隱形眼鏡材料的製造方法和軟質隱形眼鏡的製造方法

2023-12-09 05:45:21 1

專利名稱：：隱形眼鏡材料的製造方法和軟質隱形眼鏡的製造方法
技術領域：
：本發明涉及表面光滑且水潤溼性和耐久性優良的隱形眼鏡材料的製造方法和使用通過所述方法得到的隱形眼鏡材料製造軟質隱形眼鏡的方法。
背景技術：
：有人根據臨床結果指出，當佩戴隱形眼鏡時，來自大氣的氧氣的供應量會下降，其結果會導致角膜上皮細胞的分裂被抑制或角膜肥厚。因此，為了供應安全性更高的隱形眼鏡，人們嘗試改良素材的氧透過性。眾所周知，含水性軟質隱形眼鏡由於其材料的柔軟性而佩戴感好，但是，由於眼鏡的含水率，其氧透過性與硬質隱形眼鏡相比較低。例如當為含水性軟質隱形眼鏡時，含水率80%的素材的氧透過係數為約40X1(T11(cm2/sec)(mL02/mLXmmHg)左右，無法向角膜供應充足的氧氣量。從這方面考慮，為了提高軟質隱形眼鏡的氧透過性，有人提出了以含聚矽氧烷單體、矽氧烷大分子單體、及用於防止耐汙染的含氟單體為眼鏡成分的隱形眼鏡。例如，日本專利文獻特開2001—311917號公報公開了使用側鏈上具有二甲基矽氧垸結構的大分子單體的、柔軟性和氧透過性優良的軟質隱形眼鏡基體材料。但是，一般來說，如果在眼鏡素材中使用聚矽氧烷成分和氟成分，則眼鏡表面的水潤溼性有降低的傾向，其結果，容易附著淚液成分中的汙物，根據情況也有時會使佩戴感變差。從上述事項出發，為了進一步提高隱形眼鏡表面的水溼潤性，有人提出了各種表面處理方法。日本專利文獻特公昭63-040293號公報公開了以下處理方法，即，在實質上不含氮和氧的烴氣氛下對聚矽氧烷或聚氨脂眼鏡進行塗布，接著向這些眼鏡供應氧氣，由此增大眼鏡表面的親水性。在這樣的塗布方法中，聚矽氧烷水凝膠眼鏡在非含水狀態下受到等離子處理。但是，為使眼鏡成為最終產品，還需要對等離子處理後的眼鏡使用乙醇等有機溶劑除去殘留在眼鏡中的對生物體不好的未聚合單體和低聚物等，之後，置換為生理鹽水或軟質隱形眼鏡用保存液(填充液)等，連續實施高壓蒸氣滅菌處理。在使用上述乙醇等有機溶劑的萃取工序、和使用生理鹽水或軟質隱形眼鏡用保存液的含水工序中，眼鏡的體積溶脹1050%左右。由於該塗布膜為在烴氣氛下形成的交聯密度極高的剛硬膜，因此存在聚合膜剝離或眼鏡表面產生裂紋等問題。另外，在上述萃取或溶脹工序中形成的膜的剝離或裂紋由於連續實施的高壓蒸氣滅菌處理而使不良程度越發顯著，從而變得不適合作為與眼鏡直接接觸的隱形眼鏡。另外，日本專利文獻特開昭62-031803號公報公開了通過飽和烴和氧的混合氣體進行等離子處理的方法。但是，在通過飽和烴和氧的混合氣體進行等離子聚合當中，通過等離子製成的聚合膜與形成在眼鏡上的膜相比，由於氧等離子體的蝕刻效果而由蝕刻來切削的速度比例變大。因此，為了達到期望的膜厚特別花費處理時間，因此該方法在商業上使用時會存在問題。另外，在高分子論文集(vo1.42、No.ll、P841-847、1985)上作為"對矽橡膠隱形眼鏡表面等離子聚合的應用及其效果"記載有使用N—乙烯基一2—吡咯烷酮(以下，稱為NVP)單體的、水潤溼性和耐久性優良的聚合膜。在該方法中，可以形成水潤溼性和耐久性優良的聚合膜。但是，眾所周知，塗布中使用的NVP在氣化狀態下具有致癌性，當將以這樣的NVP為代表的有機單體用作等離子處理的氣體時，必須對操作人員和作業場所的安全嚴加防範。因此，該方法在商業上應用也存在問題。
發明內容因此，本發明的目的在於提供一種表面光滑且水潤溼性和耐久性優良的隱形眼鏡材料，特別是，提供如下的隱形眼鏡材料，即在非含水狀態下對眼鏡表面進行塗布後，即使經過使用乙醇等有機溶劑的萃取工序、使用生理鹽水或軟質隱形眼鏡用保存液的含水工序以及連續實施的高壓蒸氣滅菌處理工序後，在眼鏡表面上形成的膜也經得起眼鏡的體積溶脹，眼鏡表面不會產生膜的缺損等佩戴問題，具有優良的光滑性，並且具有在佩戴時充分的表面水潤溼性和耐久性。本發明涉及隱形眼鏡材料的製造方法，所述隱形眼鏡材料包括隱形眼鏡基體材料和形成在該基體材料表面的至少一部分上的覆膜，在隱形眼鏡材料的製造方法中，對所述隱形眼鏡基體材料在甲烷和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理，然後在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理，由此形成所述覆膜。