基於布線臨界區域和全局臨界區域的比較的隨機產量改進的製作方法

2023-09-16 15:43:15 1

專利名稱：基於布線臨界區域和全局臨界區域的比較的隨機產量改進的製作方法
技術領域：
本發明涉及集成電路的設計與製備。更為具體地，本發明涉及用 於減少隨機產量損失的方法和裝置。
背景技術：
隨著半導體製造技術進入到深亞微米時代，與可加工性和產量相 關的問題正變得日趨重要了。在目前的工藝中，許多因素可導致產量 損失，其中包括隨機汙染粒子、在光刻工藝期間的印刷特徵的失真、 源自拋光工藝的厚度變化。這部分由於隨機汙染粒子造成的產量損失 被稱為隨機產量損失。很期望減少隨機產量損失，因為可以降低生產 成本，從而增加了半導體晶片的收益性。

發明內容
本發明的 一 個實施方式提供了 一種用於減少隨機產量損失的系 統。實施方式可以在臨界區域評估器的智能指導下執行布局優化，從 而確保該布局優化降低隨機產量損失。
本發明的 一個實施方式動態地選擇布局優化技術。實施方式可以 處理金屬和空白區域不同的粒子密度。
在操作中，系統可以接收設計布局。該系統也可以接收與金屬區 域和空白區域的粒子密度相關聯的加權因數。接下來，該系統可以針
對一組布線部分(wire-segments)確定局部臨界區域比率 (critical-area-ratios )和優化潛力(optimization potentials )。 接著該 系統可以利用該優化潛力選擇布線部分，並且對局部臨界區域比率與 全局臨界區域比率進行比較。接下來，該系統可以利用比較的結果來 確定布局優化。於是該系統可以將該布局優化應用到該布線部分以獲得改進了的布局。


圖1示出了根據本發明的實施方式的集成電路設計與製備中的各
個階段；
圖2A示出了根據本發明的實施方式的短路臨界區域； 圖2B示出了根據本發明實施方式的斷路臨界區域； 圖3呈現了示出了根據本發明的實施方式的減少隨機產量損失的 方法的流程圖4示出了根據本發明的實施方式的布線部分的示例性的空間上 可視的鄰居；
圖5示出了根據本發明的實施方式的系統如何可以將布線加寬應 用到布線部分；
圖6示出了根據本發明的實施方式的系統如何可以將布線擴展應 用到布線部分。
具體實施例方式
集成電路(IC)設計流程
圖1示出了根據本發明的實施方式在集成電路設計與製備中的各 個階段。
該方法以該產品理念(步驟100)的概念開始，其利用EDA軟體 設計過程(步驟110)實現的。當設計完成，便可以進行離帶(tape-out) (事件140)。在離帶之後，執行製備過程(步驟150)以及封裝和 組裝過程(步驟160)，從而最終得到成品晶片(結果170)。
該EDA軟體設計過程(步驟110)依次包括步驟112-130，如下 文所述。注意該設計流程描述僅作說明用途。這個描述並不意味著用 來限制本發明。例如，實際的集成電路設計可能需要設計者以與下文 描述不同的順序來執行設計步驟。下面的討論提供了在設計過程中的 步驟的進一步細節。
6系統設計(步驟112):在這一步驟，設計者描述他們想要實現
的功能。他們也可以執行假設計劃來完善功能、檢查成本等。硬體軟
件架構劃分可以發生在這個階段。可以用於這個步驟的來自Synopsys 公司的示例性的EDA軟體產品包括Model Architect、 Saber、 System Studio和Design Ware⑧產品。
邏輯設計與功能驗證(步驟114):在這一階段，編寫用於系統
內模塊的VHDL或Verilog代碼並且為功能的準確性進行檢查。更具 體地，對設計進行4企查以確保產生正確的輸出。可以用於這個步驟的 來自Synopsys公司的示例性的EDA軟體產品包括VCS、 VERA、 DesignWare 、 Magdlan、 Formality、 ESP和LEDA產品。
