密封式基片上載裝置的製作方法

2023-10-09 04:28:34

專利名稱：密封式基片上載裝置的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種基片上載裝置，尤其涉及一種應用於半導體生產線上，可在 真空環境下完成基片上載的基片上載裝置。
背景技術：
玻璃基材等薄板已廣泛用於製造IXD-TFT顯示屏、有機發光顯示器件(OLED)面 板、薄膜太陽能面板應用及其他類似者。於此類應用中大多在潔淨玻璃上鍍覆薄膜電晶體， 這類大型玻璃基材的製程通常包含實施多個連續步驟，包括如化學氣相沉積製程(CVD)、物 理氣相沉積製程(PVD)、有機物質蒸鍍、磁控濺射沉積或蝕刻製程。用於處理玻璃基材的系 統可包括一或多個製程處理室，以進行前述所述製程。目前趨勢面板加工朝向大面積基材 尺寸發展，以使基材上可形成更多顯示器、或製造更大型的顯示器以及更大型的太陽能面 板。由於此類製程的工藝要求比較嚴格，即必須在真空狀態下以及完全潔淨的空間環 境中進行，如有機發光二極體的蒸鍍製程，其沉積物為呈蒸汽狀的有機物質，如有空氣、水 汽等存在的話極易與有機蒸鍍材料發生反應進而改變基材上的沉積物成分，影響其發光效 應；再如，磁控濺射沉積製程過程中，等離子體輝光放電後相互撞擊空間內惰性氣體使離子 化程度達到雪崩狀態，從而大面積、大範圍的撞擊金屬靶材，金屬原子或/和原子團脫離靶 材在磁力引導下沉積到基底上，然此過程如密封不好、真空環境不足將嚴重影響輝光放電 的程度，同時空氣中的氧氣和水汽也會將靶材侵蝕，導致磁控濺射製程中斷或/和沉積薄 膜受到影響；類此種種玻璃等基材的鍍膜、覆膜製程，都必須要保證整個製程的真空系統的 絕對可靠性。這樣，在此類製程中，在真空環境下完成基片上載就凸顯了重要意義。然而現有的基片上載裝置中，腔體內未能保持真空狀態或所設計的裝置不能完全 保證腔體內的氣密性，以致影響基片的潔淨度，難以提高基片質量。因此，針對腔體內清潔 度不高的缺陷，急需一種保證基片上載的整個過程中，腔體內一直維持在穩定的真空狀態 下的密封式基片上載裝置。

實用新型內容本實用新型的目的是提供一種可以在持續穩定的真空狀態下完成基片上載過程 的密封式基片上載裝置。為了實現上有目的，本實用新型公開了一種密封式基片上載裝置，用於將基片盒 中的基片通過機械手上載至生產線上，該密封式基片上載裝置包括真空腔體、抽真空控制 機構、基片盒載臺以及升降裝置，所述真空腔體的腔壁上分別開設有供所述基片盒進出的 基片入口、供所述機械手進出的基片出口以及通氣孔，所述基片入口安裝有與該基片入口 相配合的密封腔門，所述基片出口上安裝有出口閘閥；所述抽真空控制機構包括真空管、真 空計和真空閘閥，所述真空管的一端與所述通氣孔相連通，另一端分別連接有抽真空系統 和充氣系統，所述真空計和真空閘閥均安裝在所述真空管上；所述基片盒載臺置於所述真
4空腔體內，所述基片盒載臺包括承載基片盒的固定板和檢測基片盒狀態的檢測單元；所述 升降裝置的輸出軸密封穿過所述真空腔體的底部與所述基片盒載臺固定相連，並控制所述 基片盒載臺做升降運動。較佳地，所述真空管包括第一真空管和第二真空管，所述真空閘閥包括第一閘閥 和第二間閥，所述第一真空管和第二真空管一端均與所述通氣孔相連，所述第一真空管的 另一端與粗抽空系統和充氣系統相連，所述第二真空管的另一端與所述精抽空系統相連， 且所述第一真空管和第二真空管上分別安裝有所述第一閘閥和第二閘閥，所述真空計安裝 在所述真空管接近通氣孔的位置上。