缺陷修補結構及缺陷修補方法

2023-06-05 06:35:56 2

專利名稱：缺陷修補結構及缺陷修補方法
技術領域：
本發明是有關種修補結構以及方法，尤是指種利用有多數層的結構，以修補具有缺陷的電路以及利用有多數層結構的修補基材'接受電磁波光源昭 乂 "、射後產生的碰撞壓力，使材料轉移至欲修補的區域中的種缺陷修補結構及缺陷修補方法。扭旦 冃豕技術平面顯不器FlPan e 1D:Lsplay, FPD)己是中國臺灣最重要的產業之，隨著大尺寸液晶顯示器面板的發展量產到七代廠，面板尺寸的大型化及產能需求不斷提咼的趨勢及市場需求下，使得現有的修補製程面臨極大的瓶頸如圖1所示， 平面顯示器的 z -刖段製程主要為利用光阻蝕刻技術進行線路圖案成型，而在此製程中因汙染及本身的蝕刻誤差，導致製程兀成後於線路圖案中產生開路缺陷3pen defect)10以及線缺陷lidef6 Ct)1 1，這些缺陷是不被允許的，因此必須加以修補(repair)。傳統進行修補的主要方式為雷射化學氣相沉積S 6r Chemical Vapor Deposition, Laser CVD)，而此修補製程主要是將檢測後的面板離線送至需特殊氣氛環境的Laser CVD設備中，再利用雷射光與特殊氣體的光化學反應，使修補的線路材料沉積於具有缺陷的線路上而完成修補製程。因為需要離線進行修補處理及製程需要於特殊氣氛環境下進行，導致使用L a_ s srCVD進行修補製程的產能較低。另外，現有技術中如日本公開專利JP.NO. 2000 031 0 1 3號所揭露的 一 種線路圖案修補裝置與方法，其是利用雷射將修補材料轉移至具有缺陷的線 路圖案上，以回複線路圖案的電性。在該技術中，修 補的線路材料受雷射光照射後，修補材料容易受到激 光光的能量而產生熱影響區的現象，因此會有材料氧 化及破壞的問題，造成導電性與粘著性不佳。發明內容本發明的目的在於，提供 一 種缺陷修補結構，其 是具有多數層的結構可以使具有缺陷的線路回復電性。本發明的目的在於，提供 一 種缺陷修補方法，其是利用具有多數層結構的修補基材接受電磁波光源照射後產生的碰撞壓力，即直接來自光子撞擊所產生的光壓，輔以電磁波能量產生打斷分子鍵結或爆炸現象，使材料轉移至欲修補的區域中，該多數層結構除了具有修補缺陷的材料外，更具有粘著材料以提高修補缺陷的材料附著於缺陷線路區域上。本發明提供種缺陷修補結構，其特徵在於，包括:一導電粘著層;以及一修補材料層，其是形成於該導電粘著層上。其中該基板是為具有線路圖案的基板。其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一 。其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一 。其中該導電粘著層的材料是為銀膠。其中該修補材料層上還具有 一 中介層。其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的能量或防止該修補材料層氧化中該中介層的材料是鈦。其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源 以及紫外光波雷射其中之一。本發明提供 一 種缺陷修補結構，其特徵在於，包括一修補材料層；以及一中介層，其是形成於該修補材料層上。 其中該基板是為具有線路圖案的基板。 其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一 。其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。其中該金屬材料層的材料是可選擇為鎢、金、銀、 銅、銀膠以及鉬其中之一 。其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的能量 或防止該修補材料層氧化'。其中該中介層的材料是為鈦。其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源 以及紫外光波雷射其中之一。本發明提供 一 種缺陷修補方法，其特徵在於，其 是包括有下列步驟提供 一 具有 一 缺陷的基板；提供 一 承載板，該承載板上形成有 一 修補材料層；使該修補材料層對應該缺陷；以及利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板 上，使該修補材料轉移至該缺陷上。其中該基板是為具有線路圖案的基板。其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成 其中之一 。其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀 膠以及鉬其中之一 。其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源 以及紫外光波雷射其中之一。