綜合和設計測試(步驟116):這裡，VHDL/Verilog被轉譯為網 表。該網表可以被優化用於目標技術。另外，可以設計並且執行測試 用來檢查成品晶片。可以用於這個步驟的來自Synopsys公司的示例 性的EDA軟體產品包括Design Compiler 、 Physical Compiler、 Test Compiler、 Power Compiler、 FPGA Compiler、 Tetramax和 DesignWare⑧產品。
網表驗證(步驟U8):在這一步驟，針對遵守時間約束和與 VHDL/Verilog原始碼的對應性對網表進行檢查。可以用於這個步驟 的來自Synopsys公司的示例性的EDA軟體產品包括Formality、 PrimeTime和VCS產品。
設計規劃(步驟120):這裡，對用於晶片的總體平面布置圖進 行建造和分析用於時序(timing)和頂級線路布置。可以用於這個步 驟的來自Synopsys公司的示例性的EDA軟體產品包括Astro和IC Compiler產品。
物理實現(步驟122 ):在這一步驟發生放置(電路元件的定位) 和線路布置(電路元件的連接)。可以用於這個步驟的來自Synopsys 公司的示例性的EDA軟體產品包括Astro和IC Compiler產品。
分析和提取(步驟124):在這一步驟，在電晶體級驗證電路功 能，這反過來允許假設完善。可以用於這個步驟的來自Synopsys公司的示例性的EDA軟體產品包括Astro Rail 、 PrimeRail 、 Primetime 和Star RC/XT產 品0
物理驗證(步驟126):在這一步驟，為確保製造、電子問題、 光刻問題和電路的正確性對設計進行檢查。可以用於這個步驟的來自 Synopsys公司的示例性的EDA軟體產品包括Hercules產品。
解析度提高(步驟128):這一步驟涉及布局的幾何運算以提高 設計的可製造性。可以用於這個步驟的來自Synopsys公司的示例性 的EDA軟體產品包括Proteus、 ProteusAF和PSMGen產品。
掩模數據準備(步驟130):這一步驟為掩模的生產提供"離帶" 數據以生產成品晶片。可以用於這個步驟的來自Synopsys公司的示 例性的EDA軟體產品包括CATS(R)產品系列。
本發明的實施方式可以在一個或多個上述步驟期間使用。其中一 個實施方式可以在設計規劃(步驟120)期間使用。
隨機產量損失
隨機產量損失可以依賴於布局中的臨界區域。臨界區域衡量設計 對隨機汙染粒子的易感度。臨界區域可以被定義為晶片上的落入汙染 粒子會導致災難性故障的區域。臨界區域可以分類為斷路臨界區域或 短路臨界區域，這基於當隨機汙染粒子落入臨界區域時，將會發生故 障的類型是斷路或短路。隨機產量損失可以看作是斷路和短路臨界區 域的函數。
粒子密度可以是另一個影響隨機產量損失的參數。粒子密度可以 被定義為總粒子數除以總晶片或晶片面積。由於粒子的大小不同，可 使用 一組粒子密度值，其中每個粒子密度值對應於大小在某一特定範 圍內的粒子的密度。
在布局設計中為了減少隨機產量損失，臨界區域可以用於指導布 局優化。可以執行布局優化以縮小臨界區域，從而減少了隨機產量損 失。
布局優化傳統上是由面積、時序和功率來驅使的。 一般來說，布局優化通常是作為事後想法來縮小臨界區域的。通常當布局設計已經 針對區域、時序和功率進行了優化時在後線路布置階段執行臨界區域 優化。現有技術工藝一般不具有產量意識，並且它們通常無法確保隨 機產量損失會減少。
降低斷路臨界區域可以增加短路臨界區域，反之亦然。例如，增 大布線部分之間的間距(即布線擴展)通常縮小了短路臨界區域但擴 大了斷路臨界區域。同樣，增加布線部分的寬度(即布線加寬)通常 減小了斷路臨界區域但增加了短路臨界區域。因此，僅應用了一種布 局優化的優化技術不能確保總臨界區域的減小。此外，在一類優化之 前使用另一類優化的技術也會遭受類似的缺點。這是因為這種靜態方 法更為默許其中 一種技術，而不管哪個的臨界區域的組成更大些。
