氧化鋁塗層、帶塗層產品及其製造方法

2023-11-10 12:47:27 1

專利名稱：氧化鋁塗層、帶塗層產品及其製造方法
技術領域：
本發明涉及氧化鋁塗層和帶塗層產品，特別是用於諸如機械加工、車削和銑削的材料去除應用的帶塗層刀頭(cutting insert)。更具體地，本發明涉及其中塗層包含α氧化鋁或κ氧化鋁或α和κ氧化鋁的混合物的塗層的帶塗層刀頭、以及製造該塗層和帶塗層刀頭的方法。
背景技術：
迄今為止，帶塗層刀頭已被用於材料去除應用中。該塗層典型包含表現出耐磨性的硬質難熔材料。在刀頭上使用塗層的一個主要目的是延長刀頭的使用壽命。在大量的專利文獻中公開了其中塗層方案包含氧化鋁塗層的這種塗層方案的例子，在以下說明這些專利文獻中的示例性的專利文獻。授權給Ishii等的美國專利No. 6156383看來意識到具有其上澱積α氧化鋁層的氧化層是有益的。授權給Chudo等的美國專利No. 4720437提到，TiCO或TiCNO可提高氧化鋁層的結合。授權給Nakamura等的美國專利No. 5770261看起來顯示了在900°C的溫度下在 TiCNO層和TiCO層上澱積氧化鋁。美國』 261專利看起來顯示了多層塗層方案。授權給 Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請 No. 0900860A2 (和授權給 Ichikawa 等的美國專利No. 6207262B1)看起來公開了澱積TiCO或TiCNO然後在這些含Ti層中的任一個上澱積氧化鋁。授權給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請No. 0786536A1 (和授權給mda等的美國專利No. 5985427)看起來顯示了在950°C的溫度下塗覆到TiCNO層或TiCO 層上的氧化鋁層。授權給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請No. 0686707A1公開了在碳氧化鈦層或碳氮氧化鈦層上CVD澱積χ型氧化鋁。授權給Sandvik AB的歐洲專利申請No. 1209255A2涉及在TiCNO層上澱積具有含 Ti條紋區域的等軸晶粒的α氧化鋁層的塗層方案。α氧化鋁層的澱積溫度為約1000°C。授權給^shimura等的美國專利申請No. 6093479涉及包含在TiCNO層或TiCO上澱積氧化鋁的塗層方案。在850 1000°C的溫度下塗覆氧化鋁，但該氧化鋁是κ氧化鋁或其中κ含量大於α含量的κ和α氧化鋁的組合。授權給NGK Spark Plug的歐洲專利No. 0247630給出在TiCNO層上澱積氧化鋁的例子。授權給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利No. (^63747B1公開了富含粘接劑的基體上的塗層方案。該塗層包含澱積在TiCO和TiCNO上的氧化鋁。從以上文獻可清楚地看出，在過去已使用了許多不同的用於刀頭(cutting insert)的塗層方案。根據這些專利文獻，這些塗層方案中的每一個都提供一定的優點。儘管已存在被認為提供一定優點的塗層方案，但是一直存在繼續延長使用壽命以及提高帶塗層刀頭的性能特性的要求。因此，非常希望提供改進的氧化鋁塗層和諸如帶塗層刀頭的帶塗層產品，其中，該塗層包含α氧化鋁(或Κ氧化鋁或α-K氧化鋁)的塗層並且該刀頭在材料去除應用中有用，其中該刀頭具有延長的工具使用壽命。還希望提供改進的氧化鋁塗層和諸如帶塗層刀頭的帶塗層產品，其中，該塗層包含α氧化鋁(或κ氧化鋁或α-κ氧化鋁)的塗層且該刀頭在材料去除應用中有用，其中該刀頭表示出提高的性能特性。

發明內容