其中該電磁波光源與該承載板之間還設置有一光 罩結構。本發明提供 一 種缺陷修補方法，其特徵在於，其 是包括有下列步驟提供一具有一缺陷的基板；提供一承載板，該承載板上形成有一轉移材料層， 該轉移材料層上具有 一 修補材料層，其是形成於該承 載板上以及一導電粘著層，其是形成於該修補材料層 上；使該轉移材料層對應該缺陷；以及利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板 上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。其中該基板是為具有線路圖案的基板。其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成 其中之一 。其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀 膠以及鉬其中之一。其中該導電粘著層的材料是為銀膠。其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源 以及紫外光波雷射其中之一。其中該電磁波光源與該承載板之間更設置有 一 光 罩結構。本發明提供 一 種缺陷修補方法，其特徵在於，其 是包括有下列步驟提供 一 具有 一 缺陷的基板；提供 一 承載板，該承載板上形成有 一 轉移材料層， 該轉移材料層上具有一中介層，其是形成於該承載板 上以及一修補材料層，其是形成於該中介層上；使該轉移材料層對應該缺陷， 以及利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。其中該基板是為具有線路圖案的基板。其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一 。其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。 其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之一。其中該中介層的材料是可吸收該電磁波光源的能 量或防止該修補材料層氧化。其中該中介層的材料是為鈦。其中該轉移材料層更具有一導電粘著層，其是形 成於該修補材料上。其中該導電粘著層是可為銀膠。其中該電磁波光源與該承載板之間還設置有一光 罩結構。本發明提供 一 種缺陷修補方法，其特徵在於，其 是包括有下列步驟提供 一 具有 一 缺陷的基板；提供 一 承載板，該承載板上形成有 一 緩衝層以及一轉移材料層，其中該轉移材料層是形成於該緩衝層 上；使該轉移材料層對應該缺陷；以及利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板 上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。其中該基板是為具有線路圖案的基板。 其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一 。其中該轉移材料層具有 一 修補材料層，其是可為 一金屬材料且形成於該緩衝層上。其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀 膠以及鉬其中之一 。其中該轉移材料層具有一修補材料層，其是可為 一 金屬材料且形成於該 緩衝層上；以及一導電粘著層， 其是形成於該修補材料層上g巾該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅及鉬中之一g巾該導電粘著層是可為 一 銀膠g巾該轉移材料層有:一中介層， 其是形成於該緩衝層上；一修補材料層，其是中介層上;以及一導電粘著層> 其是g巾該金屬材料是可膠以及鉬g巾之一g巾該導電粘著層是其中該中介層的材料或防止該修補材料層氧其中該中介層的材料g巾該電磁波光源是以及紫外光波雷射其中之g巾該緩衝層是可為其中該咼分子材料是其中該轉移材料層具一中介層>其是形成一修補材料層，其是中介層上3巾該金屬材料是可膠以及鉬3巾之一其中該中介層的材料或防止該修材料層氧可為一金屬材料且形成於該形成於該修補材料層上。 選擇為鎢、金、銀、銅、銀可為 一 銀膠。是可吸收該電磁波光源的能 化。是為鈦。可選擇為一全波段雷射光源一高分子材料。 為聚二甲基矽氧烷。有於該緩沖層上 ，以及可為 一 金屬材料且形成於該選擇為鎢、金、銀、銅、銀是可吸收該電磁波光源的能 化。其中該中介層的材料是為鈦。