上述關於現有技術工藝的問題在當前的過程中進一步加重，原因 是粒子可能優先聚集在金屬區域或空白區域。換言之，粒子密度可能 在金屬區域與空白區域有所不同，並且從一 個製造工廠到另 一個製造 工廠或者可能跨越處理流水線而發生變化。由於落入金屬區域的粒子
可能導致斷路，落入空白區域的粒子可能導致短路，金屬區域和空白 區域中粒子密度的不同可以導致對於短路臨界區域和斷路臨界區域 的產量損失貢獻顯著不同。本發明的一個實施方式同時考慮斷路臨界 區域和短路臨界區域，以及相應的粒子密度，從而確保隨機產量損失 的減少。
實施方式可以使用任何類型的隨機產量模型，以減少隨機產量損
失。例如，實施方式可以使用Poisson模型，其中隨機產量L由F,e—"^
給出，其中4表示臨界區域，仏表示粒子密度。另外，該系統可以使
用Negative Binomial模型。
圖2A示出了根據本發明的實施方式的短路臨界區域。 布線部分202和204是設計布局的一部分。粒子206與布線部分 204交疊，而不與布線部分202交疊。然而，粒子208既與布線部分 202交疊又與布線部分204交疊，因此，可能使得布線部分202與204 短路從而在電路中導致災難性的故障。如果粒子208的中心位於區域210內的任何位置，便可能造成布線部分202和204之間的短路。短 路臨界區域的大小取決於多種因素，包括粒子的大小。與大小與粒子 20 8相同的粒子相關聯的區域210可以為短路臨界區域。與較大粒子 相關聯的短路臨界區域通常會較大，並且與較小粒子相關聯的短路臨 界區域通常會較小。
圖2B示出了根據本發明的實施方式的斷路臨界區域。 布線部分252是設計布局的一部分。粒子254與布線部分252的 寬部分交疊。然而，粒子256與布線部分252的寬完全交疊，因此可 能使得布線部分25 2成為斷路從而在電路中導致災難性的故障。如果 粒子256的中心位於區域258的任何位置，可能導致布線部分252成 為斷路。斷路臨界區域的大小可能取決於多種因素，包括粒子的大小。 區域258可以為與大小與粒子256相同的粒子相關聯的斷路臨界區 域。與較大粒子相關聯的斷路臨界區域通常會較大，並且與較小粒子 相關聯的斷路臨界區域通常會較小。
一旦針對所有布線部分的臨界區域被獨立提取，這些區域的幾何 併集可以給出粒子大小x的總臨界區域A.W。接下來，總平均臨界區 域可以通過在所有的粒子大小上求平均來確定。例如，總平均臨界區 域4可以用表達式
來確定，其中^"和^,("分別為最小粒子大小和最大粒子大小，/W為粒 子大小的分布函數。
如果屬於不同網的 一對布線部分"'》具有彼此可視的部分，對於 特定的粒子大小x，短路臨界區域可以用表達式
來確定，其中"為該對布線部分之間的間距，^為可視長度。 斷路臨界區域可以用表達式來確定，其中w'為布線部分寬度，A為布線部分長度。
以上方程式可以用來在分析上確定平均短路臨界區域和平均斷路臨界區域。例如，在一組特定的假設下，平均斷路臨界區域和平均短路臨界區域的表達式變成
方程(4)表明對於相同的可視長度&，增大間距&使得短路臨界區域縮小。這是布線擴展技術背後的合理性，從相鄰的布線部分移動布線部分或者部分的布線部分，經過該移動使得該相鄰布線部分具有小間距和較大的可見長度。同樣，方程(5)表明了布線擴展可以縮小斷路臨界區域。
然而，僅使用布線擴展或布線加寬可能對總臨界區域產生消極影響。例如，布線擴展明顯的引進了曲折(jogs)，從而增加了布線部
分長度。該布線部分長度可以增加2^, 5為在布線擴展中布線部分的
^ 一 /, + 2 .5
移動量。因此，斷路臨界區域可以擴大到。2'w,。
同樣，將布線部分寬度增加^可以縮小斷路臨界區域，但其可能
將短路臨界區域從'增加到、2U2) 2'"-^2)，其中布線部分z'位於布線部分V和布線部分A之間，^為布線部分z'和布線
部分7之間的可4見長度，為布線部分z'和布線部分*之間的可^L長度，"為布線部分和布線部分)之間的間距，"為布線部分''和布線部分&之間的間距。因此，僅縮小短路或斷路臨界區域可能不能縮小總臨界區域。
