一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔裝置及方法與流程

2023-09-17 05:44:00 3

本發明涉及表面處理及薄膜製備技術領域，尤其涉及一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔裝置及方法。

背景技術：

眾所周知，由鑄造鋁錠經過壓延能夠得到性能優良的鋁箔產品，其用途根據使用環境、人類需求及特殊要求等廣泛應用於食品、飲料、香菸、藥品、照相底板、家庭日用品等不同領域，是人類生活中不可缺少的材料之一。特別是在電池、電容器領域，由高純鋁加工得到的光箔在經過腐蝕化成或表面塗層後得到性能優良的正負極材料，應用極為普遍。

電極箔作為電池、電解電容器的主要正負極材料已經普及產業化，目前向著高容量、大存儲的方向發展，而影響其性能的關鍵因素是經過腐蝕的表面空洞數量和深度，考慮到流經鋁箔的電流大小不同可能造成穿孔短路等現象，一直制約著電極箔的發展。應用於電池及電容器的塗碳鋁箔，目前成為行業的熱點開發材料，其製備方法和工藝也在不斷的改進和創新，傳統的塗碳鋁箔製備工藝主要有以下幾個主要步驟：首先，採用高純鋁經過軋制、退火、表面處理等得到不同厚度要求的光箔；其次，通過塗覆工藝得到塗碳鋁箔；最後再經過後處理得到滿足技術要求的產品。

塗碳鋁箔近年來發展迅速，利用功能塗層對電池導電基材進行表面處理是一項突破性的技術創新，塗碳鋁箔就是將分散好的c顆粒、石墨等導電性能良好的納米顆粒通過塗覆工藝，均勻地塗覆或粘附在基體表面，提供較好的靜態導電性能的同時聚集有效物質顆粒產生的微電流，大幅降低接觸電阻，並能提高兩者之間的附著能力，可減少粘結劑的使用量，進而使電池的整體性能產生顯著的提升。業內關於塗碳鋁箔的相關產品正在逐漸發展創新，如山東精工電子科技有限公司公開了一種倍率循環改善型磷酸鐵鋰電池及其製備方法(申請號：cn104577012a)，採用塗碳箔，可以大幅度降低正負極材料與集流體之間的接觸內阻，提高兩者之間的粘附力，有效地提高材料的倍率放電性能。北理工鄧龍徵等人針對塗碳鋁箔的性能進行了分析，發現與使用普通鋁箔作為集流體相比，通過使用塗碳鋁箔可以使得電池的內阻降低65％左右，，容量提高約15％左右，10c放電倍率下,平臺增加0.3～0.4v，使用塗碳鋁箔電芯的常溫自放電率、容量恢復率也較高，但在電池低溫性能方面，使用塗碳鋁箔對低溫性能並無改善。

針對塗碳鋁箔的缺點，如導電性還不夠好、材料強度不夠高以及低溫下塗碳鋁箔的性能不穩定或性能指標無明顯改善等問題，近年來新的塗覆材料孕育而生，具有二維晶體結構特徵的石墨烯，因具有良好的導電性、低電阻率、高強度和韌性等眾多優點而成為研究的熱點和焦點。隨著批量化生產以及大尺寸等難題的逐步突破，石墨烯的產業化應用步伐正在加快，基於已有的研究成果，最先實現商業化應用的領域可能會是行動裝置、航空航天、新能源電池領域。

近年，美國加州大學洛杉磯分校的研究人員就開發出一種以石墨烯為基礎的微型超級電容器，該電容器不僅外形小巧，而且充電速度為普通電池的1000倍，可以在數秒內為手機甚至汽車充電，同時可用於製造體積較小的器件。微型石墨烯超級電容技術突破可以說是給電池帶來了革命性發展。當前主要製造微型電容器的方法是平板印刷技術，需要投入大量的人力和成本，阻礙了產品的商業應用。

目前塗碳鋁箔普遍使用傳統的塗覆工藝及網格塗覆法，如何將石墨烯以塗層的形式與基體相結合併使複合材料具有優良的性能也是當年今研究的焦點與技術難題，儘管美國等開發的石墨烯電容器已具雛形，但離產業化還較遠，且未具體詳盡說明或公開石墨烯塗覆的相關技術。

