏電極43，並被蝕刻為暴露漏電極43的一部分。額外的絕緣層(未示出)還可以形成在鈍化層34上以使鈍化層34平坦化。當電流流過0LED60時，0LED60通過發射紅光、綠光或藍光來顯示圖像信息(例如，預定的圖像信息)。0LED60包括設置在鈍化層34上的第一電極61。第一電極61電連接到TFT40的漏電極43。像素限定層35形成為覆蓋第一電極61。開口形成在像素限定層35中，包括發射層(未示出)的有機層63形成在由開口限定的區域中。第二電極62形成在有機層63上。限定相應像素的像素限定層35由有機材料形成。像素限定層35使基底30的形成有第一電極61的區域的表面平坦化，具體地講，使鈍化層34的表面平坦化。第一電極61和第二電極62彼此絕緣，並且分別將極性相反的電壓施加到包括發射層的有機層63以引起光發射。有機層63可由低分子量有機材料或高分子量有機材料形成。如果使用低分子量有機材料，則有機層63可具有包括從由空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、發射層(EML)、電子傳輸層(ETL)和電子注入層(EIL)組成的組中選擇的至少一個的單層或多層結構。可用的有機材料的不例可包括銅欽善(CuPc)、N，N』- 二(1-蔡基)-N，N』- 二苯基聯苯胺(NPB)、三-8-羥基喹啉鋁(Alq3)等。在形成有機層63之後，可根據與用於形成有機層63的沉積方法相同的沉積方法形成第二電極62。第一電極61可用作陽極，第二電極62可用作陰極，或反之亦然。第一電極61可被圖案化以與相應的像素區域對應，第二電極62可形成為覆蓋全部像素。第一電極61可形成為透明電極或反射電極。例如，透明電極可由氧化銦錫(IT0)、氧化銦鋅(IZ0)、氧化鋅(ZnO)或氧化銦(In2O3)形成。例如，反射電極可通過由銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(Al)、鉬(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)或它們的化合物形成反射層，然後在反射層上形成ITO、IZO、ZnO或In2O3的透明電極層來形成。可通過形成層(例如，通過濺射)，然後將該層圖案化(例如，通過光刻)來形成第一電極61。
第二電極62也可以形成為透明電極或反射電極。當第二電極62形成為透明電極時，第二電極62用作陰極。可通過在有機層63的表面上沉積具有低逸出功的材料，然後在其上由ITO、IZO、ZnO、In2O3等形成輔助電極層或匯流電極線，從而形成透明電極，其中，具有低逸出功的材料例如為鋰(Li)、鈣(Ca)、氟化鋰/鈣(LiF/Ca)、氟化鋰/鋁(LiF/Al)、鋁(Al)、銀(Ag)、鎂(Mg)或它們的化合物。當第二電極62形成為反射電極時，可通過在有機層63上沉積L1、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或它們的化合物來形成反射層。可根據與用於形成有機層63的沉積方法相同的沉積方法來形成第二電極62。根據本發明的上述實施例的有機層沉積裝置可應用於形成有機TFT的有機層或無機層以及由各種材料形成層。圖16是示出根據本發明實施例的在有機層沉積組件的圖案縫隙片150中以等間隔形成的圖案縫隙151的俯視圖。圖17是示出根據本發明實施例的通過利用圖16中的圖案縫隙片150在基底500上形成的有機層的剖面圖。參照圖16和圖17，圖案縫隙151以等間隔布置在圖案縫隙片150中。S卩，參照圖16，建立11=12=13=14的關係。