光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、其製造方法及使用絕緣膜的電子器件的製作方法
2023-09-20 22:23:25 2
專利名稱：光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、其製造方法及使用絕緣膜的電子器件的製作方法
技術領域：
本發明涉及光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、絕緣膜的製造方法及使用絕緣膜的電子器件，特別是涉及即使在高於或等於100℃低於或等於200℃的溫度也可以加熱固化並能夠維持絕緣膜的形狀，而且不發生絕緣膜的剝離或多個膜間的電短路，能夠實現電子器件本來的機能的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、該絕緣膜的製造方法以及通過使用絕緣膜而能夠適用於耐熱性低的材料基板的電子器件。
背景技術：
在通過在電極間供給驅動電流使發光層發光的有機電致發光元件中，被區劃的像素部的隔壁和絕緣膜使用光敏性耐熱材料已公知。例如，作為曝光的部分通過顯像而溶解的正性耐熱性前驅體樹脂，已公知在具有羥基的可溶性聚醯亞胺中添加萘醌二疊氮後形成的物質(例如參照特開昭64-60630號公報(段落0002))。
另外，通過在聚醯亞胺前驅體中添加萘醌二疊氮，得到高析像清晰度、殘膜率高的正性光敏性聚醯亞胺已公知(例如參照特開2000-143980號公報(第10～11頁))。這些材料的圖案形成，因為使用高於或等於200℃的高沸點溶劑，含有醯胺基酸成分，所以在最終過程中，需要熱醯亞胺化反應、用於溶劑去除的高溫處理。
在圖3中表示作為電子器件的以往的有機電致發光元件。該有機電致發光元件10具有在玻璃基板2上形成的氧化銦錫(以下簡稱為ITO)等的透明電極3、在透明電極3上通過正性光敏性聚醯亞胺形成立體狀、並將透明電極分成數個區域的隔壁14A、以及在已區劃的透明電極3上形成的有機電致發光膜16。隔壁14A的端部14a，離透明電極3大致垂直地翹起。即，隔壁14A形成斷面矩形狀。
在圖4中表示該有機電致發光元件的簡要製造工序。為了製造該有機電致發光元件10，首先準備在玻璃基板2上具備ITO等的透明電極3以及在透明電極3上具備通過正性光敏性聚醯亞胺形成的正性光敏性聚醯亞胺膜14(圖4(a))。接著，使用在玻璃基板上塗布滷化銀成像乳劑而得到的曝光掩模5遮蔽在正性光敏性聚醯亞胺膜14上，從曝光掩模5的上方照射紫外線(圖4(b))。接著，實施鹼系顯像處理，去除已曝光的光敏性聚醯亞胺膜14，殘留未曝光的光敏性聚醯亞胺膜14，如果去除曝光掩模5就形成隔壁14A(圖4(c))。接著，使用蒸鍍掩模7遮蔽隔壁14A(圖4(d))，隨後例如從在不鏽鋼等金屬制薄膜上形成有開口的蒸鍍掩模7的上方依次形成由正孔輸送層、發光層、電子輸送層構成的有機電致發光膜16(圖4(e))。接著，在有機電致發光膜16上形成未圖示的電極，如果去除蒸鍍掩模7，可以製得有機電致發光元件10(圖4(f))。
發明內容
但是，如果按照以往的正性光敏性聚醯亞胺膜，例如像圖4(g)所示，隔壁14A的端部14a大致垂直於透明電極3地形成，因此即使是透明電極3上的未遮蔽的部分，有時也會產生不能蒸鍍的未蒸鍍部8。因此，透明電極3露出，在隔壁14A和透明電極3之間就變得容易進入水分，會發生有機電致發光膜16剝離，或在構成有機電致發光膜16的多個膜之間發生電短路，從而產生不能實現電子器件本來的機能這樣的問題。
另一方面，通常的由芳香族四羧酸二酐和芳香族二胺發生反應得到的聚醯亞胺樹脂，除其耐熱性以外，物理強度、電絕緣性等也優良，因此適合用於軟性印刷電路板、光致抗蝕劑薄膜等的基材用途。
但是，迄今為止商品化的聚醯亞胺樹脂，在多數通用的有機溶劑中是不溶性的，不過在N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲醯胺等這樣的高沸點的非質子性極性溶劑中是可溶性的，因此要求進行高溫加工。另外，有機電致發光的基板，通常使用硬質的玻璃基板，但也正期待使用輕的、具有柔軟性的薄膜狀基板等塑料基板，即使用耐熱性低的材料形成基板，也必須形成不需要能夠使絕緣膜充分固化的高溫加工的絕緣膜。
因此，本發明的目的在於，提供不發生絕緣膜的剝離、在多個膜之間不發生電短路，並能夠實現電子器件本來功能的光敏性聚醯亞胺組合物、使用該組合物的絕緣膜、這樣的絕緣膜的製造方法、以及使用絕緣膜的電子器件。
另外，本發明的另一目的在於，提供以有機電致發光膜為代表的電子材料領域中的可以進行低溫加工工藝的正性光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，即使在高於或等於100℃低於或等於200℃的溫度也能夠加熱固化、並能夠維持絕緣膜的形狀的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該組合物的絕緣膜、這樣的絕緣膜的製造方法、以及使用絕緣膜也能夠應用於耐熱性低的材料基板的電子器件。
本發明為了實現上述目的，提供一種光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其是在含有由酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其特徵在於，假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
