夾持裝置、組件和光刻投影設備的製作方法
2023-09-25 03:38:00 1
專利名稱：夾持裝置、組件和光刻投影設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種夾持裝置、包括這種夾持裝置的組件以及包括這種組件的光刻投影設備。
背景技術：
光刻投影設備是一種將所需圖案應用到襯底上，通常是襯底的目標部分上的機器。光刻投影設備可用於例如集成電路(IC)製造過程中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用於生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案。可以將該圖案轉移到襯底(例如，矽晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，通過將圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而實現圖案的轉移。通常，單個襯底將包括相鄰目標部分的網絡，所述相鄰目標部分被連續地圖案化。光刻技術被廣泛地看作製造IC和其他器件和/或結構的關鍵步驟之一。然而， 隨著通過使用光刻技術製造的特徵的尺寸變得越來越小，光刻技術正變成允許製造微型IC或其他器件和/或結構的更加關鍵的因素。圖案印刷的極限的理論估計可以由用於解析度的瑞利法則給出，如等式(I)所示CD = L *—(I)
1 NA其中λ是所用輻射的波長，NA是用以印刷圖案的投影系統的數值孔徑，Ic1是依賴於工藝的調節因子，也稱為瑞利常數，CD是印刷的特徵的特徵尺寸(或臨界尺寸)。由等式
(I)知道，特徵的最小可印刷尺寸的減小可以由三種途徑實現通過縮短曝光波長λ、通過增大數值孔徑NA或通過減小Ic1的值。為了縮短曝光波長，並因此減小最小可印刷尺寸，已經提出使用極紫外(EUV)輻射。EUV輻射是波長在5-20nm範圍內的電磁輻射，例如在13-14nm範圍內。進一步地，已經提出，可以使用波長小於IOnm的EUV輻射，例如波長在5-lOnm範圍內，諸如6. 7nm或6. 8nm。這種輻射稱為極紫外輻射或者軟X射線輻射。可用的源包括例如雷射產生的等離子體源、放電等離子體源或基於由電子存儲環提供的同步加速器輻射的源。可以通過使用等離子體產生EUV輻射。構造用於產生EUV輻射的輻射系統可以包括用於激發燃料以提供等離子體的雷射器以及用於容納等離子體的源收集器設備。等離子體可以例如通過引導雷射束至燃料來產生，燃料是例如合適材料(例如錫)的顆粒，或合適氣體或蒸汽的流，例如氙(Xe)氣或鋰(Li)蒸汽。最終的等離子體發射輻射，例如EUV輻射，其通過使用輻射收集器收集。輻射收集器可以是正入射輻射收集器，其接收輻射並將輻射聚焦成束。源收集器設備可以包括包圍結構或腔，布置成提供真空環境以支持等離子體。這種輻射系統通常稱為雷射產生等離子體(LPP)源。可選地，可以通過在例如陰極和陽極之間的電場中噴射燃料液體液滴來生成等離子體。當液滴在預定位置處時，它被雷射碰撞並且被蒸發。然後，在陰極和陽極之間發生放電，產生發射EUV輻射的等離子體。通常，構造用於產生EUV輻射的輻射系統與光刻投影設備分開製造。這意味著，在光刻投影設備能夠使用之前，需要對準和連接輻射系統和光刻投影設備。需要大量的空間和電子裝置來手動地彼此對準輻射系統與光刻投影設備以及相互連接輻射系統和光刻投影設備。由於輻射系統和/或光刻投影設備的其他部件的存在，因此可能不能獲得這樣的空間。
發明內容