為使審査員能對本發明的特徵、目的及功能有更進一步的認知與了解，下文特將本發明的裝置的相關細部結構以及設計的理念原由進行說明，以使得審查員可以了解本發明的特點，詳細說明陳述如下，其中圖1是為線路圖案的缺陷示意圖。圖2A是為本發明的缺陷修補結構第 一 實施例示意2B是為本發明的缺陷修補結構第二實施例示意2C是為本發明的缺陷修補結構第三實施例示意圖。圖3 A至圖 施例示意圖。圖3 D至圖 施例示意圖。圖4 A至圖 施例示意圖。圖4 D至圖3 C是為本發明的缺陷修補方法第 一 實3 E是為本發明的缺陷修補方法第二實4 C是為本發明的缺陷修補方法第三實 4 E是為本發明的缺陷修補方法第四實施例示意圖。圖5A至圖5C是為本發明的缺陷修補方法第五實施例示意圖。圖5D至圖5E是為本發明的缺陷修補方法第六實施例示意圖。圖5F至圖5G是為本發明的缺陷修補方法第七實施例示意圖。圖5H至圖5I是為本發明的缺陷修補方法第八實施例示意圖。圖6是為本發明的第八實施例與光罩結構5口 o示意圖具體實施方式
請參閱圖2 A所示，該圖是為本發明的缺陷修補結構第一實施例示意圖。缺陷修補結構2員有導電粘著層2 3，而在該導電粘著層2 3上形成有修補材料層2 2 。該導電粘著層2 3的材料特性為員有導電性以及粘著性，使得該修補材料層22可以容易附著於該缺陷線路2 1上。該導電粘著層23在本實施例中是為銀膠。該修補材料層2 2是為金屬材料層，該金屬材料可選擇鎢、金、銀、銅、銀膠或者是鉬等類的材料，但不在此限。請參閱圖2B所示，該圖是為本發明的缺陷修補結構第—實施例示意圖。該缺陷修補結構2 b具有 一 修補材料層22，而在該修補材料層2 2上形成有 一 中介層24該中介層2 4的材料特性為具有能量吸收的功能，以保護修補材料層2 2在受電磁波光源的照射而轉移到缺陷線路時，不受電磁波照射而產生熱影響區該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之 一 。使得該修補材料層2 2可以維持導電特性，以及避免因受熱而氧化。該中介層24的材料是為鈦，但不以此為限。該修補材料層22是為金屬材料層，該金屬材料可選擇鎢、金、銀、銅、銀膠或者是鉬材料，但不在此限。請參閱圖2C所示，該圖是為本發明的缺陷修補結構第二實施例示意圖。該缺陷修補結構2 c是為結合前述的第實施例以及第二實施例，亦即在該修補材料層22下方有一導電粘著層2 3 。另外在該修補材料層22的上有 一 中介層2 4 。該修補材料層2 2 、導電粘著層23以及該中介層2 4的材料選擇以及功效如刖所述，在此不作贅述。;生 i冃參閱圖3A至圖3C所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第~■實施例示意圖。本實施例的修補方法，是為形成修補麼士構以修補缺陷線路的方法。首先如圖3 A所示，提供 一 具有缺陷線路21的基板20 。該缺陷線路21是可為線缺陷或者是開路缺陷，在本實施例是以開路缺陷作說明。該基板2 0可是玻璃基板或者是矽基板，該線路圖案在本實施例中是為應用於平面顯不器的線路圖案，但不在此限。接著如圖3B所示，提供一承載板4，該承載板4上形成有一修補材料層2 2 ，其是在轉移前與缺陷線路21保持適當間隙。該修補材料層2 2的材料是為金屬材料，例如鉤、金、銀、銅、銀膠或者是鉬材料，但不在此限。該承載板4的 一 側具有 一 電磁波光源3該電磁波光源3是可選擇為一全波段雷射光源或者是紫外光波雷射。然後，使該修補材料層22對應該缺陷線路2 1的位置。最後，如圖3 C所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上使該修補材料2 2轉移至該缺陷線路21上由於該修補材料2 2接受電磁波光源照射後產生的碰扭 裡壓力，亦即，直接來自光子撞擊所產生的光壓，輔以雷射能量產生打斷分子鍵結或爆炸現象使修補材料22轉移至欲修補的缺陷線路2 1上。請參閱圖3D至圖3E所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第二實施例示意圖。如圖3 D所示，在本實施伊J中，該修補材料層2 2與該承載板4之間還形成有 一 緩衝層25 。然後使該修補材料層22對應缺陷線路2 1。如圖3 E所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上，使該修補材料層2 2轉移至該缺陷線路21上。在轉移過程中，緩衝層25不轉移至缺陷線路2 1上，該緩衝層25的目的在於吸收電磁波光源的能量並傳導部分的電磁波能量給該修補材料層22 a如此一來>一方面可以避免該修補材料層2 2因受執 ,、、、而氧化，進而影響導電的特性；另一方面也可以藉由該緩衝層25與修補材料層2 2之間的低粘著性，以使得修補材料層22容易從緩衝層25轉移至該缺陷線路21上該緩衝層2 5是可選擇為高分子材料，在本實施例中，該咼分子材料是選擇為聚二甲基矽氧烷(Polydimethyls;il(PDMS)，但不在此限。請參閱圖4A至圖4C所示:，該圖是為本發明的缺陷修補方法第三實施例示意圖。在本實施例中，是製作如圖2A所述的缺陷修補結構2 a 。