溼敏三極體元件的製作方法

2023-10-09 20:42:24 1

專利名稱：溼敏三極體元件的製作方法
技術領域：
本實用新型提供一種溼敏三極體，屬電子功能敏感元件。
目前的薄膜溼敏元件產品均是在薄片型陶瓷或塑料片上印製好電極，然後塗覆感溼膜，再引出二條信號線便形成元件產品，或者再將上述產品二次組裝在二電極或四電極(帶加熱清洗)的管座上，且大部分採用垂直立面式焊接安裝。因此，產品的抗震性不強，影響了長期穩定性。同時，由於沒有屏蔽電極，使元件的抗幹擾信號的能力降低。又由於上述產品的信號電極線一般採用制板印刷或制板蒸鍍工藝，均勻性比光刻電極工藝差，因而元件的一致性、互換性受到影響。
本實用新型的目的在於針對上述元件產品的不足而提供一種新結構的溼敏三極體元件。
以下結合附圖
對本實用新型作詳細說明。
附圖為本實用新型的結構示意圖。
參照附圖。由二信號引腳加屏蔽引腳及管座〔1〕、基片〔2〕、光刻電極〔3〕、敏感膜〔4〕及孔罩〔5〕構成溼敏三極體元件。該新型元件具有半導體三極體的外觀近似，但不同於半導體三極體的功能。它是一種與已知的二電極、四電極型溼敏元件不同的新型溼敏功能元件。該新型元件管座〔1〕與基片〔2〕粘接成一體；基片〔2〕通過集成電路工藝在其上面光刻電極線〔3〕；敏感膜〔4〕獲取的敏感信號通過與電極線〔3〕相連導的兩信號引腳傳遞；另一引腳形成對幹擾信號的屏蔽接地；配上孔罩〔5〕便構成了實用美觀的新型溼敏三極體。
本實用新型中，由於敏感片與管座牢固地粘接成一體，呈臥置狀，因而增加了元件的抗震性，能提高元件的長期穩定性，由於採用集成電路工藝光刻電極，使得元件的一致性、互換性能夠提高；屏蔽極能提高元件信號的靈敏度及抗幹擾信號的能力，提高可靠性；孔罩增加美觀、保護敏感膜，並且不影響元件的性能。該種新型結構還適用於溫度、熱敏、氣敏等其他敏感膜的元件製造。
權利要求1.一種溼敏三極體元件，包括三電極引腳以及管座[1]、基片[2]、光刻電極[3]、敏感膜[4]及孔罩[5]，其特徵在於基片[2]與管座[1]粘連成一體呈臥式置放，電極[3]為集成電路工藝光刻電極。
2.根據權利要求1所述溼敏三極體元件，其特徵在於管座〔1〕採用金屬材料製作，基片〔2〕採用矽片、陶瓷或玻璃製作。
3.根據權利要求1所述溼敏三極體元件，其特徵在於敏感膜〔4〕不僅限於溼敏膜，而且適用於溫度、氣體等敏感膜元件製造。
專利摘要一種對溼度敏感的三極體，屬電子功能敏感元件。它是將電晶體工藝、集成電路工藝、敏感膜工藝相結合封裝後組成。其特點是採用了整體臥置式基座和屏蔽極，以及光刻信號電極線，從而抑制了現有溼敏元件垂直立面式組裝的不穩定性，並且保證了抗幹擾信號的能力和敏感信號的可靠性，同時提高了元件產品的一致性和外表美觀性，使產品具有市場競爭力。
文檔編號G01N27/00GK2105770SQ9122094
公開日1992年5月27日 申請日期1991年10月5日 優先權日1991年10月5日
發明者趙惕平 申請人:趙惕平