在一個形式中，本發明是一種帶塗層體，該帶塗層體包括基體；和基體上的塗層方案。該塗層方案包含α氧化鋁塗層，該α氧化鋁塗層在α氧化鋁塗層的表面表現出片狀晶粒形貌。在另一形式中，本發明是包含基體的帶塗層體。在基體上存在塗層方案，其中，該塗層方案包含K氧化鋁塗層，該K氧化鋁塗層在K氧化鋁塗層的表面上表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在另一形式中，本發明是包含基體的帶塗層體。在基體上存在塗層方案，其中，該塗層方案包括含α氧化鋁和κ氧化鋁的氧化鋁塗層，並且其中該塗層在氧化鋁塗層的表面上表現出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在另一形式中，本發明是包含基體的帶塗層體。在基體上存在塗層方案，其中，塗層方案包含選自包含α氧化鋁塗層和κ氧化鋁塗層和κ-α氧化鋁塗層的組的氧化鋁塗層，該塗層是在約750 約920°C的溫度下通過化學氣相澱積被施加的。在另一形式中，本發明是一種用於塗覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加α氧化鋁塗層，其中，該α氧化鋁塗層在其表面表現出片狀晶粒形貌。在另一形式中，本發明是一種用於塗覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加κ氧化鋁塗層，其中，該κ氧化鋁塗層在其表面表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在另一形式中，本發明是一種用於塗覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加α-κ氧化鋁塗層，其中，該α-Κ氧化鋁塗層在其表面表現出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在另一形式中，本發明是一種帶塗層體，該帶塗層體包括含多晶立方氮化硼的基體。在該基體上存在塗層方案，其中塗層方案包含氧化鋁塗層。該氧化鋁塗層是以下塗層中的一個在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁塗層；或在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁塗層；或在表面上具有大的多刻面晶粒形貌或在表面上具有多面體-多刻面晶粒形貌的α-κ氧化鋁塗層。


以下是構成本專利申請一部分的附圖的簡要說明圖1是本發明的帶塗層刀頭的特定實施方案的等距視圖，其中，帶塗層刀頭具有施加了塗層的基體；圖2是沿圖1的剖面線2-2切取的圖1的刀頭的橫截面視圖，其中，示出帶塗層刀頭的一個角；圖3是按照本發明的試驗No. 7澱積的塗層方案的一個特定實施方案的彩色顯微照片，其中，顯微照片示出由參照線和圖例(legend)標識的不同塗層，並且顯微照片在其上具有10微米的比例尺；圖4是通過掃描電子顯微鏡(SEM)以15000X的放大倍數對按照本發明的試驗 No. 1的方法塗覆的帶塗層刀頭的特定實施方案的氧化鋁(外)塗層的表面拍攝的顯微照片，其中，該氧化鋁塗層具有片狀晶粒形貌，並且顯微照片在其上具有4微米的比例尺；圖5是通過掃描電子顯微鏡(SEM)以15000X的放大倍數對現有技術的帶塗層刀頭的高溫氧化鋁(外)塗層的表面拍攝的顯微照片，該顯微照片在其上具有4微米的比例尺；圖6是按照本發明的試驗No. 1塗覆的粘結(cemented)(鈷)碳化鎢基體的氧化鋁塗層的X射線衍射圖案，其中，通過其相應的峰標出α相氧化鋁以及氮化鈦、碳氮化鈦和碳化鎢的存在；圖7是按照本發明的試驗No. 2塗覆的帶塗層燒結(碳化物)碳化鎢基體表面的顯微照片(放大倍數等於10000Χ)，其中，存在α相氧化鋁和K相氧化鋁的混合物，且以 α相氧化鋁為主要的相，並且，該顯微照片表明，α-Κ相氧化鋁塗層具有大的多刻面氧化鋁晶粒從而在表面呈現出大多刻面晶粒的形貌；圖8是按照本發明的試驗No. 2塗覆的粘結的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，該X射線衍射圖案是在圖7的顯微照片的位置附近拍攝的，並且該X射線衍射圖案揭示了，該氧化鋁塗層包含由相應相的峰表示的α晶相和κ晶相氧化鋁的混合物，並且，通過相應的峰的存在表明了碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在；圖9是按照本發明的試驗No. 