在基片上載時，為了保證真空腔體內的氣壓達到設定 的範圍，往往採用兩階段抽真空操作，即先進行前期抽真空，然後再進行後期抽真空，直至 真空腔體內的氣壓達到設定值。本實用新型採用了粗抽空系統和精抽空系統，所述真空腔 體內開始抽真空時，第一閘閥打開，粗抽空系統開始工作，對真空腔體內開始抽真空操作， 當真空腔體內的氣壓達到一定範圍內時，第一閘閥關閉，粗抽空系統停止工作，第二閘閥打 開，精抽空系統開始工作，直至真空腔體內的氣壓達到預定值。這種採用兩階段抽真空操 作，可以使得真空腔體內的氣壓精確地到達預定範圍內，防止真空腔體內氣壓過低。較佳地，所述密封腔門與所述真空腔體相接觸的環形區域從內至外依次開設有相 互平行的內圈凹槽、中圈凹槽及外圈凹槽，所述內圈凹槽與外圈凹槽內均裝有密封圈，所述 中圈凹槽分別與所述內圈凹槽和外圈凹槽相連通，所述抽真空控制系統還包括第三真空管 和第三閘閥，所述第三真空管的一端與所述中圈凹槽相連通，另一端分別與抽真空系統和 充氣系統相連，所述第三閘閥安裝在所述第三真空管上。本實用新型密封腔門採用了雙密 封結構，使得密封腔門的密封效果更好，保證了真空腔體內的氣密性，而且將內圈凹槽和第 三真空管相連通，可以通過對第三真空管進行抽真空或者充氣來控制密封腔門的打開與關 閉，進一步保證了密封腔門的氣密性，也使密封腔門方便準確地打開和關閉。較佳地，所述密封腔門上還安裝有門傳感器。在密封腔門上設置門傳感器可以使 得基片盒到達密封腔門外的第一時間被檢測到，以便打開密封腔門，提高工作效率。較佳地，所述固定板中部沿密封腔門方向開設有凹槽，所述凹槽兩側的固定板上 設有若干個定位塊，且所述定位塊圍成一個基片盒定位區。密封式基片上載裝置開始工作 時，基片盒傳送裝置將基片盒從密封腔門送至基片盒定位區內，所述定位塊使基片盒定位， 放置基片盒放置位置錯誤以至於無法進行下一步操作，而凹槽可以使得基片盒傳送裝置更 加方便將基片盒送至凹槽上方的基片盒定位區內。較佳地，所述檢測單元包括光電傳感器、傳感器反射板、傳感器擋板、擋板支架以 及彈性部件；所述固定板與所述基片盒接觸的部位開設有通槽，所述傳感器反射板安裝在 所述固定板下表面臨近所述通槽的位置，所述光電傳感器設置於所述傳感器反射板正下 方，所述傳感器擋板呈Z字形，所述傳感器擋板包括上板、彎折板及下板，所述傳感器擋板 的上板斜向上地突出所述通槽的上端，所述下板斜向下地突出所述通槽的下端並鄰近所述 光電傳感器與所述傳感器反射板形成的光通路，所述彎折板臨近所述上板的一端旋轉安裝 在所述擋板支架上，所述擋板支架固定在所述固定板下表面，所述彎折板臨近所述下板的 一端與所述彈性部件相連，所述彈性部件的另一端與所述固定板相連。當所述基片盒載臺 上放置有基片盒時，在基片盒的重力作用下，突出於所述通槽的上板沿所述擋板支架向下 旋轉，所述下板隨之向光通路方向移動，直至截斷光電傳感器射與傳感器反射板之間的光通路，光電傳感器感應不到反射光，本實用新型檢測到基片盒放置到位；當基片盒未放置在 基片盒載臺時，下板在彈性部件的作用下向遠離光通道的方向移動，光電傳感器射與傳感 器反射板之間的光通路貫通，光電傳感器接收到放射光，本實用新型檢測到基片盒未放置 到位。較佳地，所述升降裝置包括升降驅動機構、輸出軸和波紋管，所述真空腔體的底部 開設有安裝孔，所述波紋管一端與所述升降驅動機構相連，另一端與所述安裝孔相連，所述 升降驅動機構與所述輸出軸相連並驅動所述輸出軸沿垂直方向運動，所述輸出軸滑動穿過 所述波紋管和安裝孔並與所述固定板固定連接。