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綜合電鍍廢水的處理方法

2023-06-07 11:20:11


專利名稱::綜合電鍍廢水的處理方法
技術領域:
:本發明涉及一種綜合電鍍廢水的處理方法,特別是在綜合電鍍廢水處理中使用化學與生化相結合的工藝,並且利用吹脫的方式去除水中難達標的氨氮。
背景技術:
:電鍍行業中,常用的鍍種有鍍鎳、鍍銅、鍍鉻、鍍鋅、鍍鎘等。其廢水的來源比較廣泛,一股為①鍍件清洗廢水;②電鍍廢液;③其它廢水,包括衝刷車間地面、刷洗地板以及通風設備冷凝水和由於鍍槽滲漏或操作管理不當造成的跑、冒、滴、漏的各種槽液和排水;④設備冷卻水,設備冷卻水在使用過程中除降溫以外,一股沒有受到重金屬的汙染。其中,鍍件清洗水是電鍍廢水的主要來源,幾乎佔車間廢水排放量的80%以上。電鍍廢水中含有大量的重金屬離子及氰化物等高汙染物質,毒性較大。以往的電鍍廢水處理技術主要以化學工藝等處理為主,主要根據氫氧化物、硫化物、鋇鹽等溶度積小的化合物易沉澱的性質,通過調節PH值和投加混凝劑和絮凝劑的方式去除水中重金屬以及COD等汙染物質,並達標排放。產生的汙泥經過濃縮脫水後外運處置。這種工藝由於其工藝簡單,操作簡便,價格低廉,來源廣泛等優點被廣泛使用。此外,在基礎工藝上加入超濾或者R0等膜處理系統,可以使處理所得出水實現回用的可能。然而,新的水質處理標準日趨嚴格,舊的工藝很難實現電鍍廢水的出水達標,而且回用水部分所用的膜處理系統產生的濃水會帶來了新的環境問題,僅僅依靠原來的化學工藝很難處理這部分濃水。此外,汙泥中不同的重金屬混合在一起,加大了重金屬回收利用難度,造成了資源的極大浪費。關於如何解決上述問題,實現電鍍廢水的達標排放,已經有很多的方法,然而並沒有一種有效的方法。
發明內容為了解決傳統的化學工藝所面臨的出水難達標、回用水系統濃水難處理以及重金屬難回收等問題,本發明提供了一種綜合電鍍廢水的處理方法,此方法不僅能夠實現電鍍廢水的達標排放,還能實現汙泥中重金屬資源的分類分批回收。本發明是將化學工藝和生化工藝相結合而成的新工藝。其機理是首先將電鍍廢水進行科學分類,然後將化學處理法、膜技術、氨氮吹脫技術以及改進型MBR工藝相結合使用的新型處理工藝。其理論依據在於首先將電鍍廢水通過科學的方法進行分水,通過對所分的每股水進行針對性處理,在提高處理效率的同時可以提高重金屬資源的回收利用率。其次鐵碳的微電解作用在去除COD的同時可以破除絡合物,提高可生化性,為後續的生化反應提供保障,而且鐵碳的置換作用也可以置換水中重金屬離子,回收重金屬資源。同時通過氫氧化物和硫化物沉澱法的結合運用,還可將水中殘留的重金屬離子回收。在其基礎上經過超濾和反滲透作用水質可以達到《生活飲用水衛生標準》(GB5749-2006),且根據電鍍工藝要求,總硬度和電導率優於自來水水質。還有氨氮吹脫作用可以將水中濃度較高的氨氮通過傳質作用轉移到空氣中,降低水中氨氮濃度為生化反應減小負擔。最後在MBR工藝活性汙泥和膜分離的共同作用下出水水質將達到《電鍍汙染物排放標準(發布稿)》(GB21900-2008)中表3規定的水質排放標準。本發明的電鍍廢水處理及重金屬資源回收方法,其特徵在於其工藝步驟還包括(1)採用分流制排水管網,將電鍍廢水分為含鉻廢水、含氰廢水、一股電鍍廢水、前處理廢水、絡合廢水五種;各類分水經過各自不同的預處理過程後進入生化處理段集中處理,處理後出水實現達標排放;(2)步驟(1)中絡合廢水含氨氮濃度較高,採用吹脫的方式去除氨氮;(3)步驟(1)中含鉻廢水經還原處理後進入一股廢水調節池;(4)步驟(1)中含氰廢水經二級破氰後進入一股廢水調節池;(5)步驟(1)中一股電鍍廢水在一股電鍍廢水調節池中與步驟(3)、(4)中出水混合經微電解芬頓處理後出水調節PH後進入生化處理工藝;(6)步驟(1)中前處理廢水經微電解、氣浮、沉澱進行處理;(7)步驟(2)、(6)中處理後出水經pH調節後進入生化進水調節池;(8)步驟(7)中出水經厭氧池、沉澱池、缺氧池、好氧池處理後達標排放。