對稱布置的真空獲得系統的製作方法
2023-10-05 15:24:29
專利名稱：對稱布置的真空獲得系統的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種對稱布置的真空獲得系統。
背景技術：
現有的電子槍真空薄膜沉積系統，其真空腔體底部空間被電子槍及其供電部件、水冷部件等所佔據，真空泵系統往往被安裝在真空腔體壁面的一側，如圖1、2所示，這樣放置的真空泵在腔體內形成不對稱的流場，如圖3所示。因流場不對稱，導致腔體內橫截面上的壓力分布不均勻從而影響薄膜沉積質量。
實用新型內容本實用新型的目的在於提供一種流場對稱、不影響成膜質量的對稱布置的真空獲得系統。
為達到上述目的，本實用新型的技術解決方案為一種對稱布置的真空獲得系統，包括真空腔體，在所述真空腔體外側相對於所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口。
進一步，在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對於所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口。
進一步，在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個真空泵接口。
進一步，在所述真空腔體側壁相對於真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設置有若干個真空泵接口。
由於本實用新型中真空泵接口設置於真空腔體底部法蘭盤的邊緣或真空腔體側壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且，真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內流場的對稱分布，這種對稱流場使電子槍蒸發的氣體粒子在基片表面上沉積更加均勻。
圖1為目前普遍的真空獲得系統的主視圖；圖2為目前普遍的真空獲得系統的俯視圖；圖3為目前普遍的真空獲得系統內的流場示意圖；圖4為本實用新型實施例一真空獲得系統主視圖；圖5為本實用新型實施例一真空獲得系統俯視圖；圖6為本實用新型實施例二真空獲得系統俯視圖；圖7為本實用新型真空腔體內的流場示意圖；圖8為本實用新型實施例三真空獲得系統主視圖；圖9為本實用新型實施例三真空獲得系統俯視圖。
具體實施方式
如圖4、5所示實施例一，本實用新型對稱布置的真空獲得系統包括真空腔體1，真空腔體1底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體1』，該盤狀腔體1』連接一法蘭盤2，法蘭盤2上預設置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3，在法蘭盤2邊緣相對於真空腔體1的水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口4，在實施例一中設置了四個真空泵接口。
法蘭盤2可採用圖4、5所示實施例一中的長方形，或如圖6實施例二所示採用圓盤形或其他形狀。如圖6所示實施例二中，法蘭盤2為圓形，在圓形法蘭盤2上預設置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3，在圓形法蘭盤2邊緣，以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個真空泵接口4。
由於真空泵接口4設置於法蘭盤的邊緣，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內流場的對稱分布，如圖7所示，這種對稱流場可以使電子槍蒸發的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
如圖8、9所示實施例三，也是一種對稱布置的真空獲得系統形式，包括真空腔體1，在真空腔體1的側壁5上以所述真空腔體1水平截面的幾何中心為圓心，周向均布有若干個真空泵接口4，真空腔體1底部設置有若干個電子槍和其它部件的接口及備用口3。由於真空泵接口4設置於真空腔體側壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件在接口3的安裝和布置，而且真空泵接口的周向均勻布置保證了真空腔體內流場的對稱分布，這種對稱流場可以使電子槍蒸發的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
權利要求1.一種對稱布置的真空獲得系統，包括真空腔體，其特徵在於在所述真空腔體外側相對於所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口。
2.如權利要求1所述的對稱布置的真空獲得系統，其特徵在於在所述真空腔體底部沿徑向向外延伸有一盤狀腔體，該盤狀腔體連接一法蘭，在該法蘭邊緣，相對於所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口。
3.如權利要求2所述的對稱布置的真空獲得系統，其特徵在於在所述法蘭盤邊緣，以所述真空腔體水平截面的幾何中心為圓心周向均布有若干個真空泵接口。
4.如權利要求1所述的對稱布置的真空獲得系統，其特徵在於在所述真空腔體側壁相對於真空腔體水平截面的幾何中心線周向均勻設置有若干個真空泵接口。
專利摘要本實用新型公開了一種對稱布置的真空獲得系統，包括真空腔體，在所述真空腔體外側相對於所述真空腔體水平截面的幾何中心線對稱設置有若干個真空泵接口。由於本實用新型真空泵設置於底法蘭盤的邊緣或真空腔體側壁，因此真空泵的安裝不影響電子槍及其它部件的安裝和布置，而且真空泵接口的對稱布置或周向均勻布置保證了真空腔體內流場的對稱分布，這種對稱流場使電子槍蒸發的氣體粒子在其上方的基片表面上沉積更加均勻。
文檔編號C23C14/56GK2851276SQ20052014202
公開日2006年12月27日 申請日期2005年11月28日 優先權日2005年11月28日
發明者劉宏立, 樊菁, 舒勇華 申請人:中國科學院力學研究所