技術實現要素：

本發明提供了一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔裝置及方法，將石墨烯與碳粉混合均勻，利用雷射吸附技術完成與鋁箔基體的結合，通過計算機精準控制完成塗碳鋁箔的生產加工過程，從而得到導電良好、強度韌性好、容量大的塗碳鋁箔材料。

為了達到上述目的，本發明採用以下技術方案實現：

一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔裝置，包括傳送裝置、清潔烘乾裝置、檢測單元、雷射單元、塗覆單元、計算機、機體；傳送裝置的傳輸方向上依次設有清潔烘乾裝置、檢測單元、雷射單元、塗覆單元，清潔烘乾裝置、檢測單元、雷射單元、塗覆單元安裝於機體上，計算機通過電纜連接並控制傳送裝置、清潔烘乾裝置、檢測單元、雷射單元、塗覆單元。

所述清潔烘乾裝置包括自動鋁箔刷、清洗裝置、烘乾吸霧裝置；所述清洗裝置安裝於傳送裝置的傳動軸上，清洗裝置設有噴淋裝置，噴淋裝置位於自動鋁箔刷後部；所述自動鋁箔刷通過電纜與計算機相連，計算機根據鋁箔表面附著油汙、雜質的多少，調節輥刷柄與鋁箔的距離，調節塗刷力度與塗刷速度。

所述檢測單元設有進料探測器，進料探測器設有稜鏡，稜鏡通過電纜與計算機及雷射單元相連。所述雷射單元設有雷射掃描器，雷射掃描器通過電纜與計算機相連。所述塗覆單元從左至右依次設有感光輥、存儲輥鼓、充電輥、定影輥；存儲輥鼓設有碳粉腔與碳粉管，石墨烯與碳粉放置於碳粉腔內，碳粉通過碳粉腔下部的碳粉管均勻噴出。

一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔的方法，具體包括如下步驟：

(1)石墨烯與碳粉的預處理：以粒度20-～50nm的石墨烯粉末與粒度1-2um的碳粉作為原料；將石墨烯粉末與碳粉分別放入真空均熱爐進行加熱處理，真空均熱爐上下左右及中間配8～12個熱電偶，真空度0.8～1.2kpa，以1-2℃/min的升溫速率升溫至50-80℃，保溫5～10h。

(2)裝載處理：將石墨烯與碳粉按照(0.8～1.2)：(3.5～4.3)的質量比裝入體積為500～800ml的混合罐中並抽真空，真空度為1～2mpa；開啟混料機，混料機的振動頻率為300～500hz，轉速為1800-2500r/min，混料時間為10-20min，保持混料罐溫度≤80～100℃；混料結束後通過自動填裝設備將混合粉末裝入塗有金屬硒的存儲輥鼓中，同時將存儲輥鼓裝載在塗覆單元上準備塗覆。

(3)鋁箔基體的處理及檢測：光箔寬800～1200cm、厚10～100um，鋁箔卷放置於鋁箔卷輥槽中；首先通過開卷機將鋁箔卷開卷，開卷速度為10～15m/min，開卷後通過傳動裝置傳送至清潔烘乾裝置；通過自動鋁箔刷對待塗碳鋁箔進行清理，輥刷柄距光箔高度為0.1～1.5cm，毛刷距離光箔的距離為0.01～1.0cm，；通過清洗裝置對鋁箔表面進行清洗處理，噴淋液體為乙醇、去離子水、表面活性劑組成的水性清洗液，噴淋流量為70-200ml/min；噴淋後的鋁箔由輸送裝置輸送至烘乾吸霧裝置，烘乾溫度為50～120℃，吹起流速為1～2l/min；通過輸送裝置將處理後的鋁箔基體輸送至塗覆單元；

(4)雷射吸附噴塗：保持塗覆單元各類輥的溫度為70℃～90℃，首先將要塗覆的光箔尺寸、形狀參數輸入計算機，由製圖軟體輔助完成產品的定型設計圖紙，同時將處理後的光箔放入吸塗覆入口處；通過電極絲對感光鼓充電，光導材料可選用硫化鎘(cds)、硒-砷(se-as)或有機光導材料(opc)，充電的放電時間為5～120s。