另外，本發明為了實現上述目的，提供一種光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其是在含有由通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的含氟原子的成分而構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其特徵在於，假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
上述聚醯亞胺共聚物，優先選擇通過在內酯系催化劑存在下使酸二酐和二胺溶解於溶劑中直接醯亞胺化而得到，其重均分子量是5000～300000。
本發明為了實現上述目的，提供一種絕緣膜，其是以兩端相對於平板面具有規定傾斜角的方式形成在平板上的絕緣膜，由在含有通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物構成，其特徵在於，在上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
另外，本發明為了實現上述目的，提供一種絕緣膜，其是以兩端相對於平板面具有規定傾斜角的方式形成在平板上的絕緣膜，由在含有由通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的含氟原子的成分而構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物構成，其特徵在於，在上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
優先選擇上述規定的傾斜角是10～30°。
本發明為了實現上述目的，提供一種絕緣膜的形成方法，其是在平板上塗布在含有聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，遮蔽上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，並使上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物曝光，然後通過顯像和加熱上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物去除了不要部分而得到絕緣膜的絕緣膜的製造方法，其特徵在於，在上述塗布的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
另外，本發明為了實現上述目的，提供一種絕緣膜的形成方法，其是在平板上塗布在含有由含氟原子的成分構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，遮蔽上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，並使上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物曝光，然後通過顯像和加熱上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物去除了不要部分而得到絕緣膜的絕緣膜的製造方法，其特徵在於，在上述塗布的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
本發明為了實現上述目的，提供一種電子器件，其特徵在於，其具有基板、在上述基板上形成的電極、由以規定的圖案配置在上述電極上的有機電致發光膜構成的多個膜狀元件、以及在上述電極上使上述多個膜狀元件間絕緣而隔開的隔壁，上述隔壁具有相對上述電極的表面呈規定的傾斜角而形成的端部，上述多個膜狀元件具有與上述隔壁的端部重疊而形成的端部。
上述隔壁是在含有由酸二酐和二胺的醯亞胺化反應而得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，優先選擇上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
上述聚醯亞胺共聚物，優先選擇通過在內酯系催化劑存在下使酸二酐和二胺溶解於溶劑中直接醯亞胺化而得到，其重均分子量是5000～300000。
優先選擇上述規定的傾斜角是10～30°。
優先選擇上述基板是玻璃等透明基板，上述電極是ITO等透明電極。
根據本發明的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，由於使相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值為200～600，在安裝在基板上的電子器件等上作為絕緣膜塗布該光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、進行加熱時，絕緣膜的端部和基板以小的角度接合，在絕緣膜和基板之間不會產生間隙，因此能夠保護安裝部件。
另外，根據本發明的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，由於使用含有由含氟原子的成分構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物，因此，保持了耐熱性優良這樣的性質，可以應用於採用高於或等於100℃低於或等於200的低溫加工工藝的電子材料領域。
根據本發明的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，由於使用在內酯系催化劑存在下使酸二酐和二胺溶解於溶劑中直接醯亞胺化而得到、重均分子量是5000～300000的聚醯亞胺共聚物，因此能夠滿足在塗布光敏性聚醯亞胺樹脂組合物而成膜時的機械強度或成膜性。