5施加到粘結的(鈷)碳化鎢基體的氧化鋁塗層的表面的顯微照片(放大倍數等於5000Χ)，其中，該氧化鋁塗層是κ氧化鋁，並且，該顯微照片表明，κ氧化鋁塗層在其表面具有多面體-透鏡狀晶粒形貌；圖10是按照本發明的試驗No. 4塗覆的碳化鎢基體的氧化鋁塗層的表面顯微照片 (放大倍數等於10000Χ)，其中，該氧化鋁塗層包含α相氧化鋁和K相氧化鋁的混合物，並且，該顯微照片表明，該α-Κ氧化鋁塗層具有多面體氧化鋁晶粒和多刻面氧化鋁晶粒的混合物，從而在其表面上呈現出多面體-多刻面晶粒形貌；圖11是按照本發明的試驗No. 4塗覆的帶塗層的粘結的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，κ-α氧化鋁、碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應的峰標註；圖12是按照本發明的試驗No. 5塗覆的帶塗層的粘結的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，該氧化鋁塗層是由相應的峰標註的κ晶相(以及由相應的峰標註的痕量α相氧化鋁)，並且，碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應的峰標註；圖13是按照本發明的試驗No. 8澱積到粘結的(鈷)碳化鎢上的κ氧化鋁塗層的表面的顯微照片(放大倍數等於5000Χ)，其中，該顯微照片表明，κ氧化鋁塗層在表面具有透鏡狀晶粒形貌；
圖14是按照本發明的試驗No. 8塗覆的帶塗層碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，κ氧化鋁、碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應的峰標註；圖15是通過高溫CVD澱積到基體上的現有技術的κ氧化鋁塗層的表面的顯微照片(放大倍數等於5000X)，其中，該顯微照片表明，該κ氧化鋁塗層在表面具有塊狀晶粒形貌。
具體實施例方式參照附圖，圖1和圖2表示本發明的特定實施方案，其中將帶塗層的刀頭通稱為 20。帶塗層刀頭20包含基體22。基體22可由大量基體材料中的任一種製成。用於基體的示例性材料包含但不限於粘結的碳化物、碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼(PcBN)。示例性粘結碳化物包含鈷粘結碳化鎢，其中，鈷含量最高約15重量％，從而還包含沒有任何鈷的碳化鎢基體。在粘結的(鈷)碳化鎢的情況下，基體可表現出在基體的表面開始並向內延伸的富集粘接劑的區域。作為另一替代方案，粘結碳化物基體可不存在粘接劑富集。粘結碳化物基體也可包含一種或更多種添加劑，例如以下元素和/或它們的化合物中的一種或更多種鈦、鈮、 釩、鉭、鉻、鋯和/或鉿。粘結碳化物基體也可在其中包含氮。示例性陶瓷包含氮化矽基陶瓷、SiAlON基陶瓷、碳氮化鈦基陶瓷、二硼化鈦基陶瓷和氧化鋁基陶瓷。示例性金屬陶瓷包含具有鎳-鈷粘接劑和高水平的鈦的金屬陶瓷，還可包含碳化鎢和碳化鈦。金屬陶瓷也可在其中包含氮。示例性PcBN材料包含具有陶瓷或金屬粘接劑的PcBN材料。PcBN材料可以以大量的基本方式與刀頭結合使用。對於一種方式，PcBN刀頭(insert)可被釺焊到刀頭體 (cutting insert body)上。對於另一種方式，PcBN刀頭可以是完全頂端(full top)刀頭。對於另一種方式，刀頭可以是PcBN的實心件(solid piece)。示例性PcBN基體包含具有所給出的成分的以下PcBN材料。PcBN成分No. 1具有等於約12重量％鈷粘接劑和約88重量％立方氮化硼的成分。 PcBN成分No. 1 —般用於對硬鋼和鑄鐵開槽，用於調節硬鋼中的厚件斷續切割和/或用於超合金加工。PcBN成分No. 2具有等於約50重量％碳化鈦粘接劑和約50重量％立方氮化硼的成分。PcBN成分No. 2—般用於硬鋼的精加工。PcBN成分No. 3具有等於約10重量％的包含氮化鋁和碳化矽和二硼化鈦的粘接劑和約90重量％的立方氮化硼，其中，氮化鋁是粘接劑的主要成分。PcBN成分No. 4具有等於約18重量％的氮化鋁粘接劑和約82重量％的立方氮化硼的成分。使用PcBN成分No. 3和4的刀頭一般是PcBN的實心件，其中，這種刀頭一般用於硬和軟鑄鐵上，用於調節厚件的斷續切割。帶塗層刀頭20具有側面(flank surface) M和前刀面(rake surface)洸。側面 M和前刀面26相交在其交線上形成切削刃觀。帶塗層刀頭20在其中包含孔30。孔30用於將刀頭20固定到刀架上。帶塗層刀頭20具有由圖2中括弧(braCket)32示出的塗層方案。該特定的塗層方案32包含四個塗層。以下說明這些塗層中的每一個。