所述的步驟(5)的方法如下(a)將權利要求1中步驟(1)中一股電鍍廢水在一股電鍍廢水調節池中與步驟(3)、(4)中出水混合經微電解芬頓處理後進入膜處理系統,處理後出水進行回用;(b)膜處理系統中超濾(UF)濃水進入前處理廢水調節池;(c)膜處理系統中反滲透(R0)濃水通過混凝沉澱進行處理;(d)將前處理廢水與步驟(b)中UF濃水於前處理廢水調節池中混合後經微電解、氣浮、沉澱進行處理。所述的步驟(1)中生化處理段工藝生化進水調節池HRT為20h;採用懸浮汙泥式厭氧池HRT為8h;沉澱池汙泥回流至厭氧池,出水依次進入缺氧池和好氧池;缺氧池HRT為6h,好氧池HRT為16h,好氧池分為兩段,前端為接觸氧化段,後段為MBR段,好氧池中汙泥和硝化液均回流至缺氧池,剩餘汙泥濃縮後製成有價泥餅,MBR出水達標排放。所述的步驟(2)中氨氮吹脫將絡合廢水pH值調節至10.5左右,用硫化鈉破絡,出水經沉澱後進入氨氮吹脫系統,氨氮吹脫系統由氨氮吹脫塔並聯而成,氨氮吹脫塔利用噴頭的噴霧作用將含氨氮廢水轉化為類霧狀液滴,在與空氣的接觸過程中通過傳質作用降低水中氨氮濃度。包括壓力維持器、噴霧器、氣液傳質區、進風口、氣液分離器等部分。所述步驟(1)中含鉻廢水經二級還原反應後,經pH調節池時加入氫氧化鈉控制pH值在7.5-8之間,使得三價鉻生成純度較高的氫氧化鉻沉澱;一股電鍍廢水調節池中出水經微電解芬頓反應後以FeCl3、PAM為混凝劑和絮凝劑,泥渣含較多的銅鎳氫氧化物沉澱,具有回收價值,二級混凝池以硫化鈉為沉澱劑,配合混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM經過斜管沉澱池回收金屬銅。步驟(2)中採用亞硫酸氫鈉作為還原劑通過0RP自動控制系統調控酸的加入量,使廢水的0PR值達到250-300mV。經還原後含鉻廢水經pH調節池時加入氫氧化鈉控制pH值在7.5-8之間,使得三價鉻生成純度較高的氫氧化鉻沉澱,並加入混凝劑和絮凝劑加強混凝效果,含鉻汙泥進入單獨的汙泥濃縮池,以備回收。步驟(3)中含氰廢水採用間歇處理保證足夠的反應時間且以漂水作為氧化劑,利用PH自動控制系統控制鹼的加入量,並用0RP自動控制系統調控氧化劑的投加量。一級破氰控制pH為11,0RP值為340mV;二級破氰控制pH為7.5-8,0RP值為640mV。兩級破氰反應的出水進入一股廢水調節池。步驟(4)中的微電解鐵屑和活性炭粒體積比取11,採用下進水方式、穿孔管布水並在運行中配合穿孔管曝氣。汽水比為30。運行一個月左右清理池中汙泥以及餘碳,經煅燒後回收銅鎳金屬。步驟(4)中FENT0N試劑中過氧化氫濃度取30%,過氧化氫與硫酸亞鐵摩爾比取101。步驟⑷混凝池(一級混凝池)中控制pH為7.5左右並投加混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM,出水經氣浮池。泥渣以銅鎳的氫氧化物沉澱為主,具有回收價值。步驟(4)中二級混凝池中控制pH為10.5-11加入適量硫化鈉將銅離子轉化為硫化態的沉澱物,然後在加入混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM在斜管沉澱池中沉澱。