檢測單元的稜鏡檢測到鋁箔進入塗覆入口後將信號傳遞給計算機主機模塊，雷射掃描器發射雷射束，雷射束光源為：氦-氖(he-ne)氣體雷射器，其波長為632.8nm或鎵砷-鎵鋁砷(gaas-gaalas)系列，所發射出的雷射束一般為近紅外光，波長780nm。

雷射束照射到鋁箔基體上使鋁箔基體表面帶有正電荷；同時雷射束反射到裝有石墨烯與碳粉的碳粉腔內，使碳粉混合物帶上等量負電荷，由於異性電荷相互吸引，碳粉通過碳粉腔下部碳粉管均勻噴出，均勻緻密地塗覆在鋁箔基體表面。

通過計算機緩慢調節鋁箔進料速度10～5m/min，以及搭配15％-30％的納米碳粉石墨混合物的使用，可控制鋁箔表面碳粉厚度較薄，同時可確保碳粉顆粒在鋁箔表面厚度分布均勻一致，鋁箔與碳粉結合緊密，進而大幅度地提高塗碳鋁箔導電性。

(5)後處理及性能指標要求：將塗覆後的鋁箔放入常溫均熱爐中，以3～5℃/min的升溫速率升溫至150～200℃，保溫1～2h；塗覆的石墨烯及碳粉塗層厚度為20～30nm，厚差0.2～0.4％，平面度為15～20μm。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

1)本發明所述裝置為自動化裝置，自動化完成塗碳鋁箔的生產，大大提高了生產效率,降低了加工成本；

2)在塗碳前預處理階段採用自動鋁箔刷，根據鋁箔表面狀態，調節刷子的力度和速度，去除鋁箔表面的油汙雜質，進而提高鋁箔表面質量，提高了可塗性；

3)在鋁箔進入塗覆單元時，設置了進料探測器，檢測到鋁箔進入後，迅速的將信號傳遞給雷射單元，促使雷射單元發射雷射束，整個過程耗時間短，進而提高了生產效率；

4)本發明採用一定比例的納米碳粉顆粒與石墨混合物作為塗覆原料，保證了塗碳後鋁箔表面碳粉分布的均勻性與緻密性，並增強了碳粉在鋁箔表面的吸附性；

5)本發明採用納米碳粉腔，腔體底部由數個微米級的碳粉管組成，保證碳粉從腔體底部均勻流出，使鋁箔表面碳粉厚度均勻一致，同時增強了鋁箔的導電性。

附圖說明

圖1是本發明所述裝置的結構示意圖；

圖2是本發明所述方法的工藝流程圖。

圖中：1-傳送裝置2-清潔烘乾裝置3-檢測單元4-雷射單元5-塗覆單元6-計算機7-機體8-自動鋁箔刷9-清洗裝置10-烘乾吸霧裝置11-噴淋裝置12-稜鏡13-進料探測器14-雷射掃描器15-感光輥16-存儲輥鼓17-充電輥18-定影輥19-碳粉腔20-碳粉管

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步說明：

如圖1所示，一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔裝置，包括傳送裝置1、清潔烘乾裝置2、檢測單元3、雷射單元4、塗覆單元5、計算機6、機體7。傳送裝置1的傳輸方向上依次設有清潔烘乾裝置2、檢測單元3、雷射單元4、塗覆單元5，清潔烘乾裝置2、檢測單元3、雷射單元4、塗覆單元5安裝於機體上。計算機6通過電纜連接並控制傳送裝置1、清潔烘乾裝置2、檢測單元3、雷射單元4、塗覆單元5。

鋁箔卷放置於卷鋁箔卷輥槽中，首先通過開卷機將鋁箔卷開卷，開卷速度為10～15m/min，鋁箔開卷後通過傳動裝置1依次傳送至清潔烘乾裝置2、檢測單元3、雷射單元4、塗覆單元5。

清潔烘乾裝置2包括自動鋁箔刷8、清洗裝置9、烘乾吸霧裝置10。清洗裝置9安裝於傳送裝置1的傳動軸上，清洗裝置9設有噴淋裝置11，噴淋裝置11位於自動鋁箔刷8後部。自動鋁箔刷8通過電纜與計算機6相連，計算機6根據鋁箔表面附著油汙、雜質的多少，調節輥刷柄與鋁箔的距離，調節塗刷力度與塗刷速度。