並且，本發明還提供一種軟質隱形眼鏡的製造方法，使通過上述方法製造出的軟質隱形眼鏡材料含水，得到軟質隱形眼鏡。根據本發明，可以提供表面光滑且水潤溼性和耐久性優良的隱形眼鏡，特別是，可以提供由包含作為眼鏡成分的聚矽氧垸的水凝膠形成的軟質隱形眼鏡。圖1表示在實施例1中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)；圖2表示在實施例2中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)；圖3表示在實施例3中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(H5倍)；圖4表示在實施例5中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片U75倍)；圖5表示在比較例1中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)；圖6表示在比較例3中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)；圖7表示在比較例4中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)；圖8表示在比較例5中得到的眼鏡表面的顯微鏡照片(175倍)。具體實施例方式以下，對本發明進行更加詳細的說明。(隱形眼鏡材料的製造方法)本發明涉及隱形眼鏡材料的製造方法，該隱形眼鏡材料包括隱形眼鏡基體材料和形成在該基體材料表面的至少一部分上的覆膜。在本發明的隱形眼鏡材料的製造方法中，對所述隱形眼鏡基體材料在甲垸和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理，然後在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理，由此形成覆膜。所述隱形眼鏡基體材料可以為具有隱形眼鏡形狀、可成為水凝膠的聚合物，優選含有聚矽氧烷、可成為水凝膠的共聚物，也可以使用以往公知作為軟質隱形眼鏡用基體材料的材料。具體地說，作為這樣的隱形眼鏡基體材料，可以列舉出由共聚物形成的隱形眼鏡基體材料，所述共聚物通過聚合包括至少一種含聚矽氧垸單體或含聚矽氧垸大分子單體和至少一種親水性單體的混合物而得到。作為可應用的聚矽氧烷單體，例如可以列舉出三(三甲基甲矽氧基)一Y—甲基丙烯醯氧基丙基甲矽烷(日文原文卜U(卜！i少於/w乂口年v)-少夕夕！i口年V7。口匕。/p、y，/)，另外，作為含聚矽氧垸大分子單體，可以列舉出如下述通式(I)所示的側鏈上具有聚矽氧烷結構、數均分子量為約100010，000的矽氧烷大分子單體:另外，作為親水性單體，可以列舉出甲基丙烯酸2—羥基乙酯(日文原文2-匕K口年、乂工於/k乂夕夕y^—卜)、N，N—二甲基丙烯醯胺(日文原文N、N-^乂千/P7夕U/P7SK)、N—乙烯基一2—吡咯垸酮(日文原文N-匕'二/W2-匕。口UK乂)以及甲基丙烯酸等。對可在本發明中使用的隱形眼鏡基體材料的詳細情況可以參照日本專利文獻特開2001-311917、特表平10-509763號公報、特開2003-228029號公報、特表平11-502894號公報等。[化l]formulaseeoriginaldocumentpage6[式中，R!、R2和R3各自獨立地選自C1C4烷基，R4選自C1C6垸基，Rs是脂肪族、脂環族或芳香族二異氰酸酯脫除NCO後的殘基，R6、R7、R8和R9各自獨立地選自ClC3亞烷基，n是480的整數，m和p各自獨立地是340的整數。]在使用各種現有技術(例如，束緊切削製法、旋轉澆鑄製法、澆鑄模具製法等)製造出所述隱形眼鏡基體材料後，當在澆鑄製法中從模具中取出眼鏡後，可以附加覆膜形成處理(在所述混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理和在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理)。在本發明中，在所述隱形眼鏡基體材料的表面的至少一部分上形成覆膜。