在這種情況下，沿子沉積空間SA的中心線C穿過的沉積材料具有基本垂直於基底500的入射角。因此，由穿過圖案縫隙151a的沉積材料形成的有機層Pl可具有包括相互對稱的右側陰影區SR1和左側陰影區SL1的最小整體陰影區。然而，穿過遠離子沉積空間SA的中心線C的圖案縫隙的沉積材料會具有較大的臨界入射角0，因此，在一個實施例中，穿過設置在 基底500的端部區域處的圖案縫隙151e的沉積材料會具有大約55°的臨界入射角0#因此，沉積材料進入以一定角度傾斜的圖案縫隙151e，因此通過穿過圖案縫隙151e形成有機層P5，其中，有機層P5具有左側陰影區SL5比右側陰影區SR5寬的最大整體陰影區。換言之，沉積材料的臨界入射角0越大，有機層的整體陰影區越大，具體地講，距離子沉積空間SA的中心線C越遠的有機層的側陰影區越大。另外，沉積材料的臨界入射角0在子沉積空間SA的中心線C與對應的圖案縫隙之間的距離越大處變得越大。因此，子沉積空間SA的中心線C與圖案縫隙之間的距離越大，由已經穿過該圖案縫隙的沉積材料形成的有機層的整體陰影區越大，並且遠離子沉積空間SA的中心線C的有機層的側陰影區比越靠近中心線C的一側的側陰影區大。換言之，參照圖17，對於形成在子沉積空間SA的中心線C的左側的有機層，其向左傾斜的一側比其向右傾斜的一側寬。相反，對於形成在子沉積空間SA的中心線C的右側的有機層，其向右傾斜的一側比其向左傾斜的一側寬。另外，在形成在子沉積空間SA的中心線C的左側的有機層中，與其它有機層相比，位於距離中心線C更左的有機層的向右傾斜的一側比向左傾斜的一側寬。類似地，在形成在子沉積空間SA的中心線C的右側的有機層中，與其它有機層相比，位於距離中心線C更右的有機層的向左傾斜的一側比向右傾斜的一側寬。此外，形成在子沉積空間SA中的有機層關於子沉積空間SA的中心線C對稱。沉積材料以臨界入射角eb穿過圖案縫隙151b以形成包括具有寬度左側陰影區和具有寬度SR2的右側陰影區的有機層p2。類似地，沉積材料以臨界入射角ec穿過圖案縫隙151C以形成包括具有寬度SL3的左側陰影區和具有寬度SR3的右側陰影區的有機層P3。類似地，沉積材料以臨界入射角0d穿過圖案縫隙151d以形成包括具有寬度5匕的左側陰影區和具有寬度SR4的右側陰影區的有機層P4。沉積材料以臨界入射角叭穿過圖案縫隙151e以形成包括具有寬度SL5的左側陰影區和具有寬度SR5的右側陰影區的有機層P5。這裡，建立了 0)3〈0。〈0(1〈06的關係，因此，也滿足了311〈512〈51^〈514〈515的關係，其中，關係SLZSLZSLySLZSI^限定了由已經穿過圖案縫隙151的沉積材料形成的有機層的左側陰影區的寬度之間的關係。如上所述，根據本發明的多個方面的有機層沉積裝置可以容易地製造，並可簡單地應用於大尺寸顯示裝置的大規模生產。根據本發明實施例的有機層顯示裝置改進了基底移動的精確度，提高了生產產率和沉積效率。

儘管已經參照本發明的一些示例性實施例具體地示出和描述了本發明，但是本領域的普通技術人員應該理解，在不脫離由權利要求限定的本發明的精神和範圍的情況下，可以在此做出形式和細節上的各種改變。
權利要求