通過化學氣相澱積將底塗層34施加到基體22的表面上。在一些情況下，可以在塗覆之前對基體的表面進行處理，例如通過包含硬粒子的漿液進行衝擊。一種示例類型的表面處理是用包含水和氧化鋁粒子的漿液溼噴表面。在另外一些情況下，在塗覆之前不對表面進行處理。在該塗層方案中，底塗層34包含氮化鈦；但是，應當理解，底塗層的成分可取決於基體材料的成分，以實現塗層與基體的最佳粘接。例如，在基體是PcBN或陶瓷的情況下，可以施加氧化鋁的底層。在圖1和圖2的這種塗層方案中，在該處理步驟中用以澱積氮化鈦底塗層34的氣體是H2、N2*TiCl4。可以在約850 920°C的溫度下施加底塗層34。作為選擇性範圍，可以在約890 910°C的溫度下施加底塗層34。澱積底塗層34的處理的壓力和持續時間變化，以實現希望的塗層厚度。對於底塗層34的厚度，作為一種選擇性範圍，底塗層34的厚度的範圍在大於0微米和約3微米之間。 作為另一選擇性範圍，底塗層34的厚度的範圍在大於0微米和約1微米之間。作為又一選擇性範圍，底塗層34的厚度的範圍在大於0微米和約0. 5微米之間。可以理解，底塗層34 的特定厚度可根據刀頭的特定應用變化。在底塗層34上通過化學氣相澱積施加中間塗層36。用於該處理步驟中的氣體是 H2, N2, CH3CN和TiCl4。可以用諸如乙烷和氮氣、甲烷和氮氣的其它氣體混合物以及其它公知的混合物施加中間塗層。中間塗層36包含碳氮化鈦。在約800 920°C的溫度下施加中間塗層36。作為選擇性的範圍，可以在約850 920°C的溫度下施加中間塗層36。作為另一選擇性的範圍，可以在約870 910°C的溫度下施加中間塗層36。澱積中間塗層36的處理的壓力和持續時間變化，以實現希望的塗層厚度。在這點上，中間塗層36的厚度的範圍可為約1 25微米。作為選擇性範圍，中間塗層的厚度的範圍可為約3 15微米。作為另一選擇性範圍，中間塗層的厚度的範圍可為約1 5微米。 中間塗層36的厚度的另一選擇性範圍為約5 25微米。在中間塗層36上通過化學氣相澱積施加改性塗層38。用於該處理步驟中的氣體是H2、N2和TiCl4、AlCl3、HCl、C0、C02和CH3CN0改性塗層38可包含鈦、鋁、氮、氧和碳。當存在所有的上述元素時，申請人認為改性塗層38包含碳氮氧化鈦鋁(TiAWCN)。但是，存在改性層包含多個層的一些情況，其中這些層包含碳氮氧化鈦(TiOCN)和/或氮氧化鈦(TiON) 以及碳氮氧化鈦鋁。在約750 920°C的溫度下施加改性塗層38。作為選擇性溫度範圍， 在約850 920°C的溫度下施加改性塗層38。作為另一選擇性溫度範圍，可以在約870 890°C的溫度下施加改性塗層38。澱積改性塗層38的處理的壓力和持續時間變化，以實現希望的塗層厚度。在這點上，改性塗層38的厚度的範圍為約0. 5 5微米。作為選擇性範圍，改性塗層38的厚度的範圍可為約1 1.5微米。中間塗層36和改性層38的總的組合厚度的範圍為約1 30微米。作為選擇性範圍，中間塗層36和改性塗層38的總的組合厚度的範圍為約1. 5 25微米。在改性塗層38上通過化學氣相澱積施加外塗層40。用於該處理步驟中的氣體是 H2、N2、A1C13、HC1、CO、COdnH2Stj外塗層40包含氧化鋁，並可包含多個氧化鋁層。從以下公開可清楚地看到，氧化鋁層的結晶相可只包含α相、或只包含κ相、或包含α和κ相的混合物。在按照本發明澱積α氧化鋁層的情況下，α氧化鋁塗層40的表面在其表面表現出片狀晶粒形貌。