步驟(4)中砂濾池採用上進水傳統單層快濾池,氣水同時反衝洗。步驟(5)中微電解鐵碳體積比取11,採用下進水方式、穿孔管布水並在運行中配合穿孔管曝氣。汽水比為30。運行一個月左右清理池中汙泥以及餘碳。步驟(5)中的混凝池在pH自控系統的調節下控制pH值為7.5-8.5並混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM。步驟(6)中由pH自控系統根據將來水的pH值調節至10.5左右後,進行混凝沉澱,所得沉澱經濃縮壓濾製成含大量銅的有價泥餅,出水進入氨氮吹脫系統。步驟(6)中混凝池在0RP自控系統的控制下投加硫化鈉完成破絡反應並加入混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM,經斜管沉澱池沉澱。步驟(6)中氨氮吹脫系統由氨氮吹脫塔並聯而成,所謂氨氮吹脫主要是利用噴霧噴頭的作用將液體轉變為粒徑小的液滴與空氣發生傳質作用,降低水中氨氮濃度的方法。氨氮吹脫系統由氨氮吹脫塔並聯而成,氨氮吹脫塔塔殼材質為玻璃鋼,包括壓力維持器、噴霧器、氣液傳質區、進風口、氣液分離器等部分組成。步驟⑷、(6)中pH調節池通過pH自控系統調節pH至6.0-7.0後,出水進入生化進水調節池。步驟(7)中生化進水調節池調節生化系統進水水量,水力停留時間(HRT)為20h,以保證生化段進水的穩定性防止水量波動帶來的處理效果波動。步驟(7)中厭氧池採用懸浮汙泥式,增加水解酸化效果,提高可生化性,HRT設為8h,保證水解酸化徹底進行。步驟(7)中沉澱池中沉澱的厭氧汙泥回流至厭氧池中以維持厭氧池汙泥濃度,沉澱池表面積負荷為1.3m3/(m2h)。步驟(7)中缺氧池HRT為6h並採用低強度曝氣保證溶解氧濃度0.5mg/L以下。步驟(7)中好氧池採用生物接觸氧化和膜生物反應器(MBR)相結合的生化處理工藝。好氧池HRT為16h。好氧池汙泥部分回流至缺氧池和接觸氧化段前端,剩餘汙泥排放至汙泥濃縮池經本發明後,各項出水指標均達到甚至優於《電鍍汙染物排放標準(發布稿)》(GB21900-2008)所規定的要求,可以實現達標排放,並可回收有用金屬資源,在達到環保目的的同時產生經濟效益,降低生產成本。圖1實施例1的直排方法工藝流程圖;圖2實施例2的回用方法工藝流程圖。具體實施例方式下面根據附圖和工程實例做進一步說明。實施例1直排的方法深圳市某電鍍工業園包含了各種電鍍鍍種,其汙水日排放量為3000噸,進水水質指標位表1五種汙水的汙水水質單位mg/Ltableseeoriginaldocumentpage61.含鉻廢水含鉻廢水從調節池進入pH值調節池,然後進入鉻還原池,在還原池內裝有pH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過pH控制系統自動控制酸的加入量,調節廢水的PH為2.53,同時,通過0RP自動控制系統控制還原劑的加入量,使廢水的0RP值達到250-300mV。經還原後的含鉻廢水後增加投鹼設備、pH值調節池、混凝沉澱池、絮凝沉澱池和斜板沉澱池等構築物,在PH值調節池中加入NaOH控制pH值在7.58使三價鉻生成純度較高的氫氧化鉻沉澱,並加入混凝劑和絮凝劑加強沉澱效果,斜板沉澱池得到的氫氧化鉻沉澱汙泥經過濃縮和壓濾後可進一步加熱灼燒製成三氧化二鉻製品。經處理後的廢水排入一股廢水調節池中進行後續處理。2.