所述覆膜通過如下處理而形成，S卩，對隱形眼鏡基體材料在甲垸和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理(以下，稱為第一工序)，接著在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理(以下，稱為第二工序)。本發明中的"等離子聚合處理"是指在等離子聚合裝置內以恰當的真空度通過放電形成等離子狀態，在基體材料表面上形成由聚合性氣體組成的薄膜(聚合膜)，"等離子處理"是指使用非聚合性氣體對基體材料表面的最外層進行改質。第一工序在第一工序中，將隱形眼鏡基體材料在甲烷和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理。具體地說，在將隱形眼鏡基體材料放入到等離子聚合裝置內後，進行真空抽吸以使得裝置內的壓力為一定的範圍以下。當將隱形眼鏡基體材料送入到真空裝置中進行真空處理時，除了裝置表面的吸附氣體、內部的吸藏氣體、以及來自密封材料的排出氣體以外，從作為處理對象的隱形眼鏡基體材料中也排出吸附的氣體和水分等。因此，在進行等離子聚合處理前，將裝置的壓力保持恆定，從而可以降低處理批次之間和處理批次內的品質偏差，從實用性、商業性的角度考慮非常理想。作為真空抽吸的目標達到壓力，優選1.35Pa以下，更優選1.30Pa以下。如果為1.35Pa以下，如上所述，則可以降低由於裝置表面的吸附氣體和吸附在隱形眼鏡基體材料上的氣體等影響而引起的處理批次之間和處理批次內的品質偏差(塗布膜厚的偏差)，從而非常理想。這樣，為了將裝置內的氣體排出到一定的範圍，既可以使用具有可達到目標真空度的能力的真空泵，也可以使用油封機械真空泵或乾燥泵等廣泛公知的泵。另外，測量裝置內的真空度的測量器只要是能夠測量規定範圍的壓力的真空計任何一種均可，例如，可以列舉出隔膜式真空計、皮拉尼真空計等。另外，在本發明中，為了均勻且有效地處理作為處理對象的隱形眼鏡基體材料的表面(前曲面和底部曲面)，優選將隱形眼鏡基體材料裝載在用於支承基體材料的託盤上。此時，就支承隱形眼鏡基體材料而言，由於裝置內為接近真空的狀態，為了提高處理時隱形眼鏡基體材料的穩定性，優選通過接觸隱形眼鏡基體表面1%以上的線接觸支承隱形眼鏡基體材料。另外，作為託盤的材質，可以使用一般在真空裝置中使用的材質，例如不鏽鋼等。在使裝置內的真空度達到規定的壓力範圍後，向裝置內導入甲垸和潤溼空氣的混合氣體，在眼鏡表面形成具有可經受住眼鏡的溶脹變化的柔軟度、且水潤溼性和耐久性優良的覆膜的基座。在第一工序中，通過使用潤溼空氣，使眼鏡表面的塗布膜成為具有柔軟性的覆膜，即使在經過例如通過乙醇等有機溶劑的萃取(以下，稱為乙醇萃取)和使用生理鹽水等的含水工序後，也可以形成光滑的表面，而不會在眼鏡的表面的塗布膜上產生裂紋等。本發明的潤溼空氣是指包含100ppm以上的水分，優選乾燥空氣中包含150ppm以上的水分，更優選1501000ppm，進一步優選150400ppm。此時，如果幹燥空氣中所包含的水分不足150ppm，則在眼鏡表面上形成的膜的交聯密度增加，容易成為剛硬膜，在以乙醇萃取為代表的溶脹工序中容易發生裂紋等，因此不優選。作為潤溼空氣的調製方法，可以列舉出在乾燥空氣製造時將水分作為雜質混入其中的方法；在將乾燥空氣導入到裝置內時通過連續通過蒸餾水而混入的方法；以及在例如圓底燒瓶等玻璃容器中使蒸餾水沸騰，將所得到的蒸氣和乾燥空氣混合後，導入到裝置內的方法等。在第一工序中使用的甲烷和潤溼空氣的混合比(甲烷潤溼空氣)以體積基準優選為50:5070:30。當潤溼空氣的比例多於該比例時，形成在眼鏡表面上的膜的形成速度會降低(增加處理時間)或者在成為最終產品前在實施高壓蒸氣滅菌後水潤溼性會降低，從而不優選。另外，當甲烷的比例多於該比例時，在眼鏡表面形成的膜容易變得剛硬，由於溶脹使尺寸發生變化，從而產生該剛硬的聚合膜的剝離、裂紋等，不適於作為柔軟的在軟質隱形眼鏡上形成的膜。上述混合比更優選為55:4565:35。在第一工序中，可以將甲烷和潤溼空氣混合後的混合氣體導入到裝置內，也可以分別導入甲烷和潤溼空氣，在裝置內成為混合氣體。在第一工序中，優選的是，向裝置內不斷地持續供應氣體，在通過真空泵將裝置內的壓力保持為恆定的情況下，進行等離子聚合處理。