首先如圖4A所示，提供一具有缺陷線路2 1的基板20然後如圖4 B所示，提供 一 承載板4:，該承載板4上形成有一轉移材料層2 6，，其是在轉移前與缺陷線路2i保持適當間隙，該轉移材料層2 6具有一修補材料層22以及 一 導電粘著層2 3 。該修補材料層22是形成於該承載板4上，而該導電粘著層2 3則形成於該修補材料層22上。至於形成該轉移材料層2 6的方法，是可利用現有的技術來製作，這是熟悉此項技術的人所熟悉的，在此不作贅述。該修補材料層2 2的材料是為金屬材料，例如:鎢、金、銀、銅、銀膠或者是鉬材料，但不在此限該承載板4的 一 側具有 一 電磁波光源3。該電磁波光源3是可選擇為一全波段雷射光源或者是紫外光波雷射然後，使該轉移材料層2 6對應該缺陷線路21的位置最後，如圖4 C所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上，使該轉移材料層26 (包括2 2以及2 3 )同時轉移至該缺陷線路21上。該導電粘著層2 3的材料是可選擇同時員有導電性以及粘著性的材料，在本實施例中是使用銀膠，但不在此限。請參閱圖4D至圖4E所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第四實施例示意圖。如圖4D所示，在本實施例中，該修補材料層2 2與該承載板4之間還形成有一層緩衝層2 5 。然後使該轉移材料層26對應缺陷線路21。如圖4 E所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上，使該轉移材料層26(包括2 2以及2 3 )同時轉移至該缺陷線路2 1上。該緩衝層2 5的目的以及材料選擇如前所述，在此不作贅述。請參閱圖5 A至圖5 C所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第五實施例示意圖。在本實施例中，是為形成如圖2 B的缺陷修補結構2 b的方法。首先如圖5A所示，提供 一 具有缺陷線路2 1的基板20然後如圖5 B所示，提供一承載板4 ，該承載板4上形成有一轉移材料層2 7 ，其是在轉移前與缺陷線路21保持一適當間隙，該轉移材料層2 7具有 一 修補材料層22以及一中介層2 4。該中介層2 4是形成於該承載板4上，而該修補材料層2 2則形成於該中介層2 4上。至於形成該轉移材料層2 7的方法，是可利用現有的技術來製作，這是熟悉此項技術的人所熟悉的，在此不作贅述。該承載板4的 一 側具有 一 電磁波光源3。該電磁波光源3是可選擇為一全波段雷射光源或者是紫外光波雷射。然後，使該轉移材料層2 7對應該缺陷線路2 1的位置。最後，如圖5 C所示;，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 Q照射於該承載板4上，使該轉移材料層2 7 (包括2 2以及2 4 )同時轉移至該缺陷線路2 1上。該中介層24是為可吸收電磁波能量的材料，以保護該修補材料層2 2免於直接受到該電磁波光源的影響而產生熱影響區，以避免該修補 材料層因受熱而氧化，進而影響導電的特性。該修補 材料層2 2的材料是為金屬材料，例如鎢、金、銀、 銅、銀膠或者是鉬材料，但不在此限。該中介層2 4 的材料是為鈦，但不以此為限。請參閱圖5D至圖5E所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第六實施例示意圖。如圖5 D所示，在本實施例中，該中介層2 4與該承載板4之間更形成有層緩衝層2 5 。然後使該轉移材料層2 7對應缺陷線路21。如圖5 E所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上，使該轉移材料層27(包括2 2以及2 4)同時轉移至該缺陷線路2 1上。該緩衝層2 5的目的以及材料選擇如前所述，在此不作贅述。請參閱圖5F至圖5G所示，該圖是為本發明的缺陷修補方法第七實施例示意圖。在本實施例中，是為製作如圖2 C的缺陷修補結構2 c的方法。首先如圖5F所示:，提供 一 承載板4 ，該承載板4上形成有轉移材料層2 8 ，該轉移材料層2 8具有 一 修補材料層22 、導電粘著層2 3以及一中介層2 4。該中介層2 4是形成於該承載板4上，而該修補材料層22則形成於該中介層2 4上，該導電粘著層2 3則形成於該修補材料層2 2上。至於形成該轉移材料層28的方法，是可利用現有的技術來製作，這是熟悉此項技術的人所熟悉的，在此不作贅述。該承載板4的 一 側具有 一 電磁波光源3。該電磁波光源3是可選擇為一全波段雷射光源或者是紫外光波雷射。然後，使該轉移材料層28對應該缺陷線路21的位置。最後，如圖5 G所示，再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束9 0照射於該承載板4上，使該轉移材料層28 (包括22、 23以及24同時轉移至該缺陷線路2 1上。