含氰廢水含氰廢水氧化破氰反應分兩級進行,在兩級氧化池內裝有pH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過pH控制系統自動控制鹼的加入量,調節廢水的pH到11,同時,通過0RP自動控制系統控制氧化劑的加入量,使廢水的0RP值為340mV;在二級氧化池內也裝有PH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過PH控制系統自動控制酸的加入量,調節廢水的PH為7.5-8,同時,通過0RP自動控制系統控制氧化劑的加入量,使廢水的0RP值為640mV。經上述兩步破氰反應後的含氰廢水排入一股廢水調節池,與含鉻廢水、一股電鍍廢水一起進行後續工序的處理。3.一股電鍍廢水(1)微電解-FENT0N試劑處理工藝採用三個微電解池並聯使用,穿孔管布水曝氣。每隔一個月左右定期清理池體。鐵屑和活性炭粒裝填體積比為11將餘碳煅燒可得到大量銅鎳金屬。FENT0N試劑中過氧化氫濃度取30%,投加量為1.2L/m3汙水,過氧化氫與硫酸亞鐵摩爾比取10。(2)混凝氣浮(混凝沉澱工藝)調節pH在7.5-8左右,將大部分殘餘銅離子及一部分鎳離子去除,混凝劑採用PAC,絮凝劑採用PAM。汙泥排入汙泥濃縮池。氣浮採用部分回流加壓溶氣氣浮工藝,回流比為30%。(3)二次沉澱調節pH在10.5-11,將剩餘的鎳離子沉澱。同時加入一定量的硫化鈉,沉澱銅離子。混凝劑採用FeCl3,絮凝劑採用PAM。汙泥排入汙泥濃縮池。汙泥排入汙泥濃縮池。(4)砂濾工藝經氣浮和混凝沉澱處理後的廢水中還可能含有少量的懸浮物和膠體,可以通過砂濾池過濾去除,使出水安全進入膜系統。砂濾池採用上進水單層傳統砂濾池,氣水同時反衝洗。布水為長柄濾頭小阻力配水系統。4.前處理廢水前處理廢水將pH調節至4左右進入微電解池,通過鐵碳兩級間微電解的作用降低COD同時將長鏈有機物斷鏈,提高汙染物的可生化性。出水進入混凝池,在pH計的控制下加入鹼液調節PH值至7.5-8.5,再此pH值下微電解過程中大量帶入的鐵離子可以完全沉澱。混凝後出水進入氣浮、沉澱池,氣浮的作用是去除鐵碳表面帶入的油渣和電鍍工生產藝中間歇排放的油墨廢水所含的油類有機物,沉澱的作用是去除氫氧化鐵等固態沉澱。處理後出水排入生化進水調節池。5.絡合廢水將絡合廢水pH值調節至10.5左右,用硫化鈉破絡,將重金屬離子和配位體分解並形成沉澱分離出來。出水經沉澱後進入氨氮吹脫系統,將廢水中氨氮吹脫出一部分,最後再經過pH回調至中性排入生化進水調節池。6.生化處理系統1)生化進水調節池生化進水調節池同時用作厭氧反應池,停留時間為20h,維持生化工藝進水量。2)厭氧池厭氧池採用懸浮汙泥式,增加水解酸化效果,提高可生化性,HRT設為8h,保證水解酸化徹底進行。3)沉澱池沉澱池中將沉澱的厭氧汙泥回流至厭氧池,提高厭氧池汙泥濃度。4)缺氧池在缺氧池中進行低強度曝氣,但溶解氧不超過0.5mg/L,HRT為6h。5)好氧池好氧池由生物接觸氧化和膜生物反應器(MBR)結合而成,整個好氧池HRT為16h,MBR膜裝置(含自吸泵)處理水量為3000m3/d。處理後水能夠達到甚至超越《電鍍汙染物排放標準(發布稿)》(GB21900-2008)中表3所規定的要求,可以達標排放。實施例2:回用的方法深圳市某電鍍工業園包含了各種電鍍鍍種,其汙水日排放量為5000噸,進水水質指標位表1五種汙水的汙水水質單位mg/Ltableseeoriginaldocumentpage87.含鉻廢水含鉻廢水從調節池進入pH值調節池,然後進入鉻還原池,在還原池內裝有pH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過PH控制系統自動控制酸的加入量,調節廢水的PH為2.53,同時,通過0RP自動控制系統控制還原劑的加入量,使廢水的0RP值達到250-300mV。