檢測單元3設有進料探測器13，進料探測器13設有稜鏡12，稜鏡12通過電纜與計算機6及雷射單元4相連。雷射單元4設有雷射掃描器14，雷射掃描器14通過電纜與計算機6相連。塗覆單元5從左至右依次設有感光輥15、存儲輥鼓16、充電輥17、定影輥18。存儲輥鼓16設有碳粉腔19與碳粉管20，石墨烯與碳粉放置於碳粉腔19內，碳粉通過碳粉腔19下部的碳粉管20均勻噴出。

如圖2所示，一種靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔的方法，具體包括如下步驟：

(1)石墨烯與碳粉的預處理：以粒度20-～50nm的石墨烯粉末與粒度1-2um的碳粉作為原料；將石墨烯粉末與碳粉分別放入真空均熱爐進行加熱處理，真空均熱爐上下左右及中間配8～12個熱電偶，真空度0.8～1.2kpa，以1-2℃/min的升溫速率升溫至50-80℃，保溫5～10h。

(2)裝載處理：將石墨烯與碳粉按照(0.8～1.2)：(3.5～4.3)的質量比裝入體積為500～800ml的混合罐中並抽真空，真空度為1～2mpa；開啟混料機，混料機的振動頻率為300～500hz，轉速為1800-2500r/min，混料時間為10-20min，保持混料罐溫度≤80～100℃；混料結束後通過自動填裝設備將混合粉末裝入塗有金屬硒的存儲輥鼓16中，同時將存儲輥鼓16裝載在塗覆單元5上準備塗覆。

(3)鋁箔基體的處理及檢測：光箔寬800～1200cm、厚10～100um；鋁箔卷放置於鋁箔卷輥槽中，首先通過開卷機將鋁箔卷開卷，開卷速度為10-15m/min，鋁箔卷開卷後通過傳動裝置1傳送至清潔烘乾裝置2。

先通過自動鋁箔刷8對待塗碳鋁箔進行清理，輥刷為毛織體，根據鋁箔表面附著的油汙、雜質的多少，調節輥刷距光箔的高度在0.1～1.5cm之間，毛刷距離光箔的距離為0.01～1.0cm之間。根據鋁箔表面狀態，調節刷子的力度和速度，去除鋁箔表面的油汙雜質，進而提高鋁箔表面質量，提高了可塗性。

通過傳動軸上的清洗裝置9對鋁箔表面進行清洗處理，噴淋裝置11位於輥刷後部，噴淋液體為乙醇、去離子水、表面活性劑組成的水性清洗液，噴淋流量在70-200ml/min之間；噴淋後的鋁箔由輸送裝置1輸送至烘乾吸霧裝置10，烘乾溫度為50～120℃，吹起流速為1～2l/min；通過輸送裝置1將處理後的鋁箔基體輸送至塗覆單元5；

(4)雷射吸附噴塗：保持塗覆單元5各類輥的溫度為70℃～90℃，首先將要塗覆的光箔尺寸、形狀參數輸入計算機6，由製圖軟體輔助完成產品的定型設計圖紙，同時將處理後的光箔放入吸塗覆入口處；通過電極絲對感光鼓15充電，光導材料可選用硫化鎘(cds)、硒-砷(se-as)或有機光導材料(opc)，充電的放電時間為5～120s。

檢測單元3檢測到鋁箔基體進入塗覆入口後將信號傳遞給計算機6主機模塊，雷射掃描器14發射雷射束，雷射束光源為：氦-氖(he-ne)氣體雷射器，其波長為632.8nm或鎵砷-鎵鋁砷(gaas-gaalas)系列，所發射出的雷射束一般為近紅外光，波長780nm。

雷射束照射到鋁箔上使鋁箔表面帶有正電荷；同時雷射束反射到裝有石墨烯與碳粉的碳粉腔19內，使碳粉混合物帶上等量負電荷，由於異性電荷相互吸引，碳粉通過碳粉腔19下部碳粉管20均勻噴出，均勻緻密地塗覆在鋁箔表面。

通過計算機6緩慢調節鋁箔進料速度10-15m/min，以及搭配15％-30％的納米碳粉石墨混合物的使用，可控制鋁箔表面碳粉厚度較薄，同時可確保碳粉顆粒在鋁箔表面厚度分布均勻一致，鋁箔與碳粉結合緊密，進而大幅度地提高塗碳鋁箔導電性。