在按照本發明澱積κ氧化鋁層的情況下，κ氧化鋁塗層40的表面在其表面表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在按照本發明澱積氧化鋁層的情況下，α-κ氧化鋁塗層40的表面在其表面表現出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在約750 920°C的溫度下施加氧化鋁塗層40。用於施加氧化鋁塗層40的其它選擇性的溫度範圍包含約800 920°C的溫度；約850 920°C的溫度；和約865 895°C 的溫度。澱積外塗層40的處理的壓力和持續時間變化，以實現希望的塗層厚度。氧化鋁塗層40的厚度的一種範圍為約1 20微米。氧化鋁塗層40的厚度的選擇性範圍為約2 3 微米。氧化鋁塗層40的厚度的另一選擇性範圍為約4 15微米。氧化鋁塗層40的厚度的另一選擇性範圍為約6 12微米。整個塗層方案32的總厚度的範圍為約3 40微米。作為選擇性範圍，塗層方案 32的總厚度的範圍為約20 35微米。作為選擇性範圍，塗層方案32的總厚度的範圍為約 8 12微米。作為另一選擇性範圍，塗層方案的總厚度的範圍為約5 7微米。以下的表1-1給出在基體上澱積塗層方案的中等溫度化學氣相澱積(MT-CVD)方法的特定實施方案即本發明的試驗No. 1的處理步驟。本發明的試驗No. 1是用於塗覆本文圖4的刀頭(或基體)的MT-CVD處理。本發明的試驗No. 1還是用於塗覆確定為本文表 1-5中的本發明刀頭的刀頭的處理。表 1-1本發明試驗No. 1的處理參數
權利要求
1.一種帶塗層體，包括基體；和基體上的塗層方案，其中，該塗層方案包含K氧化鋁塗層，該K氧化鋁塗層在K氧化鋁塗層的表面表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。
2.根據權利要求1的帶塗層體，其中，該κ氧化鋁塗層是在750 920°C的溫度下通過化學氣相澱積被施加的。
3.根據權利要求1的帶塗層體，其中，該塗層方案還包括通過化學氣相澱積施加的改性塗層，其中該改性塗層包含氧和鋁和選自碳與氮中的一種或更多種和選自元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種；κ氧化鋁塗層被施加到改性塗層上；以及，該塗層方案還包含通過化學氣相澱積施加的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的碳氮化物的中間塗層，且改性塗層被施加到該中間塗層上；該塗層方案還包含通過化學氣相澱積施加到基體上的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的氮化物的底塗層， 該中間塗層被施加到底塗層上。
4.根據權利要求1的帶塗層體，其中，該基體包含粘結的碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼中的一種。
5.根據權利要求1的帶塗層體，其中，帶塗層體包含帶塗層刀頭，該帶塗層刀頭具有前刀面和側面和在前刀面與側面的結合處的切削刃。
6.根據權利要求1的帶塗層體，其中，該塗層方案還包含κ氧化鋁塗層上的一個或更多個塗層。
7.根據權利要求1的帶塗層體，其中，該塗層方案包括基體上的氧化鋁底塗層。
8.一種帶塗層體，包括基體；和基體上的塗層方案，其中，該塗層方案包括含α氧化鋁和κ氧化鋁的κ-α氧化鋁塗層，其中，該κ-α塗層在氧化鋁塗層的表面表現出多面體-多刻面晶粒形貌。
9.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該κ-α氧化鋁塗層是在750 920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加的。
10.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該塗層方案還包括通過化學氣相澱積施加的改性塗層，其中改性塗層包含氧和鋁和選自碳與氮中的一種或更多種和選自元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種；κ-α氧化鋁塗層被施加在改性塗層上；以及，該塗層方案還包含通過化學氣相澱積施加的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的碳氮化物的中間塗層，且改性塗層被施加到該中間塗層上；該塗層方案還包含通過化學氣相澱積施加到基體上的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的氮化物的底塗層，該中間塗層被施加到底塗層上。