經還原後的含鉻廢水後增加投鹼設備、pH值調節池、混凝沉澱池、絮凝沉澱池和斜板沉澱池等構築物,在PH值調節池中加入NaOH控制pH值在7.58使三價鉻生成純度較高的氫氧化鉻沉澱,並加入混凝劑和絮凝劑加強沉澱效果,斜板沉澱池得到的氫氧化鉻沉澱汙泥經過濃縮和壓濾後可進一步加熱灼燒製成三氧化二鉻製品。經處理後的廢水排入一股廢水調節池中進行後續處理。8.含氰廢水含氰廢水氧化破氰反應分兩級進行,在兩級氧化池內裝有pH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過pH控制系統自動控制鹼的加入量,調節廢水的pH到11,同時,通過0RP自動控制系統控制氧化劑的加入量,使廢水的0RP值為340mV;在二級氧化池內也裝有PH自動控制系統和0RP自動控制系統各一套,通過PH控制系統自動控制酸的加入量,調節廢水的PH為7.5-8,同時,通過0RP自動控制系統控制氧化劑的加入量,使廢水的0RP值為640mV。經上述兩步破氰反應後的含氰廢水排入一股廢水調節池,與含鉻廢水、一股電鍍廢水一起進行後續工序的處理。9.一股電鍍廢水(5)微電解-FENTON試劑處理工藝採用三個微電解池並聯使用,穿孔管布水曝氣。每隔一個月左右定期清理池體。鐵碳裝填體積比為11將餘碳煅燒可得到大量銅鎳金屬。FENTON試劑中過氧化氫濃度取30%,投加量為1.2L/m3汙水,過氧化氫與硫酸亞鐵摩爾比取10。(6)混凝氣浮(混凝沉澱工藝)調節pH在7.5-8左右,將大部分殘餘銅離子及一部分鎳離子去除,混凝劑採用PAC,絮凝劑採用PAM。汙泥排入汙泥濃縮池。氣浮採用部分回流加壓溶氣氣浮工藝,回流比為30%。(7)二次沉澱調節pH在10.5-11,將剩餘的鎳離子沉澱。同時加入一定量的硫化鈉,沉澱銅離子。混凝劑採用FeCl3,絮凝劑採用PAM。汙泥排入汙泥濃縮池。(8)砂濾工藝經氣浮和混凝沉澱處理後的廢水中還可能含有少量的懸浮物和膠體,可以通過砂濾池過濾去除,使出水安全進入膜系統。砂濾池採用上進水單層傳統砂濾池,氣水同時反衝洗。布水為長柄濾頭小阻力配水系統。(9)膜處理工藝步驟(4)所述處理水進入中間水池,經加壓泵增壓後進入保安過濾器,再經過超濾膜裝置處理後,經高壓泵加壓進入反滲透裝置,反滲透出水排入清水池中,可供回用。超濾的濃廢液排入前處理廢水調節池,反滲透的濃廢液排入RO濃廢水調節池。整個系統採用上位機對系統的運行進行監測,可編程邏輯控制器(PLC)同時完成電氣和儀表的自動控制和監測,每一級濃縮系統均在線監測pH、TDS、溫度和流量。而且,液位、壓力、溫度、電動球閥同泵之間進行連鎖。水箱設置低液位控制,水箱液位太低時自動控制增壓泵停止運行。高壓泵前設置低壓開關,當給水流量和壓力出現反常時,高壓泵將自動停止,以保護高壓泵和膜元件。在膜濃水側配置自動控制的電動球閥,在膜系統運行前、停機後進行低壓衝洗,以清除膜表面的汙染物,置換壓力管內的濃水和趕走膜元件中的空氣。膜系統定時用膜透過液衝洗25min,以減少濃差極化發生和衝洗膜面累積的汙染物。表2回用水出水水質檢測結果單位mg/Ltableseeoriginaldocumentpage1010.前處理廢水前處理廢水和UF濃水將pH調節至4左右進入微電解池,通過鐵碳兩級間微電解的作用降低COD同時將長鏈有機物斷鏈,提高汙染物的可生化性。出水進入混凝池,在pH計的控制下加入鹼液調節PH值至7.5-8.5,再此pH值下微電解過程中大量帶入的鐵離子可以完全沉澱。混凝後出水進入氣浮沉澱兩用池,氣浮的作用是去除鐵碳表面帶入的油渣和電鍍工生產藝中間歇排放的油墨廢水所含的油類有機物,沉澱的作用是去除氫氧化鐵等固態沉澱。處理後出水排入生化進水調節池。11.