該修補材料層22、導電粘著層2 3以及中介層2 4的功效以及百的如、'-刖所述，在此不作贅述。請參閱圖5 H至圖5 I是為本發明的缺陷修補方法第八實施例示意圖。如圖5 H所示，在本實施例中，《中介層2 4與該承載板4之間還形成有一層緩衝層25然後使該轉移材料層2 8對應缺陷線路21。如圖5I所示:,再利用該電磁波光源3提供的電磁波光束90照射於該承載板4上，使該轉移材料層28包括22 、 23以及2 4 )同時轉移至該缺陷線路21上該緩衝層2 5的目的以及材料選擇如、/ -刖所述'在此不作贅述請參閱圖6所示，本實施例是將本發明的第八實施例中的電磁波光源3以及承載板4之間設置 一 光罩結構5，以對不同的缺陷線路圖案進行修補，增加可修補缺陷線路的多樣性。雖然在本實施例中是將光罩結構5與本發明的第八實施例結合，但實際上應用時，該光罩結構5可與本發明所提供的其它實施例相互結合應用惟以上所述的，僅為本發明的較佳實施例，當不能以的限制本發明範圍。即凡是依本發明申請專利範圍所做的均等變化及修飾，仍將不失本發明的要義所在，亦不脫離本發明的精神和範圍，故都應視為本發明的進一步實施狀況。綜合上述，本發明提供的缺陷修補結構及缺陷修補方法，其是利用多層的修補結構，以有效解決修補材料易氧化及應力破壞的問題以維持修補材料導電特性，另外也可以增加修補材料與缺陷線路的附著性，因此可以滿足業界的需求，進而提高該產業的競爭力以及帶動周遭產業的發展，誠已符合發明專利法所規定申請發明所需員備的條件，故爰依法呈提發明專利的中請
權利要求
1. 一種缺陷修補結構，其特徵在於，包括一導電粘著層；以及一修補材料層，其是形成於該導電粘著層上。
2.如權利要求1項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，苴 z 中該基板是為具有線路圖案的基板。
3.如權利要求2項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之
4.如權利要求1項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。
5.如權利要求4項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬中之一
6.如權利要求1項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，中該導電粘著層的材料是為銀膠。
7.如權利要求1項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，中該修補材料層上還具有一中介層。
8.如權利要求7項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的 能量或防止該修補材料層氧化。
9.如權利要求8項所述的缺陷修補結構，其特 徵在於，其中該中介層的材料是鈦。
10.如權利要求8項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，其中該電磁波光源是可選擇為一全波段激 光光源以及紫外光波雷射其中之一 。
11.一種缺陷修補結構，其特徵在於，包括一修補材料層；以及一中介層，其是形成於該修補材料層上。
12.如權利要求1 1項所述的缺陷修補結構，其特徵在於，其中該基板是為具有線路圖案的基板。
13.如權利要求1 2項所述的缺陷修補結構， 其特徵在於，其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前 述的組成其中之一。
14.如權利要求1 3項所述的缺陷修補結構， 其特徵在於，其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬 材料。
15.如權利要求1 4項所述的缺陷修補結構， 其特徵在於，其中該金屬材料層的材料是可選擇為鎢、 金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一。
16、如權利要求1 1項所述的缺陷修補結構，特徵在於其中該中介層的材料是可吸收電磁波光源的能或防止該修補材料層氧化。
17、如權利要求1 6項所述的缺陷修補結構，特徵在於，其中該中介層的材料是為鈦。
18、如權利要求1 6項所述的缺陷修補結構，特徵在於，其中該電磁波光源是可選擇為 一 全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之一 。
19、種缺陷修補方法，其特徵在於，其是包括有下列步驟:提供一有 一 缺陷的基板；提供—承載板，該承載板上形成有 一 修補材料層；使該修補材料層對應該缺陷；以及利用電,磁波光源提供的光束照射於該承載板上，使該修補材料轉移至該缺陷上。