此外，以靜態的順序都執行布線擴展和布線加寬的現有技術工藝也具有缺點。首先，如果短路臨界區域不是給定設計總產量損失的主
要因素，那麼總是在執行布線加寬之前執行布線擴展是一種浪費。這種情況的一個例子為，當原斷路臨界區域比短路臨界區域大得多，從而更多地對產量損失起到貢獻時。在這種情況下縮小短路臨界區域是不可取和浪費的，因為由於斷路臨界區域可能會增加因此可能並不能縮小總臨界區域。此外，由於增加了曲折的存在從而引入了製造上的問題。
此外，靜態技術不需要考慮在隨機產量計算中短路臨界區域和斷路臨界區域可能不需要同等加權的可能性。曾提及，隨機產量損失依賴於臨界區域和粒子密度。現有技術工藝通常假設越過整個晶片有一個統一的粒子密度。然而，在現代半導體製造過程中，汙染粒子可能優先集中在晶片的金屬區域或空白區域。與現有技術工藝不同的是，本發明的 一個實施方式針對金屬區域和空白區域處理不同的粒子密度。
加權臨界區域
本發明的 一 個實施方式通過利用加權因數對短路臨界區域和斷路臨界區域進行加權來確定總臨界區域。加權因數可能與兩種類型的臨界區域對隨機產量損失的影響相關。尤其地，加權因數可能來自設計布局中金屬區域和空白區域中的汙染粒子密度。
曾提及，短路臨界區域集中在布線部分之間，斷路臨界區域集中在布線部分上。為了正確地說明大粒子的大小，總臨界區域可以通過採用短^^臨界區域和斷路臨界區域的併集來確定。注意到，對於大粒子的大小，短路臨界區域可能與斷路臨界區域交疊。因此，取併集以確保不會雙計交疊的臨界區域。然而，由於大粒子罕見，在斷路臨界區域和短路臨界區域之間出現交疊的概率小。因此，我們可以近似地將短路臨界區域和斷路臨界區域的和作為總臨界區域。
如上所述，在金屬區域的粒子密度可能與在空白區域的粒子密度不同。 一個實施方式通過為短路和斷路臨界區域分別引入加權因數^和w。，並且同時使用相同的平均粒子密度"，來處理該粒子密度的差。該方法處理不同的加權因數可能是有利的，因為其可以使線路布置工具利用該加權信息從而適當地指導優化。具體來說，加權臨界區域用表達式^窗。'=^ .爿、如"+ W° . V"' ( 6 )
來確定，其中^'。"為加權總臨界區 ，^。〃為短路臨界區域，A戸為斷路臨界區域。在下文中，表達式(W4—)被稱為加權短路臨界區域，表達式k 4戶)被稱為加權斷路臨界區域。
注意到，加權臨界區域可以針對一個布線部分， 一組布線部分或在一層中的全部布線部分來確定。加權臨界區域可以看作隨機產量的一個代表，減小這個量有望於減少隨機產量損失。 一個實施方式使用加權臨界區域作為成本函數，布局優化過程試圖將其減到最小。
布局優化
一種實施方式一次對一層執行布局優化。在優化中，實施方式可以移動布線部分，但不移動過孔。另一種實施方式一次對多層進行優化，因此，除了布線部分還可以移動過孔。每層可以有一個優先線路布置方向，水平的或豎直的。因為在一層中的大多數布線部分期望在優先方向上，實施方式在與該層的優先方向正交的方向上移動布線部分。
在 一 個實施方式中，系統可以為所有布線部分計算出優化潛力。布線部分的優化潛力可以是它的加權短^"臨界區域和加權斷^"臨界區域的 一個函數，並且可以是對局部區域內問題的嚴重性和可獲得的靈活性的評估。實施方式可以選擇具有最高優化潛力的布線部分並
"鎖定"它，從而防止相同的布線部分被連續的迭代優化。布線部分接下來是被加寬或擴展，依賴於該布線部分的加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域之間的比率。加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域可以提供一個指示，該指示關於哪一類的臨界區域對於該層的加權臨界區域的貢獻更大。
於是該系統可以利用適當的布局優化技術去試圖縮小主要類型的臨界區域，包括布線加寬和/或布線擴展。在布線部分才丸行完布局優