(5)後處理及性能指標要求：將塗覆後的鋁箔放入常溫均熱爐中，以3～5℃/min的升溫速率升溫至150～200℃，保溫1～2h；塗覆的石墨烯及碳粉塗層厚度為20～30nm，厚差0.2～0.4％，平面度為15-20μm。

實施例1：

基體為高純鋁箔，鋁箔規格為：長度400cm，寬度為800cm，厚度為10微米。採用靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔，其步驟如下：

(1)石墨烯及碳粉的預處理：

將石墨烯處理成粒度為20nm的粉末，選取1um的石墨碳粉作為原材料，將石墨烯粉末及碳粉分別放入真空均熱爐進行加熱處理，真空均熱爐上下左右及中間所配的熱電偶8個，真空度0.8kpa，以1℃/min的升溫速率升溫至50℃，保溫5h備用。

(2)裝載處理：

混料罐體積在500ml，將石墨烯與碳粉按照0.8:3.5的質量比裝入罐中並抽真空，真空度在1mpa。開啟混料機，混料機的振動頻率為300赫茲，混料機轉速為1800轉/分鐘，混料時間為10min，保持混料罐溫度不高於80℃，混料結束後採用自動填裝設備將混合粉末裝入塗有金屬硒的存儲輥鼓16中，同時將存儲輥鼓裝載在塗覆單元5上準備塗覆。

(3)鋁箔基體的處理及檢測

光箔的尺寸長度不限，寬度為800cm，光箔厚度為10um。鋁箔卷位於鋁箔卷輥槽中，首先通過開卷機將鋁光箔傳動送入主體設備中，開卷機的開卷速度為10m/min，開卷後經過傳動裝置6傳送至清潔烘乾裝置2，先利用自動鋁箔刷8對待塗碳鋁箔進行清理，根據鋁箔表面實際情況，調節鋁箔刷工作條件，輥刷為毛織體，滾刷柄距鋁箔高度在0.1cm，毛刷距離鋁箔的距離為0.01cm，通過傳動軸上的清洗裝置9對鋁箔表面進行清洗處理，噴淋裝置11位於滾刷附近，噴淋液體為乙醇、去離子水、表面活性劑等常用試劑組成的水性清洗液，噴淋流量為70ml/min，經過噴淋的鋁箔在傳動裝置6傳送帶的帶動下進入烘乾吸霧裝置10，烘乾溫度為50℃，吹起流速為1l/min，通過傳送裝置1將經過前期處理後的鋁箔基體傳送至塗碳單元5。

(4)雷射吸附噴塗

打開噴塗設備的電源，保持各類輥的溫度在70℃，首先在計算機6上將要塗覆的產品尺寸、形狀等參數輸入，光箔的尺寸長度不限，寬度為800cm，光箔厚度為10um，由cad計算機輔助完成產品的定型設計圖紙，同時將準備好的光箔放入吸塗覆入口處。通過電極絲對感光鼓15(光導材料用硫化鎘(cds))進行充電，充電的放電時間為5-120秒之間，稜鏡12檢測到到鋁箔的進入的同時將信號傳遞給計算機6主機模塊，由雷射掃描器14發射的雷射束(光源為：氦-氖(he-ne)氣體雷射器，其波長為632.8nm)照射到鋁箔上，促使鋁箔表面帶上一定量的正電荷，同時，雷射束反射到裝有石墨烯和碳粉的碳粉腔19內，使碳粉混合物帶上等量負電荷，由於異性電荷相互吸引，碳粉通過碳粉腔19下部碳粉管20均勻噴出，均勻緻密地分布在鋁箔表面上。

(5)後處理及性能指標要求

塗覆完成後放入常溫均熱爐中處理，以3℃/min的升溫速率升溫至150℃，保溫1小時；塗覆的石墨烯及碳粉塗層厚度20納米，厚差0.2％，平面度為15μm。

實施例2：

基體為高純鋁箔，鋁箔規格為：長度1000cm，寬度為1200cm，厚度為100微米。採用靜電雷射吸附石墨烯技術製備塗碳鋁箔，其步驟如下：

(1)石墨烯及碳粉的預處理

將石墨烯處理成粒度為50nm的粉末，選取2微米的石墨碳粉作為原材料，將石墨烯粉末及碳粉分別放入真空均熱爐進行加熱處理，真空均熱爐上下左右及中間所配的熱電偶12個，真空度1.2kpa，以2℃/min的升溫速率升溫至80℃，保溫10h備用。