期望限制對準和連接輻射系統和光刻投影設備所涉及的電子裝置的數量。本發明一方面提供一種夾持裝置，構造和布置用於將兩個部件夾持在一起，所述夾持裝置包括對準機構或對準器，構造和布置用於將兩個部件相對於彼此設置在對準位 置；夾持機構或夾持器，構造和布置用於將兩個部件保持在對準位置；分離機構或者分離器，構造和布置成引導兩個部件離開對準位置至分離位置；以及致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能，其中所述對準機構(對準器)、夾持機構(夾持器)以及分離機構(分離器)被構造和布置成被致動器驅動。本發明的還一方面提供一種夾持裝置，構造和布置用於將兩個部件夾持在一起，所述夾持裝置包括對準機構或對準器，構造和布置用於將兩個部件相對於彼此設置在對準位置；夾持機構或夾持器，構造和布置用於將兩個部件保持在對準位置；分離機構或者分離器，構造和布置成與夾持機構一起操作將兩個部件引導離開對準位置至分離位置；以及致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能，其中所述對準機構(對準器)、夾持機構(夾持器)以及分離機構(分離器)被構造和布置成被致動器驅動。所述夾持裝置可以包含在一組件中，所述組件包括照射系統和輻射源，其中所述夾持裝置被構造和布置用於將照射系統和輻射源夾持在一起。所述組件可以包含在一光刻投影設備中。
現在參照隨附的示意性附圖，僅以舉例的方式，描述本發明的實施例，其中，在附圖中相應的附圖標記表示相應的部件，且其中圖I示出根據本發明一個實施例的光刻投影設備；圖2是圖I中的設備的更詳細的視圖；圖3是圖I中的設備的源收集器設備的實施例的更詳細的視圖；圖4是夾持裝置的實施例的透視圖；圖5是圖4中的夾持裝置的俯視圖；圖6是圖4中的夾持裝置的側視圖；圖7是圖4-6中的夾持裝置的變更實施方式的透視圖；圖8是圖7中的夾持裝置的側視圖；圖9是圖4-6中的夾持裝置的另一變更實施方式的透視圖；以及圖10是圖9中的夾持裝置的側視圖。
具體實施例方式圖I示意地示出了根據本發明一個實施例的包括源收集器設備SO的光刻投影設備100。所述光刻投影設備包括照射系統(照射器)IL，其配置成調節輻射束B (例如EUV輻射)；支撐結構(例如掩模臺)MT，其構造用於支撐圖案形成裝置(例如掩模或掩模版)MA,並與配置用於精確地定位圖案形成裝置的第一定位裝置PM相連；襯底臺(例如晶片臺)WT，其構造用於保持襯底(例如塗覆有抗蝕劑的晶片)W，並與配置用於精確地定位襯底的第二定位裝置PW相連；和投影系統(例如反射式投影系統)PS,其配置成用於將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標部分C (例如包括一根或多根管芯)上。照射系統可以包括各種類型的光學部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型或其它類型的光學部件、或其任意組合，以引導、成形、或控制輻射。所述支撐結構MT以依賴於圖案形成裝置的方向、光刻投影設備的設計以及諸如例如圖案形成裝置是否保持在真空環境中等其他條件的方式保持圖案形成裝置MA。所述支撐結構可以採用機械的、真空的、靜電的或其它夾持技術保持圖案形成裝置。所述支撐結構 可以是框架或臺，例如，其可以根據需要成為固定的或可移動的。所述支撐結構可以確保圖案形成裝置位於所需的位置上(例如相對於投影系統)。術語「圖案形成裝置」應該被廣義地理解為表示能夠用於將圖案在輻射束的橫截面上賦予輻射束、以便在襯底的目標部分上形成圖案的任何裝置。被賦予輻射束的圖案可以與在目標部分上形成的器件中的特定的功能層相對應，例如集成電路。圖案形成裝置可以是透射式或反射式的。圖案形成裝置的示例包括掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術中是公知的，並且包括諸如二元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型。可編程反射鏡陣列的示例採用小反射鏡的矩陣布置，每一個小反射鏡可以獨立地傾斜，以便沿不同的方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束。與照射系統類似，投影系統可以包括多種類型的光學部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型光學部件、或其它類型的光學部件，或其任意組合，如對於所使用的曝光輻射所適合的、或對於諸如使用真空之類的其他因素所適合的。