真空罩的底置式構造的製作方法
2023-06-05 02:57:06 3
專利名稱：真空罩的底置式構造的製作方法
技術領域：
本實用新型與高分子成型加工機械有關，特別是關於一種真空罩的底置式構造。
背景技術：
為適應高分子製造程序所需求的真空環境條件，習用技術提供以真空罩罩設於 成型模具周側，形成氣密環境再將環境內的氣體予以抽離，而達到真空的效果，其具體例有如TW第081217608號與第093219334號新型專利前案所揭露者。惟，習知技術中，其真空罩罩體的設置均採頂置式的技術設計，就真空功效而 言固無妨礙，惟就真空罩所附的挾模裝置整體而言則非屬適當，其原因是，就適當 的操作平面而言，在人體工學的考量下必需距離地面相當的高度，是以挾模裝置所 提供的最低操作平面亦非可無限度的降低，如此一來，頂置式的真空罩技術將會造 成挾模裝置的整體高度陡增，並非理想的技術內容。發明內容因此，本實用新型的主要目的在於，提供一種真空罩的底置式構造，其可有效 利用挾模裝置位於低處的空間，以避免真空罩造成挾模裝置的整體高度過高。 為達成上述目的，本實用新型提供一種真空罩的底置式構造，其特徵在於，包含有一模架，具有一底部；底模流體壓力缸件，其具有一缸體，缸軸的一端立設於該底部上， 一出力軸，自該缸體的缸軸另端同軸向上延伸；一可沿該出力軸的軸向於一封閉及一開啟位置間上下往復移動的真空罩，具有 一開口朝上的筒形罩體，該罩體的底側體壁上貫設有可氣密地與該出力軸同軸滑接 的滑孔。其中，該底模具有數個流體壓力缸件，該真空罩具有與各該底模流體壓力缸件 各出力軸同軸對應的數滑孔。其中，更包含有一板狀端件，垂直固接於底模流體壓力缸件的出力軸端末上， 該端件的周側板端與位於該開啟位置上的該罩體開口端對應相接。
其中，該端件具有兩並列端板，分設於不同的底模流體壓力缸件的出力軸端端 末上。其中，該端件的周側板端與位於該開啟位置上的該罩體開口端間對應切接。 本實用新型有益效果通過上述結構，本實用新型有效地利用了挾模裝置 位於低處的空間，避免了真空罩造成挾模裝置的整體高度過高。 以下，茲舉本實用新型一較佳實施例並配合圖式作進一步說明。
圖l:是本實用新型一較佳實施例的頂視圖。圖2:是本實用新型一較佳實施例的剖視圖，其中圖3:是本實用新型一較佳實施例的剖視圖，其中 且兩對底模流體壓力缸件的出力軸往程行程為相同。圖4:是本實用新型一較佳實施例的剖視圖，其中 且兩對底模流體壓力缸件的出力軸往程行程為不同。
具體實施方式
請參閱各圖所示，在本實用新型一較佳實施例中所提供真空罩的底置式構造 10由一模架20、 一對第一底模流體壓力缸件30、 一對第二底模流體壓力缸件40、 一真空罩50以及一端件60所組成。該模架20的構成系屬習知技術的範疇，大體而言，其具有一底部21，四導柱 22直立地分別以杆軸一端固接於該底部上， 一板狀上部23滑設於各該導杆22上。該兩對底模流體壓力缸件30、 40彼此並列設置，分別具有一缸體31、 41以缸 軸底端設於該底部21上， 一適當外徑的出力軸32、 42分別自對應缸體31、 41的 缸軸頂端同軸往外延伸，軸向並與各該導柱22的柱軸平行對應。該真空罩50具有一開口朝上的筒狀罩體51，四具適當內徑的滑孔52分別貫 設於該罩體51的底側體壁511上，並分別與對應的出力軸32、42同軸氣密地滑接， 從而使該罩體51得受各該出力軸32、 42的定位導引而可沿其軸向於一封閉及一開 啟位置間上下往複線性位移，兩流體壓力缸體53分別固設於該底部21上而以出力 軸端與該罩體51的兩相背端側相接，用以提供動力帶動該罩體51於各該封閉及開 啟位置間位移作動。該端件60呈板狀，並固設於各該出力軸32、 42的軸端端末上，且得以周側板 端與位於該開啟位置上的該罩體51開口端內側突緣512對應切接，進一步來說， 該端件60具有並列的第一及第二端板61、 62，並使該第一端板61固接於該對第 一底模流體壓力缸件30的出力軸端末上，及使該該第二端板62固接於該對第二底
