舌清潔裝置的製作方法

2023-09-22 23:47:10

專利名稱：舌清潔裝置的製作方法
技術領域：
本公開涉及一種舌清潔裝置的頭部，包括具有至少一個突出部的機械舌清潔部分。更具體地，本公開還涉及一種包括頭部的舌清潔裝置，包括具有至少一個突出部的機械舌清潔部分。
背景技術：
口臭是舌主要被厭氧細菌汙染的結果。當細菌留在舌上時，這些細菌的厭氧呼吸可產生許多難聞的氣味。為了抑制舌發出的惡臭，必須要從舌上除去細菌。薄荷糖、口腔噴
齊U、漱口水或口香糖通常僅提供暫時的緩解，因為舌表面非常粗糙並且細菌可隱藏在凹陷和裂縫中。為了提供更好的清潔，淨舌器或刮舌器已知用於收集和移除舌的細菌層。符合人類工程學的淨舌器根據舌的解剖特點而成型，並且被優化以颳起和捕捉斑塊包覆物並且有效地清潔舌面。有許多不同類型和樣式的淨舌器，其由塑料、金屬或其它材料製成。大多數淨舌器一般可被描述成勺形的，其包括頭部和柄部，同時在它們的頭部具有在操作時面向舌的用於刮擦舌的多個肋。然而問題依舊存在，即大量的細菌駐留在舌的乳突間的凹陷和裂縫中傳播惡臭，即使在用已知的淨舌器清潔舌之後依然如此。

發明內容
在一個實施方案中，提供了一種用於舌清潔裝置的頭部。所述頭部包括機械舌清潔部分和舌清潔電極。機械舌清潔電極包括清潔突出部。在運行期間，舌清潔電極用於使電流能夠流入使用者的舌中。在另一個實施方案中，提供了一種舌清潔裝置。舌清潔裝置包括頭部和舌清潔電極，所述頭部具有舌清潔部分，並且在運行期間，所述舌清潔電極用於使電流能夠流入使用者的舌中。所述裝置還包括柄部、接觸電極和能量源，其中所述接觸電極在使用狀態下用於使電流能夠流入使用者的身體中。能量源電連接到接觸電極並且電連接到舌清潔電極，使得在使用狀態下使電流能夠通過使用者的身體在接觸電極和舌清潔電極之間流動。在另一個實施方案中，提供了一種用於清潔人類或動物的舌的方法。所述方法包括以下步驟接近舌並提供離子抗菌劑、提供從第一電極流至舌並通過舌的電流，其中所述電流至少部分地由離子抗菌劑提供。所述方法還包括機械刮擦舌的步驟，其中優選的是該步驟與提供電流同時執行。對於本領域的技術人員而言，通過閱讀本說明書的公開內容，特定實施方案的這些和其它特徵、方面和優點將變得顯而易見。


圖中描述的實施方案是例證性的，並不旨在限制由權利要求書所限定的本發明。對以下例證性實施方案的詳述可通過參照下列附圖得到理解，其中類似的結構用類似的附圖標號來指示，並且其中圖I為舌清潔裝置的第一示例性實施方案的正視圖。圖2示出了圖I所示的舌清潔裝置的側視圖。圖3為舌清潔裝置的第二示例性實施方案的正視圖。圖4為舌清潔裝置的第三示例性實施方案的正視圖。圖5為舌清潔裝置的第四示例性實施方案的正視圖。圖6為舌清潔裝置的第五示例性實施方案的正視圖。圖7為舌清潔裝置的第六示例性實施方案的正視圖。
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圖8為如圖7所示的實施方案的舌清潔裝置的頭部的剖面圖。圖9為舌清潔裝置的第七示例性實施方案的正視圖。圖10為如圖9所示的舌清潔裝置的頭部的剖面圖。圖11為舌清潔裝置的第八示例性實施方案的正視圖。圖12為舌清潔裝置的頭部的一個可供選擇的示例性實施方案的正視圖。圖13為根據本公開的頭部的一個示例性實施方案的剖面圖。