所述波紋管結構使得腔體外的大氣環境和 真空腔體內分隔開來，有效地保持真空腔體內的真空環境。較佳地，所述密封式基片上載裝置還包括基片上載控制系統，所述基片上載控制 系統分別與所述抽真空控制機構、檢測單元和升降裝置電連接，並控制所述抽真空控制機 構、檢測單元和升降裝置動作。採用自動化控制手段進行基片上載工作，節省勞動力，工作 效率高。本實用新型密封式基片上載裝置包括真空腔體、抽真空控制機構、基片盒載臺以 及升降裝置，進行基片上載時，盛放基片的基片盒先通過真空腔體的密封腔門傳送至基片 盒載臺上，然後通過抽真空控制機構使得真空腔體內的氣壓達到預定範圍，持續抽真空操 作以保持腔體內的氣壓，通過升降裝置使基片盒內的基片和出口閘閥外的機械手完成對 位，打開出口閘閥，機械手取出基片，重複對位和取基片動作，直至基片上載完畢，最後停止 抽真空操作。與現有技術相比，本實用新型在基片上載過程中一直維持在穩定的真空狀態 中，保證了真空腔體內的氣密封和清潔度，最終保證了基片的潔淨度，有效地提高了基片的 質量。

圖1是本實用新型密封式基片上載裝置的結構示意圖。圖2是本實用新型密封式基片上載裝置另一角度的結構示意圖。圖3是本實用新型密封式基片上載裝置的局部剖視圖。圖4是圖3中A部分的放大圖。圖5是本實用新型密封腔門的結構示意圖。圖6是圖5中B部分的放大圖。圖7是本實用新型基片盒載臺的結構示意圖。圖8是本實用新型基片盒載臺的另一角度的結構示意圖。圖9是本實用新型基片盒載臺的立體分解圖。圖10是本實用新型傳感器擋板的結構示意圖。圖Ila-圖Ilc是本實用新型檢測單元的工作示意圖。
具體實施方式
為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特徵、所實現目的及效果，以下結合實施 方式並配合附圖詳予說明。如圖1和圖2所示，本實用新型密封式基片上載裝置100，用於將基片盒50中的基片通過機械手(圖中未示)上載至生產線上，該密封式基片上載裝置100包括真空腔體 10、抽真空控制機構20、基片盒載臺30以及升降裝置40。參考圖1和圖3，所述真空腔體10的腔壁上分別開設有供所述基片盒50進出的基 片入口 11、供所述機械手進出的基片出口 12、以及通氣孔13，所述基片入口 11安裝有與之 相配合的密封腔門14，所述基片出口 12上安裝有出口閘閥15。所述抽真空控制機構20包 括真空管21、真空計22和真空閘閥23，所述真空管21的一端與所述通氣孔13相連通，另 一端分別連接抽真空系統和充氣系統，所述真空計22和真空閘閥23均安裝在所述真空管 21上；所述基片盒載臺30置於所述真空腔體10內，所述基片盒載臺30包括承載基片盒50 的固定板31和檢測基片盒50狀態的檢測單元32 ；所述升降裝置40的輸出軸42密封穿過 所述真空腔體10的底部與所述基片盒載臺30固定相連，並控制所述基片盒載臺30做升降 運動。較佳者，所述真空管21包括第一真空管211和第二真空管212，所述真空閘閥23 包括第一閘閥231和第二閘閥232，所述第一真空管211 —端與所述通氣孔13相連，另一 端分別與粗抽空系統和充氣系統相連，所述第一閘閥231安裝在所述第一真空管211上；第 二真空管212的一端與所述通氣孔13相連，第二真空管212的另一端與所述精抽空系統相 連，所述第二閘閥232安裝在所述第二真空管212上；所述真空計22安裝在所述真空管21 上接近通氣孔13的位置。