20、如權利要求1 9項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該基板是為具有線路圖案的基板。
21、如權利要求2 0項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之一 。
22、如權利要求1 9項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬 材料。
23 、如權利要求2 2項所述的缺陷修補方法， 其特徵在於，其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、 銅、銀膠以及鉬其中之一。
24、 如權利要求1 9項所述的缺陷修補方法， 其特徵在於，其中該電磁波光源是可選擇為一全波段 雷射光源以及紫外光波雷射其中之一 。
25 、如權利要求1 9項所述的缺陷修補方法， 其特徵在於，其中該電磁波光源與該承載板之間還設 置有 一 光罩結構。
26 、一種缺陷修補方法，其特徵在於，其是包 括有下列步驟提供一具有一缺陷的基板；提供 一 承載板，該承載板上形成有 一 轉移材料層， 該轉移材料層上具有 一 修補材料層，其是形成於該承 載板上以及一導電粘著層，其是形成於該修補材料層 上；使該轉移材料層對應該缺陷；以及 利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板 上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。
27、如權利要求2 6項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該基板是為具有線路圖案的基板。
28、如權利要求2 7項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成其中之
29、如權利要求2 6項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料
30、如權利要求2 9項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬中之一 。
31、如權利要求2 6項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該導電粘著層的材料是為銀膠。
32、如權利要求2 6項所述的缺陷修補方法，特徵在於中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之一。
33、如權利要求2 6項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該電磁波光源與該承載板之間更設置有光罩結構
34、種缺陷修補方法，其特徵在於，其是包括有下列步驟:提供有缺陷的基板；提供承載板，該承載板上形成有 一 轉移材料層，該轉移材料層上具有一中介層，其是形成於該承載板上以及修補材料層，其是形成於該中介層上；使該轉移材料層對應該缺陷；以及利用電磁波光源提供的光束照射於該承載板上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。
35.如權利要求3 4項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該基板是為具有線路圖案的基板。
36.如權利要求3 5項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成中之一 。
37.如權利要求3 4項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該修補材料層的材料是可為 一 金屬材料。
38.如權利要求3 7項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一 。
39.如權利要求3 4項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之一。
40.如權利要求3 4項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該中介層的材料是可吸收該電磁波光源的能量或防止該修補材料層氧化。
41、如權利要求40項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該中介層的材料是為鈦。
42、如權利要求34項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該轉移材料層更具有 一 導電粘著層，是形成於該修補材料上。