根據本發明的絕緣膜，由於使用相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值為200～600的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，因此在安裝於基材上的電子器件等上作為絕緣膜塗布該光敏性聚醯亞胺樹脂組合物時，絕緣膜的端部和基材會以小的角度接合，通過在基材上反覆塗布絕緣膜，在兩者間不會產生間隙。因此，能夠使電子器件等不直接接觸大氣而保護電子器件等。
另外，根據本發明的絕緣膜，由於使用含有由含氟原子的成分構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物，因此加熱絕緣膜的溫度在高於或等於100℃低於或等於200℃即可，能夠在低溫使絕緣膜充分地固化。因此，在以有機電致發光膜為代表的電子材料領域的低溫加工工藝成為可能。特別是，能夠使用耐熱性低的材料的基板，能夠使隔壁充分地固化，同時，可以提供能夠維持上述隔壁的形狀的有機電致發光顯示器。
根據本發明的絕緣膜，由於使傾斜角為10～30°，因此，在作為絕緣膜塗布到基材上時，絕緣膜的端部和基材會以小的角度接合，通過在基材上反覆塗布絕緣膜，在兩者間不會產生間隙。因此，能夠使電子器件等不直接接觸大氣而保護基板等。
根據本發明的絕緣膜的形成方法，由於在安裝在基材上的電子器件等上作為絕緣膜塗布相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，因而絕緣膜的端部以距離基材小的角度翹起。因此，通過在基材上反覆塗布絕緣膜，兩者之間就不會產生間隙，能夠使電子器件等不直接接觸大氣，從而能夠保護電子器件等。
另外，根據本發明的絕緣膜的形成方法，由於塗布了含有由含氟原子的成分構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物，因此加熱絕緣膜的溫度在高於或等於100℃低於或等於200℃即可，能夠在低溫使絕緣膜充分地固化。因此，在以有機電致發光膜為代表的電子材料領域的低溫加工工藝成為可能。
根據本發明的電子器件，由於膜狀元件在隔壁的具有傾斜角的端部重疊形成，因此，在膜狀元件和隔壁之間不會產生間隙，能夠防止膜狀元件的接合不良。
根據本發明的電子器件，由於使用相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，因此，絕緣膜的端部以距離基材小的角度翹起，通過在基材上反覆塗布絕緣膜，在兩者之間不會產生間隙，能夠使電子器件不直接接觸大氣，從而能夠保護電子器件等。
根據本發明的電子器件，由於使用重均分子量是5000～300000的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，因此能夠滿足塗布光敏性聚醯亞胺樹脂組合物而成膜後的保護膜的機械強度或成膜性。
根據本發明的電子器件，由於使傾斜角為10～30°，因此作為絕緣膜塗布在基材上時，絕緣膜的端部和基材會以小的角度接合。因此，通過在基材上反覆塗布絕緣膜，在兩者之間就不會產生間隙，從而基材不直接接觸大氣，能夠保護基材。
根據本發明的電子器件，由於基板是玻璃基板，電極是ITO等透明電極，因此能夠有效地得到發光效率。
圖1是表示應用了本發明實施方式涉及的保護膜的有機電致發光元件的剖面圖；圖2是表示應用了本發明實施方式涉及的保護膜的有機電致發光元件簡要製造過程的剖面圖；圖3是表示以往的有機電致發光元件的剖面圖；圖4是表示以往的有機電致發光元件的簡要製造過程的剖面圖。
具體實施例方式
整體構成在圖1中表示應用了本發明的實施方式涉及的保護膜的有機電致發光元件。該有機電致發光元件1具備在玻璃基板2上形成的ITO等的透明電極3、在透明電極3上通過正性光敏性聚醯亞胺形成立體狀、並將透明電極分成數個區域的隔壁4A、以及在已區劃的透明電極3上形成的有機電致發光膜6。隔壁4A的端部4a以離透明電極3坡度小的傾斜角θ翹起而形成。
在此，正性光敏性聚醯亞胺通過在含有由酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成。
製造方法在圖2中表示該有機電致發光元件的簡要製造過程。為了製造該有機電致發光元件1，首先準備在玻璃基板2上具備ITO等的透明電極3以及在透明電極3上通過正性光敏性聚醯亞胺形成的正性光敏性聚醯亞胺膜4(圖2(a))。接著，用在玻璃基板上塗布滷化銀成像乳劑而得到的曝光掩模5遮蔽在正性光敏性聚醯亞胺膜4，從曝光掩模5的上方照射紫外線(圖2(b))。接著，實施通過鹼系顯像液進行的顯像處理，去除已曝光的正性光敏性聚醯亞胺膜4，殘留未曝光的正性光敏性聚醯亞胺膜4，如果去除曝光掩模5就會形成隔壁4A(圖2(c))。接著，如果熱處理隔壁4A，透明電極和隔壁4A會以規定的角度接合(圖2(d))。接著，例如以在不鏽鋼等金屬制薄膜上形成開口的蒸鍍掩模7遮蔽隔壁4A(圖2(e))。接著，從蒸鍍掩模7的上方依次蒸鍍正孔輸送層、發光層、電子輸送層，形成有機電致發光膜6(圖2(f))。接著，在有機電致發光膜6上形成未圖示的電極，如果去除蒸鍍掩模7，就製得有機電致發光元件。
在此，隔壁4A的端部4a以傾斜角θ和透明電極3接合。在形成有機電致發光膜6時，有機電致發光膜6的端部6a和隔壁4A的端部4a重疊地成膜。
以下，關於實施方式的各項目加以說明。