所述真空腔體10進行抽真空操作時，第一閘閥231打開，粗抽空 系統開始工作，當真空腔體10內的氣壓達到一定範圍內時，第一閘閥231關閉，粗抽空系 統停止工作，第二閘閥232打開，精抽空系統開始工作，直至真空腔體10內的氣壓達到預定 值。真空腔體10充氣時，第一閘閥231打開，充氣系統開始工作，直至真空腔體10內的氣 壓與外界相等，第一閘閥關閉，充氣系統停止工作。較佳者，參考圖3至圖6，所述密封腔門14與所述真空腔體10的腔壁接觸的環形 區域從內至外依次開設有相互平行的內圈凹槽141、中圈凹槽142及外圈凹槽143，所述內 圈凹槽141與外圈凹槽143內分別設有密封圈144，所述中圈凹槽142分別與所述內圈凹槽 141和外圈凹槽143之間開設有連通孔146，使中圈凹槽142分別與所述內圈凹槽141和外 圈凹槽143相連通，所述抽真空控制系統20還包括第三真空管213和第三閘閥233，所述中 圈凹槽142上開設有通孔145，所述第三真空管213的一端與通孔145相連，另一端分別與 抽真空系統和充氣系統相連，所述第三閘閥233安裝在所述第三真空管213上。當密封腔 門14打開時，打開第三閘閥233，充氣系統開始工作，直至真空腔體10內的氣壓等於真空腔 體10外的氣壓，第三閘閥233關閉，充氣系統停止工作，打開密封腔門14 ；當需要關閉密封 腔門14時，將密封腔門14關閉，打開第三閘閥233，抽真空系統開始工作，直至真空腔體10 內的氣體達到預定值。當然，與第三真空管213相連通的通孔開設在密封腔門14關閉後真 空腔體10上與中圈凹槽相對的地方，同樣可以使得密封腔門14通過中圈凹槽142的充氣 或者抽氣來打開和關閉；為了簡化整個密封式基片上載裝置的結構，也可以省略第三真空 管213和第三閘閥233，直接在密封腔門14關閉後真空腔體10上與中圈凹槽相對的地方開 設一個與真空腔體10內部貫通的通孔。具體地，密封腔門14上還具有一個門感應器，用於 感應密封腔門14是否貼合。較佳者，所述密封腔門14上還安裝有門傳感器(圖中未示)。在密封腔門14上設 置門傳感器可以使得基片盒50到達密封腔門14外的第一時間被檢測到，提高工作效率。[0032]較佳者，參考圖7至圖8，所述固定板31中部沿密封腔門14方向開設有凹槽33， 所述凹槽33兩側的固定板分為第一支撐板311和第二支撐板312，所述一支撐板311和第 二支撐板312上均設有若干個定位塊34，且所述定位塊34圍成一個基片盒定位區，當基片 盒50放置在凹槽33的上方時，定位塊34將基片盒50固定在基片盒定位區內。較佳者，參考圖7至圖9，所述檢測單元32包括光電傳感器321、傳感器反射板 322、傳感器擋板323、擋板支架324以及彈性部件325 ；所述固定板31與所述基片盒50接 觸的部位開設有通槽313，本實施例中通槽313開設在第二支撐板312上，所述傳感器反射 板322安裝在所述第二支撐板312下表面臨近所述通槽313的位置，所述光電傳感器321 設置於所述傳感器反射板322正下方，所述傳感器擋板323呈Z字形，所述傳感器擋板323 包括上板3231、彎折板3232及下板3233，所述傳感器擋板323的上板3231斜向上地突出 所述通槽313的上端，所述下板3233斜向下地突出所述通槽313的下端並鄰近所述光電傳 感器321與所述傳感器反射板322形成的光通路，所述彎折板3232臨近所述上板3231的 一端旋轉安裝在所述擋板支架324上，所述擋板支架324固定在所述第二支撐板312下表 面，所述彎折板3232臨近所述下板3233的一端與所述彈性部件325相連，所述彈性部件 325的另一端固定在所述固定板31的外表面上。