另外，在對多個布線部分執行完布局優化後，優化潛力可能會更新。優化潛力更新後，可以選擇"未鎖定"布線部分中具有最大優化潛力的布線部分，並且對該過程進行重複。注意到，該過程可以根據加權斷路臨界區域和短路臨界區域，動態地調整被加寬和擴展布線部分的數量。布線部分擴展或加寬的量也依賴於其相鄰布線部分的配置而發生變化。由於整層的加權臨界區域可以近似地由各個布線部分的加權臨界區域相加得到，因此縮小各個
布線部分的加權臨界區域可以縮小整層的加權臨界區域。減少隨機產量損失的流程
圖3呈現了一流程圖，示出了根據本發明的實施方式減少隨機產量損失的方法。
該過程可以以接收設計布局和加權因數開始(步驟302 )。
加權因數可以與設計布局中金屬區域和空白區域的粒子密度相關聯。粒子密度通常對於期望被用於製備設計布局的半導體製造過程和/或製造工廠而為特定的。
接下來，該系統可以確定一個全局臨界區域比率(步驟304)。該全局臨界區域比率可以是該層加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域的一個函數。在一種實施方式中，該全局臨界區域比率可以通過將該層的加權斷路臨界區域除以該層的加權短路臨界區域來確定。
於是該系統可以為在設計布局中的 一 組布線部分確定局部臨界區域比率和優化潛力(步驟306 )。布線部分可以是部分布線或某一特定方向上布線的最長連續部分或整個布線。在一種實施方式中，系統可以為布局的優先方向中的 一 組布線部分確定優化潛力。
系統可以利用 一組布線部分的加權斷^各臨界區i或和加一又短-各臨界區域來確定局部臨界區域比率。在一種實施方式中，系統可以首先確定布線部分的加權斷路臨界區域。具體而言，系統可以通過利用與金屬區域內粒子密度相關聯的因數來調節斷路臨界區域從而確定加權斷路臨界區域。接下來，系統可以為布線部分確定加權短路臨界區域。具體而言，系統可以通過利用與空白區域內粒子密度相關聯的因數來調節短路臨界區域從而確定加權短路臨界區域。系統接著可以通過加權斷路臨界區域和短路臨界區域來確定局部臨界區域比率。在一種實施方式中，系統可以將加權斷路臨界區域除以短路臨界區域來得 到局部臨界區域比率。
接下來，系統可以利用優化潛力來選擇第一個布線部分(步驟 308 )。
在一種實施方式中，系統利用與候選布線部分相關聯的斷路臨界 區域和短路臨界區域來為候選布線部分確定優化潛力。如果期望應用 到布局優化的布線部分大大減少隨機產量損失，則布線部分的優化潛 力可能高。例如，如果位於候選布線一側斷路區域遠大於該候選布線 部分另一側的斷路區域，則候選布線部分可能具有高優化潛力。同樣， 如果在不違反設計規則的前提下，候選布線部分可以大大加寬，則候 選布線部分可能具有高優化潛力。
在一種實施方式中，布線部分的優化潛力依賴於在該布線部分執 行的布局優化類型。例如，如果執行了布線擴展，優化潛力等於布線 部分一側的斷路臨界區域與布線部分另一側的斷路臨界區域的差的 絕對值。另一方面，如果執行了布線加寬，優化潛力等於在不違反設 計規則的前提下可容忍的最大的寬度增加值。注意，系統可以利用加 權短路臨界區域和加權短路臨界區域來確定優化潛力。
一旦優化潛力被確定，則系統可以選擇具有最高優化潛力的布線 部分。另外，系統可以選擇一組具有高優化潛力的布線部分，然後從 該組布線部分中隨機選擇一個布線部分。
接著系統可以對全局臨界區域比率和第一布線部分的局部臨界
區域比率進行比較(步驟310)。
接著系統利用比較結果來確定一個布局優化。接下來，系統可以 在第一布線部分上應用該布局優化以獲得改進的布局。布局優化一般 包括任何有望減少隨機產量損失的多邊形處理技術。
例如，如果所選布線部分的局部臨界區域比率大於全局臨界區域 比率，系統可以對第一布線部分應用布線加寬(步驟312)。注意的 是，對第一布線部分應用布線加寬可能伴隨布線部分寬度的增加。
另一方面，如果所選布線部分的局部臨界區域比率小於全局臨界
15區域比率，系統可以對第一布線部分應用布線擴展(步驟314)。注 意的是，對第一布線部分應用布線擴展可能伴隨移動布線部分。