希望將真空環境用於EUV輻射，這是因為其他氣體會吸收太多的輻射。因此藉助真空壁和真空泵可以在整個束路徑上提供真空環境。如圖所示，所述設備是反射型的(例如採用反射掩模)。光刻投影設備可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和/或兩個或更多的掩模臺)的類型。在這種「多臺」機器中，可以並行地使用附加的臺，或可以在一個或更多個臺上執行預備步驟的同時，將一個或更多個其它臺用於曝光。參照圖1，所述照射器IL接收從源收集器設備SO發出的極紫外(EUV)輻射束。產生EUV光的方法包括但不必限於將材料轉換為等離子體狀態，該材料具有至少一個元素(例如氙、鋰或錫)，其在EUV範圍內具有一個或多個發射線。在一種通常稱為雷射產生等離子體(「LPP」)的這樣的方法中，所需的等離子體可以通過用雷射束照射燃料來產生，其中燃料可以例如是具有所需發射線的元素的材料的液滴、流或簇。源收集器設備SO可以是包括用於提供激發燃料的雷射束的雷射器(圖I中未示出)的EUV輻射系統的一部分。最終的等離子體發射輸出輻射，例如EUV輻射，其通過使用設置在源收集器設備內的輻射收集器而被收集。雷射器和源收集器設備可以是分立的實體(例如當使用CO2雷射器提供用於燃料激發的雷射束時)。在這種情況下，不會將雷射器考慮成形成光刻設備的一部分，並且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統的幫助，將所述輻射束從雷射器傳到源收集器設備。在其它情況下，所述源SO可以是源收集器設備的組成部分(例如當所述源是放電產生的等離子體EUV產生器(通常稱為DPP源)時)。所述照射器IL可以包括用於調整所述輻射束的角強度分布的調整器。通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述外部和/或內部徑向範圍(一般分別稱為σ-外部和ο-內部)進行調整。此外，所述照射器IL可以包括各種其它部件，例如琢面場和光瞳反射鏡裝置。可以將所述照射器用於調節所述輻射束，以在其橫截面中具有所需的均勻性和強度分布。所述輻射束B入射到保持在支撐結構(例如，掩模臺MT)上的所述圖案形成裝置 (例如，掩模)MA上，並且通過所述圖案形成裝置來形成圖案。已經被圖案形成裝置(例如，掩模)MA反射後，所述輻射束B通過投影系統PS，所述投影系統將輻射束聚焦到所述襯底W的目標部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器PS2 (例如，幹涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標部分C定位於所述輻射束B的路徑中。類似地，可以將所述第一定位裝置PM和另一個位置傳感器PSl用於相對於所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置(例如，掩模)ΜΑ。可以使用掩模對準標記Ml、M2和襯底對準標記P1、P2來對準圖案形成裝置(例如，掩模)MA和襯底W。示出的設備可以用於下列模式中的至少一種I.在步進模式中，在將支撐結構(例如掩模臺)MT和襯底臺WT保持為基本靜止的同時，將賦予所述輻射束的整個圖案一次投影到目標部分C上(B卩，單一的靜態曝光)。然後將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標部分C曝光。2.在掃描模式中，在對支撐結構(例如掩模臺)MT和襯底臺WT同步地進行掃描的同時，將賦予所述輻射束的圖案投影到目標部分C上(B卩，單一的動態曝光)。襯底臺WT相對於支撐結構(例如掩模臺)MT的速度和方向可以通過所述投影系統PS的(縮小)放大率和圖像反轉特徵來確定。3.