正性光敏性聚醯亞胺的溶解性通過給予作為取代基的羥基或者羧基來實現正性光敏性聚醯亞胺的溶解性。如果存在羥基或者羧基，對鹼性溶液的溶解性比沒有羥基或者羧基的聚醯亞胺變高。特別是，在取代基是酚性的羥基的情況下，如果聚醯亞胺構成單元大於600，正性光敏性聚醯亞胺的鹼溶解性不足，顯像時間需要很長，因而是不實用的。另外，如果聚醯亞胺構成單元小於200，正性光敏性聚醯亞胺的鹼溶解性會變得過剩，穩定地製作圖案變得困難。因此，可以使聚醯亞胺構成單元為200～600，優選為300～500。
聚醯亞胺構成單元這裡，所謂聚醯亞胺構成單元是指假設構成光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設作為包含在重複單元中的取代基的羥基或者羧基的總數為B，由A/B得到的值。
聚醯亞胺構成單元C＝重複單元的分子量A/包含在重複單元中的羥基、羧基數的總和B實驗的結果是，聚醯亞胺構成單元在200～600範圍時，可以得到具有坡度小的傾斜角θ的絕緣膜。進而通過規定其比例，能夠選擇地得到傾斜角θ。每個聚醯亞胺構成單元的羥基或者羧基越多，傾斜角θ越小，越少則傾斜角θ越大。在本發明中，傾斜角能夠在10～30°範圍任意地製作。
聚醯亞胺共聚物包含在本發明的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中的聚醯亞胺共聚物，在加熱下、通過適當的催化劑會形成醯亞胺環，因此耐熱性、耐溶劑性優良。這樣的聚醯亞胺共聚物通過使二胺和酸二酐溶解在有機溶劑中直接醯亞胺化而得到。另外，通過使二胺和酸二酐在有機溶劑中發生溶解反應，繼續添加二胺和酸二酐的至少一種而發生醯亞胺化，也可以得到聚醯亞胺共聚物。二胺和酸二酐的摩爾比，相對酸二酐的合計量1，優先選擇是0.95～1.05。
作為有機溶劑，可舉出N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、γ-丁內酯等。這些可以單獨使用，也可以混合2種或以上使用。另外，為提高塗布性能，可以單獨使用丙二醇單甲醚乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、乙二醇乙丁醚、乙二醇乙丁醚乙酸酯等溶劑，或者也可以混合2種或以上使用。
聚醯亞胺共聚物的重均分子量在本發明中，聚醯亞胺共聚物的重均分子量優先選擇是5000～300000的範圍。在不到5000時，膜的機械強度不足，同時清漆狀態下的制膜性變得困難。如果超過300000，保存穩定性變得低劣的同時，制膜變得困難。因此，優先選擇是5000～300000的範圍，更優先選擇是10000～100000的範圍。另外，通過含有大於或等於10％重量份的氟原子，在鹼性水溶液中進行顯像時，在膜的界面產生適度的拒水性，因此可以抑制浸入界面等。
感光劑作為感光劑，可舉出二偶氮萘醌磺酸酯、1，4-二氫化吡啶、硝苯吡啶、聚氫化苯乙烯、具有叔丁氧羰基的鎓鹽等。其中特別優先選擇二偶氮萘醌磺酸酯等二偶氮萘醌化合物。相對聚醯亞胺固體成分100重量份，感光劑需要配合1～60重量份，優先選擇配合15～45重量份。如果不到1重量份，得不到充分的感光性，如果超過60重量份，則不能保持膜，因此不能得到充分的圖案。
熱處理使用聚醯亞胺前驅體的聚醯胺基酸，在後處理中進行醯亞胺化等往往需要高溫熱處理。通常在200～350℃一般是加熱1～60分鐘。但是，本發明中的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，由於已經完成醯亞胺閉環，因此不需要醯亞胺閉環中所必要的高溫處理，在形成隔壁乃至絕緣膜時的後烘烤過程中也是穩定的。
顯像液作為顯像液，可舉出由N-甲基-2-吡咯烷酮、單乙醇胺、水構成的有機溶劑體系，由單乙醇胺、水構成的有機溶劑體系，由N-甲基-2-吡咯烷酮、水構成的有機溶劑體系等。根據需要，可以添加甲醇、乙醇等醇，甲苯、二甲苯等芳香族烴。另外，可舉出氫氧化鈉水溶液、氫氧化鉀水溶液、氫氧化四甲銨水溶液等無機鹼水溶液。這些可以單獨使用或者混合2種或以上使用，但並不限於此。
密合性進而，在該光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，除上述的必須成分以外，為了提高與無機電極/玻璃的密合性，在不降低耐熱性的範圍作為任意成分還可以配合矽烷偶合劑，相對聚醯亞胺固體成分100重量份，矽烷偶合劑是小於或等於30重量份，優先選擇是0.5～20重量份。該任意成分如果在該範圍內，就不會有對光敏性聚醯亞胺樹脂組合物產生影響的問題，能夠形成基板密合性更優良的隔壁。另外，為了調整粘性等，光敏性聚醯亞胺樹脂組合物可以用各種有機溶劑稀釋。而且，根據需要，也可以配合填充材料、流平劑、消泡劑等添加劑等。
塗布方法光敏性聚醯亞胺樹脂組合物的塗布，使用浸漬塗布法、輥塗法、旋轉塗布法、二重塗布法、繞線式刮塗棒法、絲網印刷法等方法塗布在基板上，然後使用烘箱或加熱板進行加熱乾燥和固化。這樣得到的塗布膜通常使用光刻法等方法進行圖案加工。即，進行曝光顯像形成所要求的圖案。
按照本發明的實施方式，隔壁的端部和透明電極以規定的角度接合，由於隔壁的端部和有機電致發光膜的端部重疊，因此在隔壁的端部和透明電極之間不產生間隙，透明電極不露出，因而不發生電短路。
再者，在具備將基板區劃成多個區間的隔壁和在已區劃的基板上形成的保護膜的電子器件中，上述保護膜和上述隔壁的端部也可以重疊形成。
以下，根據實施例更具體地說明本發明。不過，本發明並不限於所述實施例。