1.一種用於在基底上形成有機層的有機層沉積裝置，所述有機層沉積裝置包括: 沉積源，用於排放沉積材料； 沉積源噴嘴單元，布置在沉積源的一側並包括多個沉積源噴嘴； 圖案縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地布置並包括多個圖案縫隙； 靜電吸盤，基底能夠附於靜電吸盤並能夠從靜電吸盤拆卸； 吸盤移動構件，與靜電吸盤組合併被構造為使靜電吸盤移動；以及 引導構件，弓丨導吸盤移動構件的移動， 其中，吸盤移動構件包括第一磁力發生器， 其中，引導構件包括與第一磁力發生器對應的第二磁力發生器， 其中，吸盤移動構件由於在第一磁力發生器和第二磁力發生器產生的磁力而能夠在引導構件上移動， 其中，基底與圖案縫隙片分隔開，並且基底和圖案縫隙片中的至少一個能夠相對於另一個移動，以及 其中，圖案縫隙片在第一方向和垂直於第一方向的第二方向中的至少一個方向上小於基底。
2.根據權利要求1所述的有機層沉積裝置，其中，第一磁力發生器中的每個包括位於吸盤移動構件中的一個吸盤移動構件的表面上的多個磁體。
3.根據權利要求2所述的有機層沉積裝置，其中，在磁體軌道中，磁體布置成行並且所述多個磁體中的相鄰的磁體具有不同的極性。
4.根據權利要求2所述的有機層沉積裝置，其中，所述多個磁體包括電磁體、永磁體或超導磁體。
5.根據權利要求2所述的有機層沉積裝置，其中，第二磁力發生器中的每個包括: 多個磁棍，與磁體軌道分隔開； 軸，連接所述多個磁輥；和 軸固定單元，將軸固定在引導構件上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。
6.根據權利要求5所述的有機層沉積裝置，其中，所述多個磁輥包括沿軸的長度方向螺旋纏繞的多個磁體。
7.根據權利要求6所述的有機層沉積裝置，其中，在所述多個磁輥中，相鄰的磁體具有不同的極性。
8.根據權利要求5所述的有機層沉積裝置，其中，當磁輥旋轉時，磁輥產生的第一電場改變，以使吸盤移動構件在引導構件上移動，吸盤移動構件均包括磁體軌道。
9.根據權利要求5所述的有機層沉積裝置，其中，第二磁力發生器中的每個還包括用於使軸旋轉的驅動單元。
10.根據權利要求1所述的有機層沉積裝置，其中，第一磁力發生器中的每個包括: 多個磁輥； 軸，連接所述多個磁輥；和 軸固定單元，將軸固定在引導構件上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。
11.根據權利要求10所述的有機層沉積裝置，其中，所述多個磁輥包括沿軸的長度方向螺旋纏繞的多個磁體。
12.根據權利要求11所述的有機層沉積裝置，其中，在所述多個磁輥中，相鄰的磁體具有不同的極性。
13.根據權利要求10所述的有機層沉積裝置，其中，第二磁力發生器中的每個包括位於吸盤移動構件的表面上的包括多個磁體的磁體軌道，所述多個磁輥與磁體軌道分隔開。
14.根據權利要求13所述的有機層沉積裝置，其中，在磁鐵軌道中，磁體布置成行，並且所述多個磁體中的相鄰的磁體具有不同的極性。
15.根據權利要求13所述的有機層沉積裝置，其中，所述多個磁體包括電磁體、永磁體或超導磁體。
16.根據權利要求13所述的有機層沉積裝置，其中，當磁輥旋轉時，磁輥產生的第一電場改變第二電場，並且第二電場改變，以使吸盤移動構件在引導構件上移動，吸盤移動構件均包括磁體軌道。
17.根據權利要求13所述的有機層沉積裝置，其中，第一磁力發生器中的每個還包括用於使軸旋轉的驅動單元。
18.根據權利要求17所述的有機層沉積裝置，其中，驅動單元位於吸盤移動構件中的每個上，並且與相應的吸盤移動構件一起在相應的引導構件上移動。
19.根據權利要求1所述的有機層沉積裝置，所述有機層沉積裝置還包括位於每個吸盤移動構件與相應的引導構件 之間的線性運動引導件。
20.根據權利要求19所述的有機層沉積裝置，其中，線性運動引導件中的每個包括: 弓I導塊，位於吸盤移動構件中的相應的吸盤移動構件上； 引導軌道，位於引導構件中的相應的引導構件上， 其中，引導塊能夠在引導軌道上移動。