模流體壓力缸件40的出力軸端末上，而以各該第一、第二端板61、 62未相向對應 的三側板端環繞形成用以與該罩體51內側突緣512切接的板端。藉由上述構件的組成，在使用時以該兩對底模流體壓力缸件30、 40的出力軸 32、 42端末供設高分子成型模具的底模座與底模片，並在習知挾模技術的作用下 對成型模具施以適當的開、合模加工成型作業程序，而該真空罩的底置式構造10 在配合模具開啟的製造程序下，使該兩對底模流體壓力缸件30、 40的出力軸32、 42向下行復位行程而軸移至復位位置上，使設置於其上的底模片同步下移以遂行 模具的開模程序，同時使該兩端板61、 62位於同一水平面上；並同時藉由各該流體壓力缸體53對該罩體51施以支撐並許其自合模狀態下的 封閉位置，沿各該出力軸32、 42的軸嚮往下移動至該開啟位置上，並使位於該開 啟位置上的該罩體51開口端的內周側突緣512內側環面、切接於位於該開模狀態 下的該端件60的周側板端，以於該罩體51的內部空間513與各該底模片所在空間 兩者間形成適當的阻隔，從而當對各該底模片施以清理程序時，避免雜物落入該罩 體51的內部空間513中。而就該真空罩的底置式構造10配合習知挾模技術進行模具合模程序，以供成 型高分子物的製造程序而言，則可藉由該兩對第一、第二流體壓力缸件30、 40的 區別、以及該兩端板61、 62的彼此獨立，而允許該兩對第一、第二流體壓力缸件 30、 40各自可進行往程行程距離可受調整，據此，即可根據實際所設置成型模具 的厚度是否一致，而決定兩者的往程是否相同，換言之如圖3所示，當所設置的模具厚度均相同時，則各該第一、第二流體壓力缸件 30、 40以相同行程自該復位軸移至該往位而使各該底模片位置位移至相同的第一 合模位置上，並使該罩體51受驅動而向上位移至該封閉位置上，據以於該底模片 的周側形成氣密的封閉空間，以供高分子成型加工作業的進行；如圖4所示，當所設置的模具厚度不同時，亦即該兩對第一、第二流體壓力缸 件30、 40的往位位置彼此具有對應的高度差，而使該兩對第一、第二流體壓力缸 件30、 40自該復位軸移至其對應的往位位置系具有不等的行程，惟，均可受到該 真空罩50所提供的氣密封閉效果，而可提供靈活適應製造條件的變化。
權利要求1、 一種真空罩的底置式構造，其特徵在於，包含有 一模架，具有一底部；底模流體壓力缸件，其具有一缸體，缸軸的一端立設於該底部上， 一出力軸， 自該缸體的缸軸另端同軸向上延伸；一可沿該出力軸的軸向於一封閉及一開啟位置間上下往復移動的真空罩，具有 一開口朝上的筒形罩體，該罩體的底側體壁上貫設有可氣密地與該出力軸同軸滑接 的滑孔。
2、 依據權利要求1所述的真空罩的底置式構造，其特徵在於，該底模具有數 個流體壓力缸件，該真空罩具有與各該底模流體壓力缸件各出力軸同軸對應的數滑 孔。
3、 依據權利要求1或2所述真空罩的底置式構造，其特徵在於，更包含有一 板狀端件，垂直固接於底模流體壓力缸件的出力軸端末上，該端件的周側板端與位 於該開啟位置上的該罩體開口端對應相接。
4、 依據權利要求3所述真空罩的底置式構造，其特徵在於，該端件具有兩並 列端板，分設於不同的底模流體壓力缸件的出力軸端端末上。
5、 依據權利要求3所述真空罩的底置式構造，其特徵在於，該端件的周側板 端與位於該開啟位置上的該罩體開口端間對應切接。
專利摘要一種真空罩的底置式構造，包含有一模架，具有一底部；至少一底模流體壓力缸件，具有一缸體，以缸軸的一端立設於該底部上，一預定外徑的出力軸，自該缸體的缸軸另端同軸往上延伸；一真空罩，具有一開口朝上的筒形罩體，至少一預定內徑的滑孔，貫設於該罩體的底側體壁上，並氣密地與該出力軸同軸滑接，用以使該罩體得沿該出力軸的軸向於一封閉及一開啟位置間上下往復移動。據此，可有效利用挾模裝置位於低處的空間，以避免真空罩造成挾模裝置的整體高度過高。
文檔編號B29C33/00GK201020825SQ200720141240
公開日2008年2月13日 申請日期2007年3月30日 優先權日2007年3月30日
發明者陳法勝 申請人:陳法勝