顯示裝置以及電子儀器的製作方法

2023-10-08 00:28:59

專利名稱：顯示裝置以及電子儀器的製作方法
技術領域：
本發明涉及顯示裝置以及電子儀器。
背景技術：
近年來，使有機螢光材料等發光材料墨水化，根據向基體材料上噴出該墨水(組成物)的噴墨法，採用進行發光材料的圖案形成的方法，進行了在陽極和陰極之間夾持了由該發光材料構成的發光層的結構的彩色顯示裝置、特別是使用有機發光材料作為發光材料的有機EL(場致發光)顯示裝置的開發(參照特許文獻1(特開平10-12377號公報))。
因此，參照


以往的顯示裝置(有機EL顯示裝置)。
圖31是表示以往的顯示裝置的主要部分的剖視模式圖。
圖31所示的顯示裝置的結構為在襯底802上依次層疊元件部811、陰極812。另外，在元件部811和襯底802之間設置有電路元件部814。
在該以往的顯示裝置中，從設置在元件部811內的發光元件910向襯底802一側發出的光透過電路元件部814和襯底802，射出到襯底802的下側(觀察者一側)，並且從發光元件910向襯底802的相反一側發出的光由陰極812反射，透過電路元件部814和襯底802，射出到襯底802的下側(觀察者一側)。
電路元件部814在襯底802上依次層疊了透明的基底膜814、透明的柵絕緣膜942、透明的第一層間絕緣膜944和第二層間絕緣膜947，在基底膜814上設置有島狀的矽膜941，再在柵絕緣膜942上設置有柵電極943(掃描線)。在矽膜941上設置有圖中未顯示的溝道區域和夾著該溝道區域的漏區域以及源區域，柵電極943設置在與矽膜941的溝道區域對應的位置上。另外，在第二層間絕緣膜947上層疊有圖案形成為俯視是近似矩形的象素電極911(陽極)。而且，形成有貫通第一、第二層間絕緣膜844、847的接觸孔945、946，一方的接觸孔945連接矽膜941的圖中未顯示的源區域和象素電極911，另一方的接觸孔946連接了電源線948。這樣一來，在電路元件部814上形成有連接各象素電極911的驅動用的薄膜電晶體913。
元件部811是以分別層疊在多個象素電極911…上的發光元件910、設置在各象素電極911和各發光元件910之間並且劃分各發光元件910的隔壁部912為主體來構成的。
隔壁部912通過一直形成到象素電極911的周邊部上，設置有與象素電極911的形成位置對應的開口部912c。隔壁部912例如由氟化樹脂等防墨水性樹脂或通過CF4等離子體處理等使表面氟化的樹脂形成，並賦予了防液性，當從噴墨頭作為墨滴使包含有機EL材料的組成物墨水(組成物)噴出時，由於隔壁部912的防墨水性，液滴在開口部912c上形成有圖案。
發光元件910由形成在象素電極911上的空穴注入/輸送層910a、與空穴注入/輸送層910a相鄰配置的發光層910b構成。
空穴注入/輸送層910a是通過向象素電極911上噴出包含空穴注入/輸送層的形成材料的組成物並進行乾燥後得到的。
另外，陰極812形成在元件部811的整個面上，與象素電極911成對，起到向發光元件910注入電子的作用。該陰極912由多層形成，例如一般使用氟化鋰、鈣、Mg、Ag、Ba等功函數低的金屬。
但是，在以往的顯示裝置中，從發光層發出的著色光不僅在觀測者一側，還擴展到發光層的周圍(發光層的非形成區域)，因此，從夾著該非形成區域相鄰的發光層發出的著色光彼此混色化，產生顏色汙點，使顯示裝置的對比度下降。

發明內容
鑑於以上所述問題的存在，本發明的目的在於提供能防止發光元件的低壽命化，並且對比度優異的顯示裝置。
為了實現以上所述目的，本發明採用了以下所述的結構。
本發明的顯示裝置其特徵在於在襯底面內形成有多個發光元件，在俯視圖中，在所述各發光元件之間的區域中設置有遮光層。
該遮光層形成在比發光元件更靠近觀察者的位置(即靠近顯示面的位置)。例如，在使發出的光射出到襯底一側的底發射型的顯示裝置中，遮光層設置在比發光元件的發光層的形成位置更靠襯底一側。另外，在使發出的光射出到與襯底相反一側的頂發射型的顯示裝置中，遮光層設置在覆蓋劃分各發光元件的隔壁的上部、襯底面的密封樹脂的內面(與襯底面相對的面)一側，對於襯底面，配置在比發光層更上層一側。
或者，本發明的顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於所述隔壁部由位於所述襯底一側的第一隔壁層和形成在所述第一隔壁層上的第二隔壁層形成，在第一隔壁層和第二隔壁層之間設置有遮光層。
須指出的是，發光元件是指至少包含形成在襯底上的電極、與該電極相鄰形成的功能層、與該功能層相鄰形成的對置電極。另外，功能層是指至少包含空穴注入/輸送層和發光層。
另外，本發明的顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於在所述襯底和所述隔壁部之間設置有遮光層。
根據所述的顯示裝置，通過設置遮光層，能遮擋來自發光元件的非形成區域的外部的入射光和來自發光元件的出射光。
特別是，通過在發光元件的非形成區域遮擋來自發光元件的光，就能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此導致的顏色汙點，就能提高顯示裝置的對比度。
另外，當在第一隔壁層和第二隔壁層之間設置有遮光層時，能提高第一隔壁層和第二隔壁層的緊貼性。