絡合廢水將絡合廢水pH值調節至10.5左右,用硫化鈉破絡,將重金屬離子和配位體分解並形成沉澱分離出來。出水經沉澱後進入氨氮吹脫系統,將廢水中氨氮吹脫出一部分,最後再經過PH回調至中性排入生化進水調節池。12.RO濃廢水RO濃水中含有被截留下來金屬離子和部分C0D,可能會影響生化反應,將RO濃水pH調節至8-8.5,在混凝池中投加硫化鈉將金屬離子共沉並加入混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM,出水經沉澱後排入pH調節池與吹脫後的絡合廢水混合後調pH至6-7,出水排入生化進水調節池。13.生化處理系統1)生化進水調節池生化進水調節池同時用作厭氧反應池,停留時間為20h,維持生化工藝進水量。2)厭氧池厭氧池採用懸浮汙泥式,增加水解酸化效果,提高可生化性,HRT設為8h,保證水解酸化徹底進行3)沉澱池沉澱池中將沉澱的厭氧汙泥回流至厭氧池,提高厭氧池汙泥濃度。4)缺氧池在缺氧池中進行低強度曝氣,但溶解氧不超過0.5mg/L,HRT為6h。5)好氧池好氧池由生物接觸氧化和膜生物反應器(MBR)結合而成,整個好氧池HRT為16h,MBR膜裝置(含自吸泵)處理水量為3000m3/d。處理後水能夠達到甚至超越《電鍍汙染物排放標準(發布稿)》(GB21900-2008)中表3所規定的要求,可以達標排放。權利要求一種電鍍廢水處理及重金屬回收工藝,其特徵是包括如下步驟(1)採用分流制排水管網,將電鍍廢水分為含鉻廢水、含氰廢水、一般電鍍廢水、前處理廢水、絡合廢水五種;各類分水經過各自不同的預處理過程後進入生化處理段集中處理,處理後出水實現達標排放;(2)步驟(1)中絡合廢水含氨氮濃度較高,採用吹脫的方式去除氨氮;(3)步驟(1)中含鉻廢水經還原處理後進入一般廢水調節池;(4)步驟(1)中含氰廢水經二級破氰後進入一般廢水調節池;(5)步驟(1)中一般電鍍廢水在一般電鍍廢水調節池中與步驟(3)、(4)中出水混合經微電解芬頓處理後出水調節pH後進入生化處理工藝;(6)步驟(1)中前處理廢水經微電解、氣浮、沉澱進行處理;(7)步驟(2)、(6)中處理後出水經pH調節後進入生化進水調節池;(8)步驟(7)中出水經厭氧池、沉澱池、缺氧池、好氧池處理後達標排放。2.如權利要求1所述的電鍍廢水處理及重金屬回收工藝,其特徵是所述的步驟(5)的方法如下(a)將權利要求1中步驟(1)中一般電鍍廢水在一般電鍍廢水調節池中與步驟(3)、(4)中出水混合經微電解芬頓處理後進入膜處理系統,處理後出水進行回用;(b)膜處理系統中超濾(UF)濃水進入前處理廢水調節池;(c)膜處理系統中反滲透(R0)濃水通過混凝沉澱進行處理;(d)將前處理廢水與步驟(b)中UF濃水於前處理廢水調節池中混合後經微電解、氣浮、沉澱進行處理。3.如權利要求1或2所述的電鍍廢水處理及重金屬回收工藝,其特徵是所述的步驟(1)中生化處理段工藝生化進水調節池HRT為20h;採用懸浮汙泥式厭氧池HRT為8h;沉澱池汙泥回流至厭氧池,出水依次進入缺氧池和好氧池;缺氧池HRT為6h,好氧池HRT為16h,好氧池分為兩段,前端為接觸氧化段,後段為MBR段,好氧池中汙泥和硝化液均回流至缺氧池,剩餘汙泥濃縮後製成有價泥餅,MBR出水達標排放。4.如權利要求1或2所述的電鍍廢水處理及回用方法,其特徵是所述的步驟(2)中氨氮吹脫將絡合廢水PH值調節至10.5,用硫化鈉破絡,出水經沉澱後進入氨氮吹脫系統,氨氮吹脫系統由氨氮吹脫塔並聯而成,氨氮吹脫塔利用噴頭的噴霧作用將含氨氮廢水轉化為類霧狀液滴,在與空氣的接觸過程中通過傳質作用降低水中氨氮濃度。包括壓力維持器、噴霧器、氣液傳質區、進風口、氣液分離器等部分。