具體實施例方式以下文字闡述了本公開的眾多不同實施方案的廣義說明。本說明旨在被理解為僅是示例性的，而並非描述每一種可能的實施方案，因為描述每一種可能的實施方案是不可能的也是不切實際的。應當理解，本文所述的任何特徵、特性、組件、組成、成分、產品、步驟或方法均可被刪掉、整個或部分地與本文所述的任何其它特徵、特性、組件、組合物、成分、產品、步驟或方法相組合或由後者取代。可使用本技術或在本專利的提交日期之後研發的仍然屬於本權利要求書範圍的技術來實施眾多可供選擇的實施方案。本文引用的所有公布和專利均以引用方式併入本文。根據本公開，希望提供一種能夠更有效地清潔舌的舌清潔裝置。本公開的舌清潔裝置的頭部滿足了該願望。根據一個實施方案，舌清潔裝置或所公開的相應的頭部包括機械舌清潔部分和舌清潔電極，所述舌清潔部分具有至少一個清潔突出部，並且所述舌清潔電極在使用時用於使電流能夠流入使用者的舌中。本公開的舌清潔裝置的頭部不僅能夠機械刮擦舌，而且能夠用於以電泳為基礎的電驅動的清潔方法。根據一個實施方案，舌清潔裝置包括頭部並且還包括具有接觸電極和能量源的柄部，其中在使用時接觸電極使電流能夠通過使用者的身體流動(通常為手部，但電流可通過使用者的嘴唇流動，這取決於接觸電極的位置)，其中所述能量源電耦接到接觸電極並且電耦接到舌清潔電極，使得在運行中，電流可從柄部中的電極通過使用者的身體至頭部中的電極，反之亦然。如本文所用，術語「電耦接」應當包括其中在電耦接器中存在選擇元件例如通/斷按鈕以選擇性地轉換電耦接器通或斷的各實施方案。柄部中的接觸電極和頭部中的舌清潔電極的布置允許電流通過使用者的身體從一個電極至另一個電極。當與細菌開始接觸時，舌上的細菌可用包括具有抗菌性的離子的抗菌劑進行處理。可在例如施用到使用者口中的清潔物質如牙粉或漱口液中提供抗菌劑。
在一個實施方案中，清潔物質或抗菌劑可作為舌清潔裝置的整體部分提供，例如提供在接近於舌清潔電極設置的凝膠軟墊中。在另一個實施方案中，可用電離水來攻擊細菌，而不用添加抗菌物質。在另一個實施方案中，舌清潔電極本身可提供抗菌離子，例如當舌清潔電極由銀或含銀合金製成時。組合的機械刮擦連同將抗菌離子有效地傳送到細菌將有效地改善舌的清潔。在一個實施方案中，舌清潔電極接觸舌的表面與機械舌清潔部分位於頭部的同一側上，使得它們的表面法線至少部分地面向同一方向，即在使用時朝向舌。換句話講，將舌清潔電極和機械舌清潔部分布置成使得它們同時與使用者的舌接觸。當然所施加電流的極性將取決於抗菌劑的電荷以便使抗菌劑有效地流入舌的凹陷和裂縫中。例如，當採用帶正電離子(陽離子)時，那麼舌清潔電極必須帶正電(對抗接觸電極)以朝向舌有效地驅動陽離子。電流強度和極性可由使用者手動調節，例如通過在舌清潔裝置處提供的一個或幾個控制元件。可減小電流強度以允許使用者熟悉所述裝置並且稍後選擇最佳的強度。如果使用者的舌部非常敏感，則因此可減小電流強度；或者如果使 用者患有強烈的口臭，則可採用較高的電流強度。在一個實施方案中，所施加的電流為恆定的直流電流。作為另外一種選擇，可採用交流或脈衝電流以便優化舌的清潔。在另一個實施方案中，可採用周期變化的直流電流極性。為了將通過使用者身體時的電流限制到生理上無害或令使用者感到舒適的水平，可將能量源布置成使得它限制所述電流。在一個實施方案中，由能量源提供的通過使用者的身體的電流處於約20 μ A至約700 μ A的範圍內，並且在另一個實施方案中介於約50 μ A和約400 μ A之間。在發明人的體驗中，超過約80 μ A的水平似乎會在使用者身上產生令人不悅的感覺、觸電感和/或口酸並且在有些情況下產生疼痛。然而，可能期望施用更大的離子電流水平以提高此類舌清潔裝置的功效。因此，期望能夠增強離子微電流水平而在此類裝置和方法的使用者身上不會引起令人不悅的感覺。例如，可採用在一段時間內將微電流的水平從啟動電流增加到結束電流的斜波電流控制。在一個實施方案中，在電極間施加的電壓差在約8伏特至約20伏特的範圍內變化。具體地，所施加的電壓差可具有8伏、10伏、12伏、14伏、16伏、18伏或20伏的值。在另一個實施方案中，舌清潔電極為板狀電極。在這裡，術語「板狀」是指舌清潔電極為非結構化的。它將不排除舌清潔電極具有例如適應於舌清潔裝置的外表面的曲率。