另外，在本發明的顯示裝置中，最好在所述遮光層上設置與所述發光元件對應的遮光開口部。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述遮光層最好由黑色樹脂構成。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述遮光層最好由位於所述襯底一側的第一遮光膜和位於遠離所述襯底一側的第二遮光膜形成。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述第一遮光膜最好是金屬鉻膜，並且所述第二遮光膜是氧化鉻。
根據相關的顯示裝置，因為在襯底一側配置了金屬鉻膜，在遠離襯底一側配置了氧化鉻膜，所以來自外部的入射光由金屬鉻膜反射，並且由氧化鉻膜遮擋發光元件的非形成區域的發光元件的出射光，能進一步提高顯示裝置的對比度，能進一步提高視覺識別性。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述第一隔壁層由SiO2、TiO2中的任意一種構成，第二隔壁層由丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂中的任意一種構成。
另外，本發明的顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於通過所述隔壁部由黑色樹脂構成，形成有遮光層。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述隔壁部中最好形成所述第一隔壁層和所述遮光層。
另外，根據相關的顯示裝置，隔壁部由黑色樹脂構成，並且兼作遮光層，通過該隔壁部，能擋來自發光元件的非形成區域的外部的入射光和來自發光元件的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
通過在發光元件的非形成區域遮擋來自發光元件的光，能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此導致的顏色汙點，能提高顯示裝置的對比度。
另外，在本發明的顯示裝置中，所述第一隔壁層由SiO2、TiO2中的任意一種構成，構成所述有機物隔壁層的所述樹脂是丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂中的任意一種。
另外，在本發明的顯示裝置中，最好進行至少使所述第一隔壁層的一部分具有親液性的加工。
本發明的電子儀器具有顯示裝置、用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於在襯底面內形成有多個發光元件，在俯視圖中，在所述各發光元件之間的區域中設置有遮光層。
另外，本發明的電子儀器具有顯示裝置、用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；所述隔壁部由位於所述襯底一側的第一隔壁層和形成在所述第一隔壁層上的第二隔壁層形成；在所述第一隔壁層和所述第二隔壁層之間設置有遮光層。
另外，本發明的電子儀器具有顯示裝置、用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；在所述襯底和所述隔壁部之間設置有遮光層。
另外，本發明的電子儀器具有顯示裝置、用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；在所述隔壁部上形成有由黑色樹脂構成的遮光層。
根據相關的電子儀器，能構成具有長壽命、對比度高的顯示部的電子儀器。
如以上所述，根據本發明的顯示裝置，通過設置遮光層，能遮擋來自發光元件的非形成區域的外部的入射光和來自發光元件的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
特別是通過在發光元件的非形成區域遮擋來自發光元件的光，能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此所導致的顏色汙點，能提高顯示裝置的對比度。
另外，當在第一隔壁層和第二隔壁層之間設置有遮光層時，能提高第一隔壁層和第二隔壁層的緊貼性。

下面簡要說明附圖。
圖1是本發明實施例1的顯示裝置布線結構的俯視模式圖。
圖2A和圖2B是表示本發明實施例1的顯示裝置的圖，圖2A是顯示裝置的俯視模式圖，圖2B是沿著圖2A的AB線的剖視模式圖。
圖3是表示本發明實施例1的顯示裝置的主要部分的圖。
圖4是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖5是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖6是表示本發明實施例1的顯示裝置的製造中使用的等離子體處理裝置的一個例子的俯視模式圖。
圖7是表示圖6所示的等離子體處理裝置的第一等離子體處理室的內部結構的模式圖。
圖8是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖9是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖10是表示本發明實施例1的顯示裝置的製造中使用的等離子體處理裝置的其他例子的俯視模式圖。