在另一個模式中，將用於保持可編程圖案形成裝置的支撐結構(例如掩模臺)MT保持為基本靜止，並且在對所述襯底臺WT進行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束的圖案投影到目標部分C上。在這種模式中，通常可以採用脈衝輻射源，並且在所述襯底臺WT的每一次移動之後、或在掃描期間的連續輻射脈衝之間，根據需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易於應用於利用可編程圖案形成裝置(例如，如上所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻術中。也可以採用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。圖2更詳細地示出設備100，包括源收集器設備S0、照射系統IL以及投影系統PS。源收集器設備SO構造並布置成使得在源收集器設備SO的包圍結構220內可以保持真空環境。發射EUV輻射的等離子體210可以由放電產生等離子體源形成。EUV輻射可以通過氣體或蒸汽，例如Xe氣體、Li蒸汽或Sn蒸汽來產生,在所述氣體或蒸汽中非常高溫的等離子體210被產生以發射電磁光譜中EUV範圍內的輻射。通過例如引起至少部分電離的等離子體的放電來產生非常高溫的等離子體210。對於有效地產生輻射來說，可能需要例如IOPa的分壓的Xe、Li、Sn蒸汽或者任何其他合適的氣體或蒸汽。在一實施例中，提供被激發的錫(Sn)的等離子體,用於產生EUV福射。由高溫等離子體210發射的輻射從源腔211、經由可選的氣體阻擋件或汙染物阱230 (在某些情況中也被稱為汙染物阻擋件或者翼片阱)傳播到收集器腔212中，其中所述氣體阻擋件或汙染物阱定位在源腔211內的開口內或源腔211內的開口之後。汙染物阱230可以包括通道結構。汙染物阱230還可以包括氣體阻擋件或氣體阻擋件與通道結構的組合。這裡進一步示出的汙染物阱或汙染物阻擋件230至少包括通道結構，如本領域中已知的。收集器腔211可以包括輻射收集器CO，所述輻射收集器CO可以是所謂的掠入射收集器。輻射收集器CO具有上遊輻射收集器側251和下遊輻射收集器側252。橫過收集器CO的輻射可以被反射離開光柵光譜濾光片240，以被聚焦到虛源點IF處。虛源點IF通常 的開口 221處或附近。虛源點IF是發射輻射的等離子體的像。隨後，輻射穿過照射系統IL，所述照射系統IL可以包括琢面場反射鏡裝置22和琢面光瞳反射鏡裝置24，其布置成在圖案形成裝置MA處提供輻射束21的想要的角分布以及在圖案形成裝置MA處提供輻射束強度的想要的均勻性。通過輻射束21在圖案形成裝置MA處的反射(圖案形成裝置MA由支撐結構MT保持)，形成圖案化束26，並且圖案化束26通過投影系統PS經由反射元件28、30成像到由晶片平臺或襯底臺WT保持的襯底W上。通常在照射光學單元IL和投影系統PS中存在比圖示更多的元件。可選地，可以設置光柵光譜濾光片240，這依賴於光刻投影設備的類型。此外，可以存在比圖示更多的反射鏡，例如在投影系統PS內可以存在比圖2中示出的多1-6個附加的反射元件。如圖2所示，收集器光學裝置CO被示出為具有掠入射反射器253、254和255的巢狀收集器，僅作為收集器(或收集器反射鏡)的不例。掠入射反射器253、254和255圍繞光軸O軸向對稱地設置，並且這種類型的收集器光學裝置CO優選與放電產生等離子體源(通常稱為DPP源)結合使用。可替代地，源收集器設備SO可以是如圖3所示的LPP輻射系統的一部分。雷射器LA布置成將雷射能量照射到燃料(例如氙(Xe)、錫(Sn)或鋰(Li))中，生成高度電離的等離子體210，其具有幾十電子伏特的電子溫度。在這些離子去激發和再結合期間產生的高能輻射由等離子體發射，通過近正入射收集器光學裝置CO收集並聚焦到包圍結構220內的開口221 上。圖4-6示出夾持裝置301的實施例。夾持裝置301包括基板302和兩個致動器304、304』，它們構造和布置成將電能轉化為動能。