在一種實施方式中，系統確定間距可一見鄰居，間距可一見鄰居為乂人 第一布線部分看"可視"的相鄰布線部分，並且其將會是首先引起違 反設計規則的部分。接下來，系統利用這些間距可—見鄰居來確定在不 違反設計規則的前提下可以執行布線加寬或布線擴展的量。該系統可 以使用一個圖形來代表"間距可視鄰居"關係。例如，每個布線部分 可由圖形中的 一 個頂點來代表，若且唯若與這些頂點相關聯的布線部 分為空間可視鄰居的情況下，才存在頂點"和頂點v之間的邊。 一種用
於確定間距可視鄰居的技術在J. Fang, J.S.K Wong， K. Zhang，以及P. Tang, "A new fast constraint graph generation algorithm for VLSI layout compaction,"/" emaho"a/ S，/ o、由w o" C7rcw"5 iS;v^c， 1991中有所解釋，在此將其引入作為參考。
圖4示出了根據本發明的實施方式的布線部分的示例性空間可視 鄰居。
布線部分404、 406、 408和410臨近布線部分402。從布線部分 402看，布線部分404、 406和410是"可見的"，j旦布線部分408 不是。根據定義，只有當我們可以不與中間的多邊形相交而從第一布
線部分到第二布線部分連一條線並且該線的方向與該布線部分正交 時，從第一布線部分看，第二布線部分是"可見的，，。例如，從布線 部分402看，布線部分404、 406和410是可見的，因為我們可以分 別連線412、 414和416。注意到，即使布線部分410是布線部分402 的可視鄰居，布線部分410可能不是間距可視鄰居，因為在對布線部 分402應用了過多的布線擴展或布線加寬時，在其由於布線部分410 而違反涉及規則之前其很可能由於布線部分404和/或布線部分406 違反設計規則。因此，布線部分402的間距可視鄰居包括布線部分404 和406， ^旦不包括布線部分410。
圖5示出了根據本發明的實施方式，系統如何對布線部分應用布 線加寬。
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說明書第13/15頁
布線部分502、 504、 506、 508和510是部分設計布局。布線部 分512 (虛線)是布線部分506的部分。系統可以對布線部分506應 用布線加寬，以獲得實線顯示的多邊形。注意到，系統在應用布線加 寬時可能減小布線部分間的間距，從而增加了布線部分短路臨界區域。
在一種實施方式中，系統利用skyline (天際線)程序的修改版本 為布線部分確定最佳的擴展，對於skyline (天際線)程序，在Udi Manber, "Introduction to Algorithms: A Creative Approach," Addison-Wesley Publishing Company Inc., 1989中乂於其有戶斤4苗述，在jt匕 引入作為參考。具體而言，可以使用布線部分兩側的間距可一見鄰居。
可以為布線部分的每一側生成skyline,因此不會違反設計規則。接下 來，可以確定合併了兩個skyline (其中一個skyline反轉以確^床都在 同一方向)的修改後的skyline並且用其來獲得布線部分的最佳寬度。 可以施加適當的限制，以確保不會創建太多的短路部分。
圖6示出了根據本發明的實施方式，系統如何對布線部分進行布 線擴展。
布線部分602、 604、 606、 608和610是部分設計布局。布線部 分612 (虛線)是布線部分608的部分。系統可以對布線部分608應 用布線擴展，以獲得實線顯示的多邊形。注意到，系統在對布線部分 應用布線擴展時引入了曲折，從而增加了布線部分的長度，因此增加 了該布線部分斷^^臨界區域。