圖11是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖12是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖13是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖14是表示製造本發明實施例1的顯示裝置時使用的頭的俯視圖。
圖15是表示製造本發明實施例1的顯示裝置時使用的噴墨裝置的俯視圖。
圖16是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖17是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖18是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖19是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖20是說明本發明的實施例1的顯示裝置的製造方法的步驟圖。
圖21是表示本發明實施例2的顯示裝置的主要部分的圖。
圖22是表示本發明實施例3的顯示裝置的主要部分的圖。
圖23是表示本發明實施例4的顯示裝置的主要部分的圖。
圖24是表示本發明實施例5的顯示裝置的主要部分的圖。
圖25是表示本發明實施例6的顯示裝置的剖視圖，是與圖2B對應的圖。
圖26是表示本發明實施例6的顯示裝置的主要部分的圖，是與圖3對應的圖。
圖27是表示本發明實施例7的電子儀器的立體圖。
圖28是表示本發明的其他例子的顯示裝置的剖視模式圖。
圖29是表示本發明的其他例子的顯示裝置的剖視模式圖。
圖30A～圖30C是表示發光層的配置的俯視模式圖，圖30A是表示帶狀配置的圖，圖30B是表示鑲嵌配置的圖，圖30C是表示三角配置的圖。
圖31是表示以往的顯示裝置主要部分的剖視圖。
具體實施例方式
下面，參照附圖，說明本發明的實施例。須指出的是，在圖1～圖26中，在圖中為了使各層和各構件的大小為可以識別的程度，對各層和各構件使用與實際不同的比例進行了表示。
下面，參照

本發明的實施例1。
圖1表示本實施例的顯示裝置的布線結構的俯視模式圖，圖2表示本實施例的顯示裝置的俯視模式圖和剖視模式圖。
如圖1所示，本實施例的顯示裝置1具有分別設置有多條掃描線101、在對於掃描線101交叉的方向延伸的多條信號線102、與信號線102並列延伸的多條電源線103的結構，並且在各掃描線101和信號線102的各交點附近設置有象素區域A。
在信號線102上，連接了具有移位寄存器、電平移動器、視頻線和模擬開關的數據一側驅動電路104。另外，在掃描線101上連接了具有移位寄存器和電平移動器的掃描線一側驅動電路105。
而且，在象素區域A上分別設置有通過掃描線101把掃描信號提供給柵電極的開關用薄膜電晶體112、保持通過該開關薄膜電晶體112從信號線102提供的象素信號的保持電容cap；該由保持電容cap保持的象素信號提供給柵電極的驅動用薄膜電晶體123；當通過該驅動用薄膜電晶體123電連接了電源線103時，驅動電流從該電源線103流入的象素電極111(電極)；夾在該象素電極111和陰極12(對置電極)之間的功能層110。由象素電極111、對置陰極12和功能層110構成了發光元件。
根據該結構，如果掃描線101被驅動，開關用薄膜電晶體112變為導通，則此時的信號線102的電位保持在保持電容cap中，在該保持電容cap中，按照狀態決定驅動用薄膜電晶體123的導通、斷開狀態。然後，通過驅動用薄膜電晶體123，電流從電源線103流向象素電極111，再通過功能層110流向陰極12。功能層110按照流過它的電流量發光。
接著，如圖2A和圖2B所示，本實施例的顯示裝置1包含由玻璃等構成的透明襯底2、具有配置為矩陣狀的發光元件並且形成在襯底2上的發光元件部11、形成在發光元件部11上的陰極12。通過發光元件部11和陰極12構成了顯示元件10。
襯底2是例如玻璃等的透明襯底，並且劃分為位置襯底2的中央的顯示區域2a和位於襯底2的周邊並且包圍了顯示區域2a的非顯示區域2b。
顯示區域2a是由配置為矩陣狀的發光元件形成的區域，在顯示區域的外側形成有非顯示區域2b。而且，在非顯示區域2b上形成有與顯示區域2a相鄰的假顯示區域2d。
另外，如圖2B所示，在發光元件部11和襯底2之間設置有電路元件部14，在該電路元件部14上設置有所述的掃描線、信號線、保持電容、開關用薄膜電晶體、驅動用薄膜電晶體123等。
另外，陰極12中，其一端從發光元件部11上連接了形成在襯底2上的陰極用布線12a，它的布線的一端部12b連接了軟性襯底5上的布線5a。另外，布線5a連接了設置在軟性襯底5上的驅動IC6(驅動電路)。
另外，如圖2A和圖2B所示，在電路元件部14的非顯示區域2b上配置了所述的電源線103(103R、103G、103B)。
在顯示區域2a的圖2A中的兩側，配置有所述掃描一側驅動電路105、105。該掃描一側驅動電路105、105設置在假區域2d的下側的電路元件部14內。在電路元件部14內，設置有連接在驅動電路105、105上的驅動電路用控制信號布線105a和驅動電路用電源布線105b。