基板302設置有通孔(在圖中未示出)。基板還設置有對準機構，所述對準機構可以稱為對準器，包括兩個臂306、306』和兩個可轉動構件，例如可轉動對準盤308、308』。盤308、308』安裝在臂306、306』上。每個致動器304、304』可以固定至一個可轉動盤308、308』。每個盤308、308』具有第一邊緣310、310』，第二邊緣312、312』和引導部314、314』，所述引導部具有徑向部分314-、314』 Md和切向部分314tan、314』 tan。致動器304、304』被構造和布置成圍繞第一軸線A、A』轉動盤308、308』。
在該實施例中，夾持裝置301具有夾持機構，所述夾持機構可以被稱為夾持器，所述夾持機構包括兩對另外的可轉動盤316、316』。這些另外的可轉動盤316、316』可以偏心地安裝到各個另外的臂318、318』上，意味著旋轉軸線位於離開另外的盤316、316』的中心軸線一距離的位置處。另外的臂318、318』設置在基板302上。另外的一對盤316可以圍繞第二軸線B轉動，而另外的另一對盤316』可以圍繞另一第二軸線B』轉動。在該實施例中，第二軸線B、B』平行於對應的第一軸線A、A』，但是與對應的第一軸線A、A』相距一定距離，有效地產生了力倍增器，如在圖5中可以看到的。在本實施例中，夾持機構(夾持器)包括兩個鉸鏈320、320』，兩個鉸鏈連接或耦接到對應的一對另外的可轉動盤316、316』。鉸鏈320、320』還可以圍繞各自的第二軸線B、B』轉動，每個鉸鏈具有凸輪322、322』，所述凸輪裝配到引導部314、314』中。盤316、316』中的一個或更多個可以包括內部部分316in、316in』和外部部分316-)316^/ ,在它們之間設置有滾柱軸承(在圖中未不出)。夾持裝置301的該實施例包括分離機構，所述分離機構可以稱為分離器，所述分離機構包括一對提升臂324、324』，所述一對提升臂324、324』圍繞對應的第三軸線C、C』可轉動地安裝在基板302上。成對的另外的可轉動凸輪326、326』設置在分離機構(分離器)中，所述成對的另外的可轉動凸輪能夠圍繞對應的第二軸線B、B』轉動，每對連接或耦接至·鉸鏈320、320』中的一個。當轉動至特定位置時，凸輪326、326』將壓靠提升臂324、324』的一部分，導致提升臂324、324』的另一部分(在圖中不可見)提升停置在基板302上的物體328。基板302還具有一個或更多個彈簧330，所述一個或更多個彈簧330布置用於將提升臂324、324』保持在非提升位置。物體328包括另一板332和錐形部334。錐形部334具有兩個端部，一個端部限定通過另一板332的孔(在圖中未示出)，該孔還對應於基板302中的孔。期望地，所述孔中的一個或兩個孔設置有O形圈，以便能夠在夾持裝置301和物體328在對準位置中被夾持在一起時形成緊密密封。另一板332具有四個彈簧，在該實施例中是片簧336、336』，其中兩個在圖4中示出。物體還具有帶兩個V形槽340、340』的對準板338，在本實施例中每個V形槽包括多個球式傳遞單元341、341』，這些球式傳遞單元在使用時與可轉動盤308、308』的第一邊緣310、310』和第二邊緣312、312』協同操作，如圖5所示。在本實施例中，透射式對準板342、342』固定至物體328，光源344、344』固定至夾持裝置301。可轉動盤308、308』和另外的可轉動盤316、316』每個具有小的通孔345a、345a』、345b、345b，，來自光源344、344』的光束346、346』能夠通過所述小的通孔、沿其各自的光路傳播至對準板。透射式對準板342、342』每個具有白色中心348、348』，其對來自光源344、344』的白光束346、346』是透射的。對準板342、342』還具有四個著色區域350、350』、352、352』、354、354』、356、356』。這些著色區域中的每個著色區域主要對白光束346、346』中的一種顏色是透射的。