實施例1在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入17.77g的2，2-雙(3，4-脫水二羧苯基)六氟丙烷(以下稱為「6FDA」)和6.05g的3，3′-二羥基聯苯磺胺(以下稱為「HOAB」)、1.82g的3，5-二氨基苯甲酸(以下稱為「DABz」)，再放入0.45g的γ-己內酯、0.63g的吡啶、96.8g的N-甲基吡咯烷酮(以下稱為「NMP」)、19.4g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到16.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加7.2g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例2在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入8.88g的6FDA、2.94g的3，4，3，4-聯苯四羧酸二酐(以下稱為「BPDA」)和4.54g的HOAB、1.37g的DABz，再放入0.34g的γ-己內酯、0.47g的吡啶、66.6g的NMP、13.3g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到11.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加4.95g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例3在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入22.2g的6FDA和10.8g的HOAB，再放入0.60g的γ-己內酯、0.70g的吡啶、124.8g的NMP、25g的甲苯，升溫至180℃，反應1小時30分。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到21.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加14.04g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光在聚醯亞胺膜上進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像2分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例4在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入16.35g的二環(2，2，2)辛-7-烯2，3，5，6-四羧酸二酐(以下稱為「BCD」)和14.3g的HOAB，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到19.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光在聚醯亞胺膜上進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像2分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例5在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入17.77g的6FDA、1.73g的HOAB和4.87g的DABz，再放入0.45g的γ-己內酯、0.63g的吡啶、97.4g的NMP、19.4g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到16.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加7.2g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光在聚醯亞胺膜上進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
對比例1在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入12.41g的BCD、3.80g的DABz、7.35g的BPDA、5.41g的雙{4-(4-氨基苯氧基)苯}(以下稱為「m-BAPS」)和4.36g的六亞甲基二胺(以下稱為「HMDA」)，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到23.3g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光在聚醯亞胺膜上進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像3分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。但是其傾斜角是35°，不能得到坡度小的傾斜角。
對比例2在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入12.41g的BCD、5.01g的4，4′-二氨基二苯醚(以下稱為「p-DADE」)、7.35g的BPDA、5.41g的m-BAPS和4.36g的HMDA，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到23.3g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像形成圖案，但是浸漬1小時後也不能得到足夠的圖案。