對於導入到裝置內的甲烷和潤溼空氣的混合氣體的流量，例如當裝置的內部體積為150700L左右時，優選為1.520sccm，進一步優選為210sccm。優選在將氣體導入到裝置內、並在裝置內的壓力穩定後進行第一工序中的等離子聚合處理。放電時的處理條件可以適當選擇，但是，例如優選裝置內的壓力為410Pa、放電輸出為1080W、等離子發生的電源為615KHz左右的低頻率。另外，作為裝置，可以列舉出內部電極型、外部電極型等，但是，無論哪種情況都可以使用公知的裝置進行實施。對於第一工序中的等離子聚合處理時間，考慮期望的膜厚進行設定即可，例如可以為320分鐘，優選為410分鐘。第二工序第二工序是在非聚合性氣體氣氛下對所述第一工序後的隱形眼鏡基體材料進行等離子處理的工序。對於本發明，在第一工序中在隱形眼鏡基體材料表面形成覆膜的基座後，通過進行第二工序，可以提高覆膜的親水性。在第二工序中使用的非聚合性氣體具有蝕刻的效果，即，具有蝕刻在第一工序中形成在眼鏡基體材料上的覆膜以提高覆膜的親水性的作用。第二工序可以在與第一工序相同的等離子裝置中進行，也可以在不同的等離子裝置中進行。從操作性等方面考慮，優選第二工序緊接在第一工序後在相同的等離子裝置內進行。此時，在第一工序後，暫且排出裝置內的處理氣體後，導入第二工序中使用的非聚合性氣體。在第一工序中，當為聚矽氧烷水凝膠時，在通過使用蒸餾水的液滴法進行接觸角測量當中，例如在未處理時，可以使水潤溼性提高到105°的接觸角變成約50°60°的程度，但是，通過該第二工序可以賦予眼鏡表面以更好的親水性，在上述的情況下，例如可以將接觸角提高到40。左右。第二工序中使用的非聚合性氣體是指通過等離子處理不具有沉積在表面上的性質的氣體，大致區分為如惰性氣體那樣不會促進化學反應的氣體和可促進化學反應但不具有沉積在表面上的性質的氣體。具體地說，可以列舉出氦、氬、H2、02、N2、H20、NH3、空氣等，其中，優選氧、氬、空氣，特別優選氧。另外，上述空氣也可以為潤溼空氣。作為潤溼空氣，可以使用前面在第一工序中提到的潤溼空氣。在第二工序中，也優選的是，向裝置內不斷地持續供應氣體，在通過真空泵將裝置內的壓力保持為恆定的情況下，進行等離子處理。優選等離子裝置內的壓力為410Pa、放電輸出為1080W、等離子發生的電源為615KHz左右的低頻率。另外，當等離子裝置的內部體積例如為150700L左右時，非聚合性氣體的流量優選為1.520sccm，進一步優選為210sccm。對於第二工序中的等離子處理時間，考慮在第二工序中使用的處理氣體的蝕刻速度等來進行設定即可，例如可以為30秒5分鐘，優選為13分鐘。通過以上的工序，可以在隱形眼鏡基體材料表面形成覆膜。覆膜形成在基體材料表面的至少一部分上即可，但是，優選形成在整個基體材料表面上。所述覆膜的厚度對眼鏡表面的水潤溼性和耐久性來說較為重要。膜的厚度可以通過使用自動橢圓偏振測厚儀來測量。作為代替使用自動橢圓偏振測厚儀直接測量形成在隱形眼鏡基體材料上的覆膜的厚度的方法，也可以將眼鏡和矽片裝載在運送託盤上的任意位置上，測量形成在矽片上的膜的厚度，將該膜厚視為形成在隱形眼鏡基體材料上的覆膜的厚度。所述覆膜的厚度優選為90250A，更優選為100200A。如果覆膜的厚度為90A以上，則覆膜的耐熱性高，在高壓蒸氣滅菌後水潤溼性不會降低，從而加以優選。另外，如果覆膜的厚度為250A以下，則可以得到較高的氧透過性。(軟質隱形眼鏡的製造方法)在本發明的軟質隱形眼鏡的製造方法中，使通過上述方法製造出的隱形眼鏡材料含水，而得到軟質隱形眼鏡。含水可以通過公知的方法進行。具體地說，可以將通過所述方法得到的隱形眼鏡材料浸漬在生理鹽水或軟質隱形眼鏡用保存液等中，由此使其含水。對所述含水處理後的軟質隱形眼鏡可以通過例如高壓蒸氣進行滅菌處理。另外，也可以通過有機溶劑對所述含水處理前的隱形眼鏡材料施加萃取處理。可以通過公知的方法進行該萃取處理，通過該處理可以去除殘留在隱形眼鏡材料中的對生物體不好的未聚合的單體和低聚物等。由於通過本發明的方法得到的隱形眼鏡材料在其表面上具有高柔軟性的覆膜，因此可以防止、減少上述萃取處理和含水處理中的覆膜的剝離、裂紋等的發生。由此，根據本發明，可以得到具有較高的表面光滑性且水潤溼性和耐久性優良的軟質隱形眼鏡。以下，通過實施例進一步說明本發明，但是本發明不限於以下的實施例。l.