具體地，參考圖10，所述傳感器擋板323 的彎折板3232包括第一彎折部3234和第二彎折部3235，上板3231與第一彎折部3234相 連，下板3233與第二彎折部3235相連，由於第一彎折部3234和第二彎折部3235的縱向不 在一條直線上，與之相連的上板3231和下板3233在第二支撐板312上的映射不重合，傳感 器反射板322的安裝位置臨近下板3233在第二支撐板312上的映射位置。其中，第二彎折 部3235上開設有彈簧安裝孔，彈性部件325的一端安裝在彈簧安裝孔內，擋板支架324支 撐在第一彎折部3234與上板的連接處，可以使傳感器擋板323繞擋板支架324旋轉。參考圖Ila至11c，描述檢測單元32檢測基片盒50的工作原理，圖Ila是基片盒 50未放置時，光電傳感器321、傳感器反射板322和傳感器擋板323之間的位置關係，此時 光電傳感器321與傳感器反射板322之間的光通連通；參考圖11b，當所述基片盒載臺30上 放置有基片盒50時，在基片盒50的重力作用下，所述上板3231沿所述擋板支架324向下 旋轉，所述下板3233隨之向光通路方向移動，直至截斷光電傳感器射321與傳感器反射板 322之間的光通路(見圖11c)，光電傳感器321感應不到反射光，檢測單元32檢測到基片 盒50放置到位；當基片盒50離開基片盒載臺30時，下板3233在彈性部件325的作用下向 遠離光通路的方向移動，光電傳感器321與傳感器反射板322之間的光通路貫通，光電傳感 器321接收到放射光(見圖Ila)，檢測單元32檢測到基片盒50未放置到位。較佳者，所述升降裝置40包括升降驅動機構41、輸出軸42和波紋管43，所述真空 腔體10的底部開設有安裝孔331，所述波紋管43 —端與所述升降驅動機構41相連，另一 端與所述安裝孔331相連，所述升降驅動機構41與輸出軸42相連並驅動所述輸出軸42沿 垂直方向運動，所述輸出軸42滑動穿過所述波紋管43和安裝孔331並與所述固定板31固 定連接。所述波紋管43使得真空腔體10外的大氣環境和真空腔體10內分隔開來，有效地 保持真空腔體10內的真空環境。本實用新型中升降裝置40用於驅動基片盒載臺30在垂 直方向上的運動，使得基片盒50中的基片與外部的機械手的高度一致，方便機械手穿過出 口閘閥15取出基片。其中，升降驅動機構41包括傳感器和伺服電機，通過傳感器來檢測基 片盒50內基片的位置高度，通過伺服電機來實現基片盒載臺30的升降定位，由於採用該升降驅動機構41來進行升降定位在現有技術中屬於常用技術手段，再次就不予詳述。當基片 盒50在基片盒載臺30上固定好後，升降驅動機構41的傳感器檢測基片盒50內基片的高 度(一般檢測基片盒最下端基片的下底面高度或者最上端基片的上端面高度)，接著伺服 電機動作，推動固定板31運動，使得被檢測基片的高度與真空腔體10外部機械手的高度一 致，完成機械手與基片的對位操作。較佳者，所述密封式基片上載裝置100還包括基片上載控制系統，所述基片上載 控制系統分別與所述抽真空控制機構20、檢測單元32和升降裝置40電連接，並控制所述抽 真空控制機構20、檢測單元32和升降裝置40動作。具體地，基片上載控制系統還與出口閘 閥15和門傳感器電連接。