對比例3在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入13.8g的1，2，3，4-環戊烷四羧酸二酐(以下稱為「CPDA」)、14.3g的HOAB，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、112.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到19.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在無鹼玻璃或者ITO基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像形成圖案，但是浸漬1小時後也不能得到足夠的圖案。
關於實施例1～5和對比例1～3，在表1中表示相對羥基或者羧基的聚醯亞胺的構成單元的分子量、顯像後的圖案形成可否、傾斜角、顯像時間的關係。
表1 從表1的結果可以確認，按照實施例1～5，聚醯亞胺構成單元的分子量如果是200～600，顯像後的圖案形成是可能的，而且傾斜角也包含在10～30°的範圍內。
實施例6在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入17.77g的6FDA、6.05g的HOAB和1.82g的DABz，再放入0.45g的γ-己內酯、0.63g的吡啶、96.8g的NMP、19.4g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到16.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，作為感光劑添加7.2g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至170℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例7在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入8.88g的6FDA、2.94g的BPDA、4.54g的HOAB和1.37g的DABz，再放入0.34g的γ-己內酯、0.47g的吡啶、66.6g的NMP、13.3g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到11.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，作為感光劑添加4.95g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至170℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例8在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入22.2g的6FDA和10.8g的HOAB，再放入0.60g的γ-己內酯、0.70g的吡啶、124.8g的NMP、25g的甲苯，升溫至180℃，反應1小時30分。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到21.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，作為感光劑添加14.04g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像2分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至170℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
實施例9在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入17.77g的6FDA、1.73g的HOAB和4.87g的DABz，再放入0.45g的γ-己內酯、0.63g的吡啶、97.4g的NMP、19.4g的甲苯，升溫至180℃，反應2小時。轉數設定為250r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到16.0g白色聚醯亞胺樹脂粉末。將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加7.2g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像1分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至170℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
得到的膜厚是2μm，具有線和間隔10μm的析像清晰度。
再者，該聚醯亞胺粉末對丙二醇-1-單甲醚能夠溶解。
對比例4在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入12.41g的BCD、3.80g的DABz、7.35g的BPDA、5.41g的m-BAPS和4.36g的HMDA，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到23.3g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解。