11.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該基體包含粘結的碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼中的一種。
12.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該帶塗層體包含帶塗層刀頭，該帶塗層刀頭具有前刀面和側面和在前刀面與側面的結合處的切削刃。
13.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該塗層方案還包含κ-α氧化鋁塗層上的一個或更多個塗層。
14.根據權利要求8的帶塗層體，其中，該塗層方案包括基體上的氧化鋁底塗層。
15.一種帶塗層體，包括基體；和基體上的塗層方案，其中，該塗層方案包含選自在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁塗層和在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁塗層和具有多面體-多刻面晶粒形貌的κ-α氧化鋁塗層的氧化鋁塗層，該塗層是在 750 850°C的溫度下通過化學氣相澱積被施加的。
16.根據權利要求15的帶塗層體，其中，該氧化鋁塗層包含α氧化鋁。
17.根據權利要求15的帶塗層體，其中，該氧化鋁塗層包含κ氧化鋁。
18.根據權利要求15的帶塗層體，其中，該氧化鋁塗層包含α-κ氧化鋁塗層。
19.一種用於塗覆基體的方法，包括以下步驟在750 920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加κ氧化鋁塗層，其中，該κ氧化鋁塗層在其表面表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。
20.一種用於塗覆基體的方法，包括以下步驟在750 920°C的溫度下通過化學氣相澱積施加α-κ氧化鋁塗層，其中，該α-Κ氧化鋁塗層在其表面表現出多面體-多刻面晶粒形貌。
21.—種帶塗層體，包括包含多晶立方氮化硼的基體；和基體上的塗層方案，其中，該塗層方案包含氧化鋁塗層，其中，該氧化鋁塗層是以下塗層中的一個在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁塗層；或在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁塗層；或在表面上具有多面體-多刻面晶粒形貌的α-Κ氧化鋁塗層；及該塗層方案還包含施加到基體上的氧化鋁的底塗層。
全文摘要
本申請涉及氧化鋁塗層、帶塗層產品及其製造方法。包含基體(22)和基體上的塗層方案(32)的帶塗層體。基體(22)上的塗層方案(32)，其中，該塗層方案包含在α氧化鋁塗層(40)的表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁塗層(40)；或在其表面上表現出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁塗層(40)；或在表面上表現出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌的α-κ氧化鋁塗層(40)。
文檔編號C23C30/00GK102162090SQ20111007393
公開日2011年8月24日 申請日期2005年3月10日 優先權日2004年3月12日
發明者A·S·小蓋茨, C·G·麥克納尼, P·K·梅赫羅特拉, P·R·萊希特 申請人:鈷碳化鎢硬質合金公司