在光束346、346』的光路中的下遊,相應的傳感器(在圖中未不出)定位、固定至夾持裝置301，這些傳感器被構造和布置用於檢測四種顏色中哪種顏色被對準板342、342』透射，或者檢測白光是否正在被透射。依賴於已經被傳感器檢測的顏色，物體328可以被移動更靠近至少大體上與夾持裝置301對準的位置。一旦夾持裝置301與物體大體上對準，物體328就被滑動到夾持裝置301上。圖7-10示出圖4-6中的夾持裝置301的實施例的兩個變更實施方式。在圖7和8中，一個或更多個發光二極體(LED) 358、358』位於相應的對準板342、342』的附近，照相機360、360』位於相應的致動器302附近。在圖7和8的實施例中，照相機360、360』和LED358、358』相對於夾持裝置301被固定，在這種情況下對準板342、342』相對於物體328被固定。然而，可替代地，對準板342、342』可以相對於夾持裝置301被固定，在這種情況下照相機360、360，和LED 358、358』相對於物體328被固定。在圖9和10中，代替透射式對準板，使用反射式對準板342、342』。在圖9和10的實施例中，照相機360、360』和LED 358、358』相對於夾持裝置301被固定，在這種情況下對準板342、342』相對於物體328被固定。然而，相反的情況也是可以的。一旦物體328被滑到基板302上，可轉動盤308、308』被相應的致動器304、304』轉動，允許第一邊緣310、310』和第二邊緣312、312』推動球式傳遞單元340、340』，使得物體328被朝向對準位置引導。雖然物體328被引導至對準位置，但是引導部314、314』的切向部分314tan、314』 tan沿對應的凸輪322、322』移動。
一旦到達對準位置，鉸鏈320、320』的凸輪322、322』將到達引導部314、314』的對應的徑向部分314rad、314』Md。可轉動盤308、308』用作至鉸鏈320、320』的凸輪322、322』的運載裝置或託架(carrier)。結果，儘管致動器304、304』甚至進一步轉動可轉動盤，然而凸輪322、322』由於鉸鏈320、320』圍繞距離軸線A、A』 一定距離的軸線B、B』可轉動的事實而被引導部314、314』的徑向部分314rad、314』Md向內引導。另外的可轉動盤316、316』隨著鉸鏈320、320』以及它們的凸輪322、322』轉動，直到它們向下壓片簧336、336』。儘管向下壓片簧336、336』，致動器通常會感覺到來自片簧336、336』的阻力，因為它們會向另外的可轉動盤316、316』施加反作用力，直到另外的可轉動盤316、316』經過由特定設計確定的特定的死點。在經過該死點之後，可轉動盤316、316』將保持在穩定的被夾持位置，而無需致動器304、304』的幫助。典型地，物體328直接或者間接地連接至照射系統IL，基板302直接或者間接地連接至源收集器設備SO或者至少源收集器設備SO的一部分。當夾持裝置301處於夾持位置時，可以在源SO的包圍結構220和照射系統IL中
產生真空環境。當物體328將要從夾持裝置301分離時，致動器304、304』沿與用於將物體328帶入對準位置、並且隨後將物體328帶入夾持位置的方向相反的方向轉動。凸輪326、326』被帶至壓靠提升臂324、324』的位置。這將使得提升臂324、324』提升停置在基板302上的物體328，同時用於物體移動的空間保持被另外的可轉動盤316、316 』限制，防止物體328和基板302以不受控的方式相對於彼此「跳離開」。雖然在本文中詳述了光刻投影設備用於製造IC (集成電路)，但是應該理解到這裡所述的光刻投影設備可以有其他的應用，例如製造集成光學系統、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等。本領域技術人員應該認識到，在這種替代應用的情況中，可以將這裡使用的任何術語「晶片」或「管芯」分別認為是與更上位的術語「襯底」或「目標部分」同義。