(2)裝載處理

混料罐體積在800ml，將石墨烯與碳粉按照1.2:4.3的質量比裝入罐中並抽真空，真空度在2mpa。開啟混料機，混料機的振動頻率為500赫茲，混料機轉速為2500轉/分鐘，混料時間為20min，保持混料罐溫度不高於100℃，混料結束後採用自動填裝設備將混合粉末裝入塗有金屬硒的存儲輥鼓中，同時將存儲輥鼓16裝載在塗覆單元5上準備塗覆。

(3)鋁箔基體的處理及檢測

光箔的尺寸長度不限，寬度為1200cm範圍之內調整，光箔厚度為100um。鋁箔卷位於鋁箔卷輥槽中，首先通過開卷機將鋁光箔傳動送入主體設備中，開卷機的開卷速度為15m/min，開卷後經過傳動裝置6使光箔進入清潔烘乾裝置2，先利用自動鋁箔刷8對待塗碳鋁箔進行清理，根據鋁箔表面實際情況，調節鋁箔刷工作條件，輥刷為毛織體，滾刷柄距鋁箔高度在1.5cm，毛刷距離鋁箔的距離為1.0cm，通過傳動軸上的清洗裝置9對鋁箔表面進行清洗處理，噴淋裝置11位於滾刷附近，噴淋液體為乙醇、去離子水、表面活性劑等常用試劑組成的水性清洗液，噴淋流量為200ml/min，經過噴淋的鋁箔在傳動裝置1傳送帶的帶動下進入烘乾吸霧裝置10，烘乾溫度為120℃，吹起流速為2l/min之間，通過傳送裝置1將經過前期處理後的鋁箔基體傳送至塗碳單元5。

(4)雷射吸附噴塗

打開塗碳單元5的電源，保持各類輥的溫度在90℃，首先在計算機上將要塗覆的產品尺寸、形狀等參數輸入，光箔的尺寸長度不限，寬度為1200cm，光箔厚度為100微米，由cad計算機輔助完成產品的定型設計圖紙，同時將準備好的光箔放入吸塗覆入口處。通過電極絲對感光鼓(光導材料用硒-砷(se-as))進行充電，充電的放電時間為120秒，稜鏡檢測到到鋁箔的進入的同時將信號傳遞給主機模塊，由激掃描器發射的雷射束(鎵砷-鎵鋁砷(gaas-gaalas)系列，所發射出的雷射束波長一般為近紅外光，波長780納米)照射到鋁箔上，促使鋁箔表面帶上一定量的正電荷，同時，雷射束反射到裝有石墨烯和碳粉的碳粉腔內，使碳粉混合物帶上等量負電荷，由於異性電荷相互吸引，碳粉通過碳粉腔下部碳粉管均勻噴出，均勻緻密地分布在鋁箔表面上。

(5)後處理及性能指標要求

塗覆完成後放入常溫均熱爐中處理，以5℃/min的升溫速率升溫至200℃，保溫2小時；塗覆的石墨烯及碳粉塗層厚度30納米，厚差0.4％，平面度為20μm。

本發明所述裝置為自動化裝置，自動化完成塗碳鋁箔的生產，大大提高了生產效率,降低了加工成本。在塗碳前預處理階段採用自動鋁箔刷8，根據鋁箔表面狀態，調節刷子的力度和速度，去除鋁箔表面的油汙雜質，進而提高鋁箔表面質量，提高了可塗性。在鋁箔進入塗覆單元5時，設置了進料探測器13，檢測到鋁箔進入後，迅速的將信號傳遞給雷射單元4，促使雷射單元4發射雷射束，整個過程耗時間短，進而提高了生產效率。本發明採用一定比例的納米碳粉顆粒與石墨混合物作為塗覆原料，保證了塗碳後鋁箔表面碳粉分布的均勻性與緻密性，並增強了碳粉在鋁箔表面的吸附性。本發明採用納米碳粉腔19，腔體底部由數個微米級的碳粉管20組成，保證碳粉從腔體底部均勻流出，使鋁箔表面碳粉厚度均勻一致，同時增強了鋁箔的導電性。

以上所述，僅為本發明較佳的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。