隱形眼鏡基體材料的製造製造例A:大分子單體的合成向三口燒瓶加入異佛爾酮二異氰酸酯8.88g、作為催化劑的二月桂酸二丁基錫0.025g以及二氯甲垸45mL，在氮氣流下攪拌。然後，精秤a—丁基一"一[3—(2，2—二(羥甲基)丁氧基)丙基]聚二甲基矽氧烷(日文原文a-:/千/""陽[3陽(2，2-(-匕K口fvk)7、、K年、y)7。口匕。/^]求^、2>於》7口年廿>020g，用約3小時的時間滴加到燒瓶內使其反應。在室溫下反應48小時後，進一步精稱二月桂酸二丁基錫0.025g、聚乙二醇一單甲基丙烯酸酯(PE—350)23.3g，用約30分鐘時間滴加到燒瓶內。用鋁箔覆蓋混合物，並進行攪拌直至IR(紅外線吸收譜)分析時異氰酸酯產生的吸收帶(2260cm—"消失(在室溫下反應約48小時)。向此溶液中進一步添加二氯甲烷後，用大量水洗淨，進行脫水、過濾後蒸出溶劑，由此可以得到數均分子量2,000(聚苯乙烯換算)的大分子單體。製造例A—h隱形眼鏡基體材料的製造將在製造例A中得到的矽氧烷大分子單體約3.9g、三(三甲基甲矽氧基)一Y—甲基丙烯醯氧基丙基甲矽烷約15g、N，N—二甲基丙烯醯胺約ll.lg、作為著色劑的l一苯胺基一4一(4一乙烯基苄基)氨基蒽醌(曰文原文1-7二];乂隱4-(4-匕、二/P^y^W)73乂7乂卜，年乂y)約0.003g、作為聚合引發劑的苯基二(2，4，6—三甲基苯甲醯基)氧化膦(曰文原文7工二/Ptf7(2，4，6-卜]j乂千/1^<乂、/一/^)求77<乂才年，,K)約0.18g在室溫下混合約20小時，調製成單體混合液。然後，將該單體混合液填充到由聚丙烯製成的、呈隱形眼鏡形狀的模具中，組裝完上模和下模後，照射約35mW/cm2的紫外線可見光線(380450nm)20分鐘，完成聚合。聚合結束後，從模具中取出聚合物，得到隱形眼鏡基體材料。製造例A—2:隱形眼鏡的製造將在製造例A中得到的矽氧烷大分子單體約4.5g、三(三甲基甲矽氧基)一Y—甲基丙烯醯氧基丙基甲矽烷約15g、N，N—二甲基丙烯醯胺約10.5g、苯基二(2，4，6—三甲基苯甲醯基)氧化膦約0.18g在室溫下混合約20小時，調製成單體混合液。然後，將該單體混合液填充到由聚丙烯製成的、呈隱形眼鏡形狀的模具中，組裝完上模和下模後，照射約35mW/cn^的紫外線可見光線(380450nm)20分鐘，完成聚合。聚合結束後，從模具中取出聚合物，得到隱形眼鏡基體材料。實施例1將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.24Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度150ppm)的混合比(甲烷潤溼空氣)60:40(氣體流量甲垸=1.8(sccm)、潤溼空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理6分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約200A。處理後的眼鏡在甲醇中浸漬約5小時後，置換為軟質隱形眼鏡用填充液，然後填充到出貨用眼鏡盒中後，在121°C、30分鐘的條件下進行高壓蒸氣滅菌處理。所得到的眼鏡通過以下的方法進行水潤溼性(測量接觸角)和表面親水性膜的耐久性(擦洗耐久性)的評價。表1示出了這些結果。如表1所示，對於在本實施例中得到的眼鏡，表面光滑柔軟，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。(i)眼鏡的外觀檢査擦去眼鏡表面的水分後，使用KEYENCE公司製造的數字HF顯微鏡VH—8000觀察眼鏡表面有無瑕疵和裂紋。(ii)表面水潤溼性的評價(測量接觸角)擦去眼鏡表面的水分後，將眼鏡粘貼在保持臺上，通過使用蒸餾水的液滴法測量接觸角。(m)擦洗耐久性實驗將眼鏡放在手心上，使用軟質隱形眼鏡用洗滌液擦洗眼鏡的表面、裡面後，用蒸餾水充分地洗涮。以上述操作作為i次，反覆進行洗滌操作。洗滌次數經過10、20、30次後，通過上述(ii)所示的方法進行接觸角測量，評價表面親水性膜的耐久性。