這裡所指的襯底可以在曝光之前或之後進行處理，例如在軌道(一種典型地將抗蝕劑層塗到襯底上，並且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、量測工具和/或檢驗工具中。在可應用的情況下，可以將此處的公開內容應用於這種和其他襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如以便產生多層1C，使得這裡使用的所述術語「襯底」也可以表示已經包含多個已處理層的襯底。雖然上面已經詳述了本發明的實施例在光學光刻術的情形中的應用，應該注意至IJ，本發明可以用於其它的應用，例如壓印光刻術，並且只要情況允許，不局限於光學光刻術。在壓印光刻術中，圖案形成裝置中的拓撲限定了在襯底上產生的圖案。可以將所述圖案形成裝置的拓撲印刷到提供給所述襯底的抗蝕劑層中，在其上通過施加電磁輻射、熱、壓力或其組合來使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之後，所述圖案形成裝置從所述抗蝕劑上移走，並在抗蝕劑中留下圖案。在允許的情況下，術語「透鏡」可以表示不同類型的光學部件中的任何一種或其組合，包括折射式的、反射式的、磁性式的、電磁式的以及靜電式的光學部件。儘管以上已經描述了本發明的具體實施例，但應該認識到，本發明可以以與上述不同的方式來實現。例如，本發明可以採用包含用於描述一種如上面公開的方法的一個或更多個機器可讀指令序列的電腦程式的形式，或具有存儲其中的這樣的電腦程式的數 據存儲介質(例如半導體存儲器、磁碟或光碟)的形式。以上的描述是說明性的，而不是限制性的。因此，本領域的技術人員應當明白，在不背離下文所附的權利要求的保護範圍的條件下，可以對本發明進行修改。
權利要求
1.一種夾持裝置，構造和布置用於將兩個部件夾持在一起，所述夾持裝置包括 對準器，構造和布置用於將所述兩個部件相對於彼此設置在對準位置； 夾持器，構造和布置用於將所述兩個部件保持在對準位置； 分離器，構造和布置用於引導所述兩個部件離開對準位置至分離位置；以及 致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能，其中所述對準器、夾持器以及分離器被構造和布置成被致動器驅動。
2.根據權利要求I所述的夾持裝置，其中，所述夾持裝置被構造成被固定至所述兩個部件中的一個部件，其中所述對準器包括可轉動構件，其中所述致動器被構造和布置用於轉動可轉動構件，所述可轉動構件設置有凸起或者邊緣，以與兩個部件中的另一部件的凹陷協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置，或者所述可轉動構件設置有凹陷，以與兩個部件中的另一部件的凸起協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置。
3.根據權利要求2所述的夾持裝置，其中，所述凹陷是凹槽。
4.根據權利要求3所述的夾持裝置，其中，所述凹槽是V形凹槽。
5.根據前述任一權利要求所述的夾持裝置，其中，所述夾持器包括能夠偏心地轉動的可轉動裝置，所述致動器被構造和布置用於通過使可轉動裝置轉動至夾持位置而使兩個部件彼此壓靠。
6.根據權利要求5所述的夾持裝置，其中，所述可轉動裝置包括圓柱形構件。
7.根據權利要求6所述的夾持裝置，其中，所述可轉動裝置設置有圓柱形外殼，所述外殼能夠相對於圓柱形構件轉動。
8.根據權利要求7所述的夾持裝置，其中，所述可轉動裝置包括在圓柱形構件與圓柱形外殼之間的軸承。
9.根據權利要求8所述的夾持裝置，其中，所述軸承是滾柱軸承。
10.根據權利要求5-9中任一項所述的夾持裝置，其中，所述夾持器被構造和布置成被固定至兩個部件中的一個部件，其中所述對準器包括可轉動構件，其中所述致動器被構造和布置用於轉動可轉動構件，所述可轉動構件設置有凸起，以與兩個部件中的另一個部件的凹陷協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置中，或者所述可轉動構件設置有凹陷，以與兩個部件中的另一部件的凸起協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置中，並且其中所述可轉動構件設置有運載裝置，所述運載裝置被構造和布置用於將可轉動裝置運載至夾持位置。