參考附圖，詳細描述本實用新型密封式基片上載裝置100進行基片上載的工作原 理和工作過程首先，將基片盒50送至密封腔門14外部，門傳感器檢測到基片盒50的到達 信號；第一閘閥231和第三閘閥233打開，充氣系統開始工作，直至真空計22檢測到真空 腔體10內部的氣壓和外部相同，關閉第一閘閥231和第三閘閥233打開，充氣系統停止工 作，打開密封腔門14;將基片盒50通過密封腔門14送至基片盒載臺30上，固定板31上的 定位塊34將基片盒50固定，關閉密封腔門；第一閘閥231和第三閘閥233打開，與第三閘 閥233相連的抽真空系統、以及與第一閘閥231相連的粗抽空系統開始進行前期抽真空操 作，當真空腔體10內的氣壓到達一定值時，第一閘閥231和第三閘閥233關閉，與之相應的 抽真空系統停止工作，同時第二閘閥232打開，精抽空系統開始工作開始後期抽真空操作， 直至真空腔體10內的氣壓達到預定值。當真空計22檢測到真空腔體10內的氣壓為設定 的範圍時，出口閘閥15打開；在抽真空持續操作的同時，升降裝置40開始工作，輸出軸42 推動固定板31在垂直方向上移動，直至承載在固定板31上的基片盒50從下往上的第一塊 基片下底面與真空腔體10外部的機械手的高度一致，基片上載控制系統發出信號，外部的 機械手通過出口閘閥15伸入腔體10接住基片，再經過出口閘閥15離開真空腔體10，第一 基片上載完畢；升降裝置40繼續工作，輸出軸42推動基片盒載臺30下降，直至基片盒50 從下往上的第一塊基片下底面與真空腔體10外部的機械手的高度一致(即完成第二次對 位)，機械手穿過出口閘閥15取出第二次基片，重複上述操作，直至基片盒50內的基片上載 完畢，關閉第二閘閥232，精抽空系統停止工作，完成基片上載工作。當然，基片除了可以由下往上的順序上在載，還可以由上往下的順序上載，基片盒 載臺30在基片上載的過程中，相應地逐步上升，從而完成機械手與基片的對位。以上所揭露的僅為本實用新型的優選實施例而已，當然不能以此來限定本實用新 型之權利範圍，因此依本實用新型申請專利範圍所作的等同變化，仍屬本實用新型所涵蓋 的範圍。
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權利要求一種密封式基片上載裝置，用於將基片盒中的基片通過機械手上載至生產線上，其特徵在於，包括真空腔體，所述真空腔體的腔壁上分別開設有供所述基片盒進出的基片入口、供所述機械手進出的基片出口、以及通氣孔，所述基片入口安裝有與之相配合的密封腔門，所述基片出口上安裝有出口閘閥；抽真空控制機構，所述抽真空控制機構包括真空管、真空計和真空閘閥，所述真空管的一端與所述通氣孔相連通，另一端分別連接抽真空系統和充氣系統，所述真空計和真空閘閥均安裝在所述真空管上；基片盒載臺，所述基片盒載臺置於所述真空腔體內，所述基片盒載臺包括承載基片盒的固定板和檢測基片盒狀態的檢測單元；升降裝置，所述升降裝置的輸出軸密封穿過所述真空腔體的底部與所述基片盒載臺固定相連，並控制所述基片盒載臺做升降運動。
2.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述真空管包括第一真空 管和第二真空管，所述真空閘閥包括第一閘閥和第二閘閥，所述第一真空管和第二真空管 一端均與所述通氣孔相連，所述第一真空管的另一端與粗抽空系統和充氣系統相連，所述 第二真空管的另一端與所述精抽空系統相連，且所述第一真空管和第二真空管上分別安裝 有所述第一間閥和第二間閥，所述真空計安裝在所述真空管接近通氣孔的位置上。