實施例2將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.24Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度150ppm)的混合比(甲垸潤溼空氣)60:40(氣體流量甲烷=1.8(sccm)、潤溼空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理5分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約170A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟(圖2)，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.28Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度150ppm)的混合比(甲垸潤溼空氣)60:40(氣體流量甲烷=1.8(sccm)、潤溼空氣二1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理4.5分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約150A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟(圖3)，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。實施例4將在製造例A—2中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.25Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度250ppm)的混合比(甲垸潤溼空氣)67:33(氣體流量甲烷=2(sccm)、潤溼空氣=1(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率15kHz、放電電力44W下進行等離子聚合處理6分鐘。接著，在暫且排出甲垸和潤溼空氣的混合氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率15kHz、放電電力44W下進行等離子處理1分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約220A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡令人滿意。將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.24Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度300ppm)的混合比(甲垸潤溼空氣)60:40(氣體流量甲烷=1.8(sccm)、潤溼空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理6分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約190A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟(圖4)，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。實施例6將在製造例A—1中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.24Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度300ppm)的混合比(甲烷潤溼空氣)60:40(氣體流量甲垸=1.8(sccm)、潤溼空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理4分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約120A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。實施例7將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.24Pa。然後，以甲烷和潤溼空氣(水分濃度300ppm)的混合比(甲垸潤溼空氣)53:47(氣體流量甲烷=1.6(sccm)、潤溼空氣=1.4(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子聚合處理4.5分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約IOOA。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。眼鏡表面光滑柔軟，水潤溼性和耐久性優良，作為軟質隱形眼鏡具有令人滿意的物理性質。比較例1(僅使用烴的處理)將在製造例A—2中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.23Pa。接著，將甲烷3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力45W下進行等離子聚合處理6分鐘。然後，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約200A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。觀察眼鏡的表面，結果眼鏡表面產生裂紋，從而不適合作為隱形眼鏡(圖5)。對於這種情況，可以解釋為用甲烷形成的膜在眼鏡上形成為剛硬的覆膜，在乙醇萃取和含水工序中，覆膜經受不住眼鏡的溶脹比例的變化，從而產生裂紋。比較例2(使用飽和烴和氧的混合氣體的處理)將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.27Pa。接著，以甲烷1(sccm)和氧2(sccm)的流量將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率15kHz、放電電力35W下進行等離子聚合處理7分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約70A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。由於形成在眼鏡表面上的膜厚薄，因此高壓蒸氣滅菌後的水潤溼性較差，從而不適合用作隱形眼鏡。比較例3(使用甲烷和乾燥空氣的混合氣體的處理)將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.23Pa。然後，以甲烷和空氣(水分濃度0.53ppm以下)的混合比(甲烷空氣)60:40(氣體流量甲烷=1.8(sccm)、空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力35W下進行等離子聚合處理7分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約220A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。觀察眼鏡的表面，結果眼鏡表面產生裂紋，從而不適合作為隱形眼鏡(圖6)。對於這種情況，可以解釋為用甲烷和乾燥空氣的混合氣體形成的膜在眼鏡上形成為剛硬的覆膜，在乙醇萃取和含水工序中，覆膜經受不住眼鏡的溶脹比例的變化，從而產生裂紋。與實施例1相比可知，在第一工序中使用的處理氣體存在潤溼空氣或乾燥空氣的不同，而由於是否混入水分，結果會產生很大的差異。比較例4(使用甲烷和乾燥空氣的混合氣體的處理)將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到L25Pa。然後，以甲烷和空氣(水分濃度0.53ppm以下)的混合比(甲烷空氣)67:33(氣體流量甲烷=2(sccm)、空氣=1(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力35W下進行等離子聚合處理6分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約150A。處理後的眼鏡的處理方法與實施例l相同。表l示出了眼鏡的評價結果。