在一種實施方式中，系統確定布線部分的最佳位置。例如，可能 是這樣的位置，即在該位置兩側的短路臨界區域是平衡的並且通常設 置為多個製造網格。接下來，系統可以將部分的布線部分推入最佳位 置，而不違反設計規則。布線部分的不同部分可能移動不相同的量。
具體而言，在一種實施方式中，系統可以利用skyline程序的修_ 改版本為布線部分的不同部分確定最佳位置。設計規則可以用來確定 距離每個間距可視鄰居的期望距離，並且從這些位移中生成的skyline 可以給出最終輪廓。於是，原布線部分可能被新布線部分代替，使得部分原布線部分位於最佳位置。此外，可能引入曲折來保持連通性。 可以施加適當的限制，以確保曲折的長度不小於提前給定的特定量， 因為光刻校正技術可能會對短的曲折產生問題。
前述的布局優化，即布線加寬和布線擴展，僅是為了說明和描述 的目的而提出的。他們並非意在於窮盡本發明或者將本發明限制在所 公開的形式。因此，許多修改和變化對本領域技術人員來說是顯而易 見的。
繼續圖3的討論，該系統可以鎖定第一布線部分並且更新局部臨 界區域比率和其它布線部分的優化潛力(步驟316)。
在一個實施方式中，該系統可以為對從第一布線部分來看是"可 見"的該布線部分的鄰居更新局部臨界區域比率和優化潛力。該系統 可以使用一個圖形來代表布線部分之間的"可^L鄰居"關係。例如， 每個布線部分可由圖形中的一個頂點來代表，若且唯若與這些頂點相 關聯的布線部分為可糹見鄰居的情況下，才存在頂點"和頂點v之間的 邊。
該系統可以接著利用更新的優化潛力來選擇第二布線部分(步驟 318)。在一個實施方式中，該系統可以選擇一個具有最高優化潛力 的未鎖定的布線部分。
接下來，該系統可以回到步驟310,並且為第二布線部分比較更 新的局部臨界區域，並且重複該流程步驟固定迭代次數和/或直到隨機 產量損失減少到 一個可接受水平以下和/或直到兩次隨機產量損失從 一次迭代到另 一次迭代的差值小於或等於 一個閾值。
總結
在該細節描述中的數據結構和代碼通常存儲在計算機可讀的存 儲介質上，其可能是任何可存儲用於計算機系統的代碼和/或數據的設 備或介質。這包括但不限於易失性存儲器、非易失性存儲器、磁和 光存儲設備例如磁碟驅動器、磁帶、CDs (壓縮盤)、DVDs (數字 多功能光碟或數字視頻光碟)或其它的可以存儲已知或後開發的計算機可讀介質的介質。
此外，前面已經提出的關於本發明的實施方式的描述僅出於說明 和描述的目的。其並非意在於窮盡或者將本發明限制在所公開的形 式。因此，許多修改和變化對本領域技術人員來說是顯而易見的。此 外，上述公開的內容並不試圖限制本發明。本發明的範圍由附加的權 利要求來限定。
權利要求
1.一種減少隨機產量損失的方法，該方法包括針對布局中的布線部分確定局部臨界區域比率；對全局臨界區域比率與該局部臨界區域比率進行比較；利用該比較結果來確定布局優化；以及將該布局優化應用到該布線部分以獲得一種改進的布局。
2. 如權利要求l所述的方法，其中確定該局部臨界區域比率包括針對該布線部分確定加權斷路臨界區域； 針對該布線部分確定加權短^各臨界區域；以及 利用該加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域來確定局部臨界 區域比率。
3. 如權利要求2所述的方法，其中確定該加權斷路臨界區域包 括利用與在設計布局中的金屬區域內的粒子密度相關聯的因數調節 該斷路臨界區域。
4. 如權利要求2所述的方法，其中確定該加權短路臨界區域包 括利用與在設計布局中的空白區域內的粒子密度相關聯的因數調節 該短路臨界區域。
5. 如權利要求2所述的方法，進一步包括為布局中 一組布線部分確定優化潛力，其中該優化潛力利用與該 組布線部分相關聯的加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域來確定； 以及利用該優化潛力從該組布線部分中選擇布線部分。