11.根據權利要求10所述的夾持裝置，其中，所述可轉動裝置耦接至凸輪，所述凸輪被布置用於轉動可轉動裝置，並且其中所述運載裝置是凹陷，所述凹陷被構造和布置用於卡住凸輪並且將凸輪帶入其中可轉動裝置處於夾持位置的位置處。
12.根據權利要求5-11中任一項所述的夾持裝置，其中，所述分離器包括提升構件，所述提升構件被構造和布置用於使兩個部件彼此分離開。
13.根據權利要求12所述的夾持裝置，其中，所述分離器包括限制構件，所述限制構件被構造和布置用於在提升構件使兩個部件彼此分離開時限制兩個部件之間的間距。
14.根據權利要求12或13所述的夾持裝置，其中，所述分離器包括一個或更多個另外的可轉動裝置，所述另外的可轉動裝置被構造和布置用於推壓提升構件，以便提升構件將兩個部件彼此分離開。
15.根據權利要求14所述的夾持裝置，其中，所述對準器包括可轉動構件，所述可轉動構件設置有凸起，以與兩個部件中的第一部件的凹陷協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置中，或者所述可轉動構件設置有凹陷，以與兩個部件中的第一部件的凸起協同操作，從而通過可轉動構件的轉動使兩個部件處於對準位置中，其中所述致動器被構造和布置成旋轉可轉動構件，且其中所述可轉動構件設置有運載裝置，所述運載裝置被構造和布置用於運載一個或更多個另外的可轉動裝置，以推壓提升構件，以便提升構件使兩個部件彼此分離開。
16.一種組件，包括照射系統、輻射源和根據前述任一項權利要求所述的夾持裝置，所述夾持裝置用於將照射系統和輻射源夾持在一起。
17.一種光刻投影系統，包括根據權利要求16所述的組件。
18.—種組件,包括 輻射源，配置用於產生輻射； 照射系統，配置用於調節輻射；以及 夾持裝置，構造和布置用於將輻射源和照射系統夾持在一起，所述夾持裝置包括 對準器，構造和布置用於將輻射源和照射系統相對於彼此設置在對準位置； 夾持器，構造和布置用於將輻射源和照射系統保持在對準位置； 分離器，構造和布置用於引導輻射源和照射系統離開對準位置至分離位置；以及 致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能， 其中所述對準器、夾持器以及分離器被構造和布置成被致動器驅動。
19.一種光刻投影系統,包括 輻射源，配置用於產生輻射； 照射系統，配置用於調節輻射；以及 夾持裝置，構造和布置用於將輻射源和照射系統夾持在一起，所述夾持裝置包括 對準器，構造和布置用於將輻射源和照射系統相對於彼此設置在對準位置； 夾持器，構造和布置用於將輻射源和照射系統保持在對準位置； 分離器，構造和布置用於引導輻射源和照射系統離開對準位置至分離位置；以及 致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能， 其中所述對準器、夾持器以及分離器被構造和布置成被致動器驅動；以及 投影系統，配置用於將圖案化的輻射束投影到襯底上。
全文摘要
本發明公開了一種夾持裝置、一種組件和一種光刻投影設備。所述夾持裝置被構造和布置用於將兩個部件夾持在一起。所述夾持裝置具有對準器，構造和布置用於將兩個部件相對於彼此設置在對準位置；夾持器，構造和布置用於將兩個部件保持在對準位置；分離器，構造和布置用於引導兩個部件離開對準位置至分離位置；以及致動器，構造和布置用於將電流轉化成動能。
文檔編號G03F7/20GK102830593SQ20121019331
公開日2012年12月19日 申請日期2012年6月12日 優先權日2011年6月15日
發明者R·W·費爾特曼, M·K·J·伯恩, D·J·M·保盧森 申請人:Asml荷蘭有限公司