觀察眼鏡的表面，結果眼鏡表面產生裂紋，從而不適合作為隱形眼鏡(圖7)。與實施例1相比可知，在第一工序中使用的處理氣體存在潤溼空氣或乾燥空氣的差別，而根據是否混入水分的不同，結果會產生很大的差異。比較例5(使用甲垸和潤溼空氣(水分濃度50ppm)的混合氣體的處理)將在製造例A—l中得到的隱形眼鏡放入到等離子聚合裝置內(內部體積約170L)，進行真空抽吸直至壓力達到1.23Pa。然後，以甲烷和空氣(水分濃度50ppm)的混合比(甲烷空氣)60:40(氣體流量甲烷=1.8(sccm)、潤溼空氣=1.2(sccm))將混合氣體導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力35W下進行等離子聚合處理7分鐘。接著，在暫且排出裝置內的處理氣體後，將氧氣3(sccm)導入到裝置內，在壓力4Pa、頻率10kHz、放電電力40W下進行等離子處理2分鐘。使用自動橢圓偏振測厚儀測量不僅形成在眼鏡上、也形成在處理後的矽片上的膜厚，其結果為約195A。處理後的眼鏡的處理和評價與實施例1相同。表1示出了眼鏡的評價結果。觀察眼鏡的表面，結果眼鏡表面產生裂紋，從而不適合作為隱形眼鏡(圖8)。與用甲烷和乾燥空氣的混合氣體處理的比較例3和4相比可知，裂紋的程度有了很大的改善，但是濃度50ppm的水分是充足的。如表l和圖5圖8所示，如比較例1、35那樣，當用實質上不含氮和氧的烴(例如，甲垸)進行覆膜形成處理時、和用甲烷和乾燥氣體的混合氣體進行覆膜形成處理時、以及用甲垸和包含50ppm左右的水分的空氣的混合氣體進行覆膜形成處理時，眼鏡表面產生裂紋，從而不適合作為隱形眼鏡。另外，如比較例2那樣，當使用飽和烴和氧的混合氣體進行覆膜形成處理時，通過飽和烴形成的膜通過氧等離子的蝕刻而被削掉，從而不能將足夠厚的膜形成在眼鏡表面上，故不能賦予充分的水潤溼性。對此，如實施例所示，使用甲烷和潤溼空氣的混合氣體塗布的眼鏡表面光滑，且具有表面水潤溼性和耐久性優良的表面，適合作為隱形眼鏡。tableseeoriginaldocumentpage18工業實用性根據本發明，可以提供表面光滑且具有水潤溼性及耐久性優良的表面的隱形眼鏡，特別是，可以提供由包含作為眼鏡成分的聚矽氧垸的水凝膠形成的軟質隱形眼鏡。權利要求1.一種隱形眼鏡材料的製造方法，所述隱形眼鏡材料包括隱形眼鏡基體材料和形成在該基體材料表面的至少一部分上的覆膜，所述隱形眼鏡材料的製造方法的特徵在於，對所述隱形眼鏡基體材料在甲烷和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理，然後在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理，由此形成所述覆膜。2.如權利要求1所述的隱形眼鏡材料的製造方法，其特徵在於，所述隱形眼鏡基體材料含有聚矽氧烷。3.如權利要求1或2所述的隱形眼鏡材料的製造方法，其特徵在於，所述潤溼空氣包含150ppm以上的水分。4.如權利要求1至3中任一項所述的隱形眼鏡材料的製造方法，其特徵在於，所述混合氣體中的甲垸和潤溼空氣的混合比(甲垸潤溼空氣)為50:5070:30。5.如權利要求1至4中任一項所述的隱形眼鏡材料的製造方法，其特徵在於，所述非聚合性氣體是選自氧、氬以及空氣中的至少一種。6.—種軟質隱形眼鏡的製造方法，其特徵在於，使通過權利要求15中任一項所述的方法製造出的軟質隱形眼鏡材料含水，得到軟質隱形眼鏡。7.如權利要求6所述的軟質隱形眼鏡的製造方法，其特徵在於，包括以下步驟通過有機溶劑對所述含水前的隱形眼鏡材料施加萃取處理。全文摘要本發明提供一種表面光滑且水潤溼性和耐久性優良的隱形眼鏡材料的製造方法。所述隱形眼鏡材料包括隱形眼鏡基體材料和形成在該基體材料表面的至少一部分上的覆膜，在隱形眼鏡材料的製造方法中，對所述隱形眼鏡基體材料在甲烷和潤溼空氣的混合氣體氣氛下進行等離子聚合處理，然後在非聚合性氣體氣氛下進行等離子處理，由此形成所述覆膜。並且，本發明還提供一種軟質隱形眼鏡的製造方法，使通過上述方法製造出的軟質隱形眼鏡材料含水，得到軟質隱形眼鏡。文檔編號C08J7/00GK101287779SQ200680032418公開日2008年10月15日申請日期2006年8月30日優先權日2005年9月5日發明者今福元申請人:豪雅保健株式會社