6. 如權利要求5所述的方法，如果位於一組布線部分中的候選 布線部分的 一側的斷路區域遠大於該候選布線部分的另 一側的斷贈> 區域，則該 一 組布線部分中的候選布線部分具有高優化潛力。
7. 如權利要求5所述的方法，如果在不違反設計規則的前提下 一組布線部分中的候選布線部分的寬度可以大大增加，則該一組布線部分中的候選布線部分具有高優化潛力。
8. 如權利要求5所述的方法，其中選擇該布線部分包括選擇具 有最高優化潛力的候選布線部分。
9. 如權利要求l所述的方法，其中將該布局優化應用在該布線部分包糹舌移動該布線部分。
10. 如權利要求1所述的方法，其中將該布局優化應用在該布線部分包括增加該布線部分的寬度。
11. 一種存儲有指令的計算機可讀存儲介質，其中當計算機執行 該指令時可使計算機執行一種減少隨機產量損失的方法，該方法包括針對布局中的布線部分確定局部臨界區域比率；對全局臨界區域比率與該局部臨界區域比率進行比較； 利用該比較結果來確定布局優化；以及 將該布局優化應用到該布線部分以獲得一種改進的布局。
12. 如權利要求11所述的計算機可讀存儲介質，其中確定該局 部臨界區域比率包括針對該布線部分確定加4又斷^各臨界區域； 針對該布線部分確定加權短路臨界區域；以及 利用該加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域來確定該局部臨 界區域比率。
13. 如權利要求12所述的計算機可讀存儲介質，其中確定該加 權斷路臨界區域包括利用與在設計布局中的金屬區域內的粒子密度 相關聯的因數調節該斷路臨界區域。
14. 如權利要求12所述的計算機可讀存儲介質，其中確定該加 權短路臨界區域包括利用與在設計布局中的空白區域內的粒子密度 相關的因數調節該短路臨界區域。
15. 如權利要求12所述的計算機可讀存儲介質，進一步包括為布局中 一組布線部分確定優化潛力，其中該優化潛力利用與該 組布線部分相關聯的加權斷路臨界區域和加權短路臨界區域來確定；以及利用該優化潛力從該組布線部分中選衝奪布線部分。
16. 如權利要求15所述的計算機可讀存儲介質，如果位於一組布線部分中的候選布線部分的一側的斷路區域遠大於該候選布線部 分的另 一側的斷路區域，則該一組布線部分中的候選布線部分具有高 優化潛力。
17. 如權利要求15所述的計算機可讀存儲介質，如果在不違反 設計規則的前提下一組布線部分中的候選布線部分的寬度可以大大 增加，則該 一 組布線部分中的候選布線部分具有高優化潛力。
18. 如權利要求15所述的計算機可讀存儲介質，其中選擇該布 線部分包括選擇具有最高優化潛力的候選布線部分。
19. 如權利要求11所述的計算機可讀存儲介質，其中將該布局 優化應用在該布線部分包括移動該布線部分。
20. 如權利要求11所述的計算機可讀存儲介質，其中將該布局 優化應用在該布線部分包括增加該布線部分的寬度。
21. —種用以減少隨機產量損失的裝置，該裝置包括第 一確定機制，配置用於針對布局中的布線部分確定局部臨界區 域比率；比較機制，配置用於對全局臨界區域比率與該局部臨界區域比率 進行比較；第二確定機制，配置用於利用該比較結果確定布局優化；以及 應用機制，配置用於將該布局優化應用到該布線部分以獲得 一 種 改進的布局。
全文摘要
本發明的一種實施方式，提供一種減少隨機產量損失的系統。在操作中，該系統可以接收設計布局。該系統也可以接收與金屬區域和空白區域內粒子密度相關聯的加權因數。其次，該系統可以為一組布線部分確定局部臨界區域比率和優化潛力。接著系統可以選擇布線部分，並且對全局臨界區域比率與該布線部分的局部臨界區域比率進行比較。接下來，該系統可以利用比較結果來確定一種布局優化。接著系統將該布局優化應用在該布線部分從而獲得一種改進的布局。
文檔編號G06F17/50GK101681384SQ200880008452
公開日2010年3月24日 申請日期2008年1月17日 優先權日2007年3月16日
發明者C·C·奇安格, S·辛哈, 晴 蘇 申請人:新思科技有限公司