43、如權利要求42項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該導電粘著層是可為銀膠。
44、如權利要求34項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該電磁波光源與該承載板之間還設置有光罩結構。
45.一種缺陷修補方法，其特徵在於，其是包括有下列步驟提供一有 一 缺陷的基板；提供承載板，該承載板上形成有一緩衝層以及一轉移材料層，其中該轉移材料層是形成於該緩衝層上；使該轉移材料層對應該缺陷；以及利用 一 電磁波光源提供的光束照射於該承載板 上，使該轉移材料層轉移至該缺陷上。
46 、如權利要求45項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該基板是為具有線路圖案的基板。
47、如權利要求4 6項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該缺陷是為線缺陷及開路缺陷或前述的組成苴 z 、中之一。
48、如權利要求4 5項所述的缺陷修補方法，特徵在於中該轉移材料層具有 一 修補材料層，是可為金屬材料且形成於該緩衝層上。
49、如權利要求4 8項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬苴 z 、中之一 。
50、如權利要求4 5項所述的缺陷修補方法，特徵在於，苴中該轉移材料層具有修補材料層，其是可為 一 金屬材料且形成於該緩衝層上以及導電粘著層，其是形成於該修補材料層上。
51、如權利要求5 0項所述的缺陷修補方法，特徵在於中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一 。
52、如權利要求5 0項所述的缺陷修補方法，特徵在於，中該導電粘著層是可為一銀膠。
53、如權利要求4 5項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該轉移材料層具有—中介層，其是形成於該緩衝層上；修補材料層，其是可為一金屬材料且形成於該中介層上以及一導電粘著層，其是形成於該修補材料層上。
54、如權利要求53項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬其中之一 。
55、如權利要求53項所述的缺陷修補方法，特徵在於，其中該導電粘著層是可為一銀膠。
56、如權利要求53項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該中介層的材料是可吸收該電磁波光源的能或防止該修補材料層氧化。
57、如權利要求56項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該中介層的材料是為鈦。
58、如權利要求45項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該電磁波光源是可選擇為一全波段雷射光源以及紫外光波雷射其中之一。
59、如權利要求45項所述的缺陷修補方法，特徵在於中該緩衝層是可為 一 高分子材料。
60、如權利要求59項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該咼分子材料是為聚二甲基矽氧烷。
61、如權利要求4 5項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該轉移材料層具有一中介層，其是形成於該緩衝層上；以及—修補材料層，其是可為一金屬材料且形成於該中介層上
62、如權利要求6 1項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，中該金屬材料是可選擇為鎢、金、銀、銅、銀膠以及鉬中之——o
63、如權利要求6 1項所述的缺陷修補方法，其特徵在於其中該中介層的材料是可吸收該電磁波光源的能量或防止該修補材料層氧化。
64、如權利要求6 1項所述的缺陷修補方法，其特徵在於，其中該中介層的材料是為鈦。
全文摘要
本發明提供一種缺陷修補結構及缺陷修補方法。該修補結構具有多數層的結構，以修補具有缺陷的線路圖案。另外，本發明提供的缺陷修補方法主要是利用具有多數層結構的轉移材料接受電磁波光源照射後產生的碰撞壓力，亦即直接來自光子撞擊所產生的光壓，輔以電磁波能量產生打斷分子鍵結或爆炸現象，使材料轉移至欲修補的區域中。通過本發明提供的結構與方法可以可解決傳統轉移材料時，修補材料因受光源照射後產生熱影響的現象，而使得材料易氧化及應力破壞的問題。
文檔編號G02F1/13GK101276070SQ20071009173
公開日2008年10月1日 申請日期2007年3月30日 優先權日2007年3月30日
發明者廖仕傑, 王儀龍, 陳輝達 申請人:財團法人工業技術研究院