對比例5在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入12.41g的BCD、3.80g的DABz、7.35g的BPDA、5.41g的m-BAPS和4.36g的HMDA，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到23.3g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解，因此將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像3分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
但是，看到聚對苯二甲酸乙二醇酯基板產生大的翹曲變形，不能實施以後的評價。
對比例6在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入12.41g的BCD、5.01g的p-DADE、7.35g的BPDA、5.41g的m-BAPS和4.36g的HMDA，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到23.3g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試將該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解，因此將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像形成圖案，但是浸漬1小時後也不能得到足夠的圖案。
對比例7在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入13.8g的CPDA和14.3g的HOAB，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、112.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到19.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試將該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解，因此將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像形成圖案，但是浸漬1小時後也不能得到足夠的圖案。
對比例8在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入16.35g的BCD和14.3g的HOAB，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180℃，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到19.8g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試將該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解。
對比例9在裝有攪拌器的300ml的可分離三口燒瓶上安裝具備帶矽閥的分液器的球頭冷卻管後的容器中，放入16.35g的BCD和14.3g的HOAB，再放入0.86g的γ-己內酯、1.2g的吡啶、122.6g的NMP、24.5g的甲苯，升溫至180，反應5小時。轉數設定為180r/min，隨著反應降低而適宜地降低。另外，從矽閥去除反應中生成的水，得到反應液(清漆)。然後，將反應液投入甲醇中，在高速攪拌後，用玻璃過濾器過濾，得到19.g白色聚醯亞胺樹脂粉末。嘗試該聚醯亞胺粉末製備成丙二醇-1-單甲醚的12％溶液，但不能溶解，因此將該聚醯亞胺粉末製成γ-丁內酯/1-甲氧基-2-丙醇的12％溶液，作為感光劑添加10.5g二偶氮萘醌，得到光敏性聚醯亞胺。
將該溶液塗布在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上後，在95℃進行預烘烤，形成聚醯亞胺膜。以通過掩模的曝光對聚醯亞胺膜進行300mJ/cm2照射，以使用鹼系顯像液的顯像2分鐘形成圖案。接著，將該聚醯亞胺膜加熱至230℃，進行溶劑去除，形成聚醯亞胺著色膜。
但是看到聚對苯二甲酸乙二醇酯基板產生大的翹曲變形，不能實施以後的評價。
關於實施例6～9和對比例4～9，在表2中表示對丙二醇-1-單甲醚的溶解性、相對羥基或者羧基的聚醯亞胺的構成單元的分子量、顯像後的圖案形成可否、傾斜角、顯像時間、基板變形的關係。
表2
從表2的結果可以確認，按照實施例6～9，對丙二醇-1-單甲醚能夠溶解，聚醯亞胺構成單元的分子量的值在200～600的範圍，顯像後的圖案形成是可能的，而且傾斜角也包含在10～30°的範圍內，也沒有基板的變形。
權利要求
1.一種光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其是在含有由酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其特徵在於，假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