21.根據權利要求1所述的有機層沉積裝置，所述有機層沉積裝置還包括: 裝載單元，用於將基底附於靜電吸盤上；和 卸載單元，用於從靜電吸盤拆卸已經執行過沉積的基底。
22.根據權利要求1所述的有機層沉積裝置，其中，沉積源噴嘴單元包括沿一個方向布置的多個沉積源噴嘴，並且圖案縫隙片的所述多個圖案縫隙沿垂直於所述一個方向的另一方向布置。
23.一種利用權利要求1中的有機層沉積裝置製造的有機發光顯示裝置，所述有機發光顯示裝置包括: 基底；以及 至少一個有機層，通過利用所述有機層沉積裝置形成在基底上， 其中，所述至少一個有機層具有線形圖案。
24.根據權利要求23所述的有機發光顯示裝置，其中，所述至少一個有機層包括發射層。
25.根據權利要求24所述的有機發光顯示裝置，其中，所述至少一個有機層包括從由空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層組成的組中選擇的至少一層。
26.根據權利要求23所述的有機發光顯示裝置，其中，所述至少一個有機層具有非均勻的厚度。
27.一種包括至少一個有機層的有機發光顯示裝置，所述至少一個有機層具有非均勻的厚度並通過利用根據權利要求1所述的有機層沉積裝置形成。
28.—種製造有機發光顯示裝置的方法，所述方法包括: 將基底固定在靜電吸盤上； 將靜電吸盤與吸盤移動構件組合； 通過使吸盤移動構件在引導構件上移動來將靜電吸盤移動到室中；以及通過使布置在室中的基底和有機層沉積組件中的至少一個相對於另一個移動來在基底上形成有機層， 其中，吸盤移動構件由於磁力而在引導構件上移動， 其中，基底與有機層沉積組件分隔開，以及 其中，有機層沉積組件的圖案縫隙片在第一方向和垂直於第一方向的第二方向中的至少一個方向上小於基底。
29.根據權利要求28所述的方法， 其中，吸盤移動構件中的每個包括位於其表面上的第一磁力發生器，以及其中，引導構件中的每個包括位於其表面上且與第一磁力發生器中的一個對應的第二磁力發生器。
30.根據權利要求29所述的方法，其中，第一磁力發生器中的每個包括多個磁體。
31.根據權利要求30所述的方法，其中，第二磁力發生器中的每個包括: 多個磁棍，與磁體軌道分隔開； 軸，連接所述多個磁輥；和 軸固定單元，將軸固定在相應的引導軌道上，以使軸繞著沿軸的長度方向延伸的軸旋轉。
32.根據權利要求31所述的方法，其中，使靜電吸盤移動的步驟包括: 通過利用驅動單元產生驅動力，以使軸旋轉， 其中，當軸旋轉時，磁棍旋轉以產生第一電場，並且吸盤移動構件由於第一電場和磁體之間的磁力而在引導構件上移動。
全文摘要
本發明提供了一種有機層沉積裝置、有機發光顯示裝置及其製造方法。該有機層沉積裝置包括沉積源，用於排放沉積材料；沉積源噴嘴單元，布置在沉積源的一側並包括多個沉積源噴嘴；圖案縫隙片，與沉積源噴嘴單元相對地布置並包括多個圖案縫隙；靜電吸盤，基底能夠附於靜電吸盤並能夠從靜電吸盤拆卸；吸盤移動構件，與靜電吸盤組合併被構造為使靜電吸盤移動；以及引導構件，引導吸盤移動構件的移動，吸盤移動構件包括第一磁力發生器，引導構件包括與第一磁力發生器對應的第二磁力發生器，吸盤移動構件由於第一磁力發生器和第二磁力發生器產生的磁力而能夠在引導構件上移動。
文檔編號H01L51/56GK103160789SQ20121051856
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月5日 優先權日2011年12月16日
發明者金東昱 申請人:三星顯示有限公司