3.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述密封腔門與所述真空 腔體相接觸的環形區域從內至外依次開設有相互平行的內圈凹槽、中圈凹槽及外圈凹槽， 所述內圈凹槽與外圈凹槽內分別裝有密封圈，所述中圈凹槽分別與所述內圈凹槽和外圈凹 槽相連通；所述抽真空控制系統還包括第三真空管和第三閘閥，所述第三真空管的一端與 所述中圈凹槽相連通，另一端分別與抽真空系統和充氣系統相連，所述第三閘閥安裝在所 述第三真空管上。
4.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述密封腔門上還安裝有 門傳感器。
5.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述固定板中部沿密封腔 門方向開設有凹槽，所述凹槽兩側的固定板上設有若干個定位塊，且所述定位塊圍成一個 基片盒定位區。
6.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述檢測單元包括光電傳 感器、傳感器反射板、傳感器擋板、擋板支架以及彈性部件；所述固定板與所述基片盒接觸 的部位開設有通槽，所述傳感器反射板安裝在所述固定板下表面臨近所述通槽的位置，所 述光電傳感器設置於所述傳感器反射板正下方，所述傳感器擋板呈Z字形，所述傳感器擋 板包括上板、彎折板及下板，所述傳感器擋板的上板斜向上地突出所述通槽的上端，所述下 板斜向下地突出所述通槽的下端並鄰近所述光電傳感器與所述傳感器反射板形成的光通 路，所述彎折板臨近所述上板的一端旋轉安裝在所述擋板支架上，所述擋板支架固定在所 述固定板下表面，所述彎折板臨近所述下板的一端與所述彈性部件相連，所述彈性部件的 另一端與所述固定板相連。
7.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，所述升降裝置包括升降驅 動機構、輸出軸和波紋管，所述真空腔體的底部開設有安裝孔，所述波紋管一端與所述升降驅動機構相連，另一端與所述安裝孔相連，所述升降驅動機構與所述輸出軸相連並驅動所 述輸出軸沿垂直方向運動，所述輸出軸滑動穿過所述波紋管和安裝孔並與所述固定板固定 連接。
8.如權利要求1所述的密封式基片上載裝置，其特徵在於，還包括基片上載控制系統， 所述基片上載控制系統分別與所述抽真空控制機構、檢測單元和升降裝置電連接，並控制 所述抽真空控制機構、檢測單元和升降裝置動作。
專利摘要本實用新型公開了一種密封式基片上載裝置，包括真空腔體、抽真空控制機構、基片盒載臺及升降裝置，真空腔體上設有基片入口、基片出口及通氣孔，所述基片入口安裝有密封腔門，所述基片出口上安裝有出口閘閥；所述抽真空控制機構包括真空管、真空計和真空閘閥，真空管的一端與通氣孔相連通，另一端連接抽真空系統和充氣系統，真空計和真空閘閥安裝在真空管上；基片盒載臺置於真空腔體內，包括固定板和檢測單元；所述升降裝置的輸出軸密封穿過所述真空腔體與所述基片盒載臺固定相連，並控制所述基片盒載臺做升降運動。與現有技術相比，本實用新型在基片上載過程中一直維持在穩定的真空狀態中，保證真空腔體的氣密封和清潔度。
文檔編號H01L21/68GK201638801SQ201020150350
公開日2010年11月17日 申請日期2010年3月30日 優先權日2010年3月30日
發明者劉惠森, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 範繼良, 郭業祥 申請人:東莞宏威數碼機械有限公司