而且，還在顯示區域2a的圖2A中的上側配置了檢查電路106。通過該檢查電路106，能進行製造途中和出廠時的顯示裝置的質量、缺陷的檢查。
另外，如圖2B所示，在發光元件部11上設置有密封部3。該密封部3由塗敷在襯底2上的密封樹脂603和密封蓋604構成。密封樹脂603由熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂等構成，特別是最好由熱硬化樹脂的一種即環氧樹脂構成。
該密封樹脂603在襯底2的周圍塗敷為環狀，例如是由微分配器等塗敷的。該密封樹脂603接合襯底2和密封蓋604，防止從襯底2和密封蓋604之間水或氧向密封蓋604的內部侵入，防止陰極12或發光元件部11內形成的圖中未顯示的發光層的氧化。
密封蓋604由玻璃或金屬構成，通過密封樹脂603接合了襯底2，在其內側設置有容納顯示元件10的凹部604a。另外，在凹部604a上粘貼了吸收水、氧等的吸氣劑605，它能吸收侵入密封蓋604的內部的水或氧。須指出的是，也可以省略該吸氣劑605。
接著，在圖3中表示了放大顯示裝置的顯示區域的剖面結構的圖。在圖3中顯示了三個象素區域A。
該顯示裝置1的結構為在襯底2上依次層疊形成有TFT等電路的電路元件部14、形成有功能層110的發光元件部11和陰極12。
在該顯示裝置1中，從功能層110向襯底2一側發出的光透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)，並且從功能層110向襯底2的相反一側發出的光由陰極12反射，透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)。
須指出的是，能通過使用透明的材料作為陰極12，使發出的光從陰極一側出射。能使用ITO、Pt、Ir、Ni、或Pd作為透明的材料。希望膜厚為75nm左右，最好比該膜厚更薄。
在電路元件部14中，在襯底2形成有由氧化矽膜構成的底層保護膜2c，在該底層保護膜2c之上形成有由多晶矽構成的島狀的半導體膜141。須指出的是，在半導體膜141上，通過打入高濃度P離子形成有源區域141a和漏區域141b。須指出的是，未導入P的部分成為溝道區域141c。
在電路元件部14上，形成有覆蓋底層保護膜2c和半導體膜141的透明的柵絕緣膜142，在柵絕緣膜142上形成有由Al、Mo、Ta、Ti、W等構成的柵電極143(掃描線101)，柵電極143和柵絕緣膜142上形成有透明的第一層間絕緣膜144a和第二層間絕緣膜144b。柵電極143設置在與半導體膜141的溝道區域141c對應的位置。另外，貫通第一、第二層間絕緣膜144a、144b，形成有分別連接了半導體膜141的源、漏區域141a、141b的接觸孔145、146。
然後，在第二層間絕緣膜144b上，把由ITO等構成的透明的象素電極111形成給定的形狀，而接觸孔145連接在該象素電極111上。
另外，另一個接觸孔146連接了電源線103。
這樣，在電路元件部14上形成有連接各象素電極111的驅動用薄膜電晶體123。
須指出的是，在電路元件部14上也形成有所述保持電容cap和開關用薄膜電晶體142，但是在圖3中省略了它們的圖示。
接著，如圖3所示，發光元件部11是以分別層疊在多個象素電極111…上的功能層110、設置在各象素電極111和功能層110之間並且劃分各功能層110的隔壁部112、遮光層113為主體構成的。在功能層110上配置了陰極12。由這些象素電極111、功能層110和陰極12構成了發光元件。在此，象素電極111例如由ITO形成，形成有俯視圖中的矩形。該象素電極111的厚度希望為50～200nm，特別是150nm左右。在該各象素電極111…之間具有隔壁部112。
隔壁部112如圖3所示，由位於襯底2一側的無機物隔壁層112a(第一隔壁層)和位於遠離襯底2的位置的有機物隔壁層112b(第二隔壁層)層疊構成。另外，無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b之間配置了遮光層113。
無機物隔壁層、有機物隔壁層112a、112b形成在象素電極111的周邊部上。在平面上，成為象素電極111的周圍和無機物隔壁層112a平面重疊配置的結構。另外，有機物隔壁層112b也同樣，配置為與象素電極111的一部分在平面上重疊。另外，無機物隔壁層112a形成在比有機物隔壁層112b更靠象素電極111的中央一側。這樣，通過在象素電極111的內側形成無機物隔壁層112a的各第一層疊部112e，設置有與象素電極111的形成位置對應的下部開口部112c。
另外，在有機物隔壁層112b上形成有上部開口部112d。該上部開口部112d設置為與象素電極111的形成位置以及下部開口部112c對應。如圖3所示，上部開口部112d比下部開口部112c寬，比象素電極111窄。另外，有時上部開口部112d的上部的位置與象素電極111的端部幾乎為相同位置。此時，如圖3所示，有機物隔壁層112b的上部開口部112d的剖面變為傾斜的形狀。
而且，在有機物隔壁層112b上，通過連通下部開口部112c和上部開口