在一個實施方案中，機械舌清潔部分在其上延伸的區域與舌清潔電極在其上延伸的區域至少部分地空間重疊。這保證當用頭部的機械舌清潔部分機械刮擦舌時，電流可被施用到舌上，從而能夠同時進行利用電泳的上述清潔過程。在另一個實施方案中，機械清潔部分和舌清潔電極在頭部上的區域是相同的並且完全重疊。在另一個實施方案中，機械舌清潔部分包括多個清潔突出部。那些清潔突出部可具有能夠有效地刮擦舌的各種樣式以用於從舌上機械除去細菌。清潔突出部可具有肋或瘤狀物的形狀，但這將不排除採用任何其它形狀。就本文而言，術語清潔突出部將排除長絲例如用作牙刷中的刷毛的長絲。與依照定義的清潔突出部相比，本文所用的長絲具有附加的自由度以便撓曲。另一方面，清潔突出部具有跟隨載體的運動並且傳遞顯著的力量以便有效地刮擦舌的功能。對於本公開的特定應用而言，顯著的彎曲將妨礙功能性。依照本公開的清潔突出部跟隨載體的運動並且不允許任何內部撓曲或僅允許有限的內部撓曲。
由尼龍或其它塑性材料製造的牙刷中的長絲通常具有約400至約800Hz的自然泛音。它們可用熟知的公式進行計算
權利要求
1.一種用於舌清潔裝置的頭部，所述頭部包括 具有清潔突出部的機械舌清潔部分；和在運行期間用於使電流能夠流入使用者的舌中的舌清潔電極。
2.如權利要求I所述的頭部，其中所述機械舌清潔部分和所述舌清潔電極被布置成使得在運行期間，它們能夠同時與使用者的舌接觸。
3.如權利要求I所述的頭部，其中所述舌清潔電極為板狀電極。
4.如權利要求I所述的頭部，其中所述機械舌清潔部分在其上延伸的區域與所述舌清潔電極在其上延伸的區域至少部分地空間重疊。
5.如權利要求I所述的頭部，其中所述清潔突出部為弧形肋。
6.如權利要求I所述的頭部，其中所述清潔突出部由軟的塑性材料形成。
7.如權利要求I所述的頭部，其中所述舌清潔電極形成所述機械舌清潔部分的至少一部分。
8.如權利要求I所述的頭部，其中所述舌清潔電極形成所述清潔突出部的至少一部分。
9.如權利要求I所述的頭部，其中所述清潔突出部具有在約O.Imm至約2mm範圍內的高度。
10.如權利要求I所述的頭部,其中所述清潔突出部具有在約O.Imm至約3mm範圍內的覽度。
11.如權利要求I所述的頭部，其中所述機械舌清潔部分具有多個清潔突出部，所述多個清潔突出部被布置成具有介於約5個突出部/cm2和約50個突出部/cm2之間的密度。
12.如權利要求11所述的頭部，其中所述清潔突出部由所述舌清潔電極的結構形成，並且被施用到所述舌清潔電極上的電絕緣材料彼此分開。
13.如權利要求8所述的舌清潔裝置的頭部，其中所述至少一個清潔突出部的面積與所述舌清潔電極的總面積的比率在約1%和約50%之間的範圍內。
14.如權利要求I所述的頭部，其中在所述舌清潔電極所位於的部分中，所述頭部的總厚度小於約15mm。
15.一種舌清潔裝置，所述舌清潔裝置包括 頭部，所述頭部具有機械舌清潔部分；和在運行期間用於使電流能夠流入使用者的舌中的舌清潔電極； 柄部； 在使用狀態下使電流能夠流入使用者的身體中的接觸電極；和能量源； 其中所述能量源被電連接到所述接觸電極以及電連接到所述舌清潔電極，使得在使用狀態下，電流能夠在所述接觸電極和所述舌清潔電極之間通過使用者的身體。
全文摘要
本發明公開了一種用於舌清潔裝置(1)的頭部(2)。所述頭部包括機械舌清潔部分(8)和舌清潔電極(7)。機械舌清潔部分包括清潔突出部。在運行期間，舌清潔電極使電流能夠流入使用者的舌中。
文檔編號A61B19/00GK102883669SQ201180022473
公開日2013年1月16日 申請日期2011年5月3日 優先權日2010年5月6日
發明者諾貝特·謝弗, 弗拉迪米爾·加爾斯滕, 唐納德·詹姆斯·小懷特 申請人:博朗有限公司