5.權利要求1或2所述的電鍍廢水處理及重金屬回收工藝,其特徵是所述步驟(1)中含鉻廢水經二級還原反應後,經pH調節池時加入氫氧化鈉控制pH值在7.5-8之間,使得三價鉻生成純度較高的氫氧化鉻沉澱;一般電鍍廢水調節池中出水經微電解芬頓反應後以FeCl3、PAM為混凝劑和絮凝劑,泥渣以銅鎳的氫氧化物沉澱為主,具有回收價值,二級混凝池以硫化鈉為沉澱劑,配合混凝劑FeCl3和絮凝劑PAM經過斜管沉澱池回收金屬銅。全文摘要本發明涉及一種綜合電鍍廢水的處理方法,首先將電鍍廢水進行分水,通過對所分的每股水進行針對性處理,在提高處理效率的同時可以提高重金屬資源的回收利用率。其次鐵碳的微電解作用在去除COD的同時可以破除絡合物,提高可生化性,為後續的生化反應提供保障,而且鐵碳的置換作用也可以置換水中重金屬離子,回收重金屬資源。同時通過氫氧化物和硫化物沉澱法的結合運用,還可將水中殘留的重金屬離子回收。在其基礎上經過超濾和反滲透作用,水質可以達到標準。總硬度和電導率優於自來水水質。並可回收有用金屬資源,在達到環保目的的同時產生經濟效益,降低生產成本。文檔編號C02F3/30GK101830600SQ20101013042公開日2010年9月15日申請日期2010年3月23日優先權日2010年3月23日發明者劉然,周冬冬,孫寶盛,朱文亭,牟潔,陽習龍,齊庚申申請人:天津大學

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一種pe滾塑儲槽的製作方法

專利名稱:一種pe滾塑儲槽的製作方法技術領域:一種PE滾塑儲槽一、 技術領域 本實用新型涉及一種PE滾塑儲槽,主要用於化工、染料、醫藥、農藥、冶金、稀土、機械、電子、電力、環保、紡織、釀造、釀造、食品、給水、排水等行業儲存液體使用。二、 背景技術 目前,化工液體耐腐蝕貯運設備,普遍使用傳統的玻璃鋼容

釘的製作方法

專利名稱:釘的製作方法技術領域:本實用新型涉及一種釘,尤其涉及一種可提供方便拔除的鐵(鋼)釘。背景技術:考慮到廢木材回收後再加工利用作業的方便性與安全性,根據環保規定,廢木材的回收是必須將釘於廢木材上的鐵(鋼)釘拔除。如圖1、圖2所示,目前用以釘入木材的鐵(鋼)釘10主要是在一釘體11的一端形成一尖

直流氧噴裝置的製作方法

專利名稱:直流氧噴裝置的製作方法技術領域:本實用新型涉及ー種醫療器械,具體地說是ー種直流氧噴裝置。背景技術:臨床上的放療過程極易造成患者的局部皮膚損傷和炎症,被稱為「放射性皮炎」。目前對於放射性皮炎的主要治療措施是塗抹藥膏,而放射性皮炎患者多伴有局部疼痛,對於止痛,多是通過ロ服或靜脈注射進行止痛治療

新型熱網閥門操作手輪的製作方法

專利名稱:新型熱網閥門操作手輪的製作方法技術領域:新型熱網閥門操作手輪技術領域:本實用新型涉及一種新型熱網閥門操作手輪,屬於機械領域。背景技術::閥門作為流體控制裝置應用廣泛,手輪傳動的閥門使用比例佔90%以上。國家標準中提及手輪所起作用為傳動功能,不作為閥門的運輸、起吊裝置,不承受軸向力。現有閥門

用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置的製作方法

專利名稱:用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置的製作方法背景技術:1-本發明所屬領域本發明涉及一種用來自動讀取管狀容器所載識別碼的裝置,其中的管狀容器被放在循環於配送鏈上的文檔匣或託架裝置中。本發明特別適用於,然而並非僅僅專用於,對引入自動分析系統的血液樣本試管之類的自動識別。本發明還涉及專為實現讀