2.一種光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其是在含有由通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的含氟原子的成分而構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其特徵在於，假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
3.根據權利要求1或2所述的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，其特徵在於，上述聚醯亞胺共聚物通過在內酯系催化劑存在下使酸二酐和二胺溶解在溶劑中直接醯亞胺化而得到，其重均分子量是5000～300000。
4.一種絕緣膜，其是以兩端相對於平板面具有規定傾斜角的方式形成在平板上的絕緣膜，由在含有通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物構成，其特徵在於，在上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
5.一種絕緣膜，其是以兩端相對於平板面具有規定傾斜角的方式形成在平板上的絕緣膜，由在含有由通過酸二酐和二胺的醯亞胺化反應得到的含氟原子的成分而構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物構成，其特徵在於，在上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
6.根據權利要求4或5所述的絕緣膜，其特徵在於，上述規定的傾斜角是10～30°。
7.一種絕緣膜的形成方法，其是在平板上塗布在含有聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，遮蔽上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，並使上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物曝光，然後通過顯像和加熱上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物去除了不要部分而得到絕緣膜的絕緣膜的製造方法，其特徵在於，在上述塗布的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
8.一種絕緣膜的形成方法，其是在平板上塗布在含有由含氟原子的成分構成的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，遮蔽上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，並使上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物曝光，然後通過顯像和加熱上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物去除了不要部分而得到絕緣膜的絕緣膜的製造方法，其特徵在於，在上述塗布的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物中，在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
9.一種電子器件，其特徵在於，其具有基板、在上述基板上形成的電極、由以規定的圖案配置在上述電極上的有機電致發光膜構成的多個膜狀元件、以及在上述電極上使上述多個膜狀元件間絕緣而隔開的隔壁，上述隔壁具有相對上述電極的表面呈規定的傾斜角而形成的端部，上述多個膜狀元件具有與上述隔壁的端部重疊而形成的端部。
10.根據權利要求9所述的電子器件，其特徵在於，上述隔壁是在含有由酸二酐和二胺的醯亞胺化反應而得到的聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺樹脂組合物中添加感光劑而生成的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物，上述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。
11.根據權利要求10所述的電子器件，其特徵在於，上述聚醯亞胺共聚物通過在內酯系催化劑存在下使酸二酐和二胺溶解在溶劑中直接醯亞胺化得到，其重均分子量是5000～300000。
12.根據權利要求9所述的電子器件，其特徵在於，上述規定的傾斜角是10～30°。
13.根據權利要求9所述的電子器件，其特徵在於，上述基板是透明基板，上述電極是透明電極。
全文摘要
本發明涉及能夠防止膜的剝離、電短路，能夠實現電子器件本來的機能的光敏性聚醯亞胺樹脂組合物、使用該光敏性聚醯亞胺樹脂組合物的絕緣膜、這樣的絕緣膜的製造方法及使用絕緣膜的電子器件。所述光敏性聚醯亞胺樹脂組合物在假設構成上述聚醯亞胺共聚物的聚醯亞胺主鏈中的重複單元的分子量為A、假設包含在上述重複單元中的取代基的總數為B、假設上述重複單元的分子量與上述取代基的總數的比例A/B為相對取代基的聚醯亞胺構成單元C時，上述相對取代基的聚醯亞胺構成單元C的值是200～600。該光敏性聚醯亞胺樹脂組合物作為絕緣膜塗布在被安裝在基板上的電子器件等上，在加熱時，絕緣膜的端部的傾斜角為10～30°。
文檔編號H05B33/14GK1637072SQ20041008666
公開日2005年7月13日 申請日期2004年12月10日 優先權日2003年12月12日
發明者本田佑樹, 香川博之, 山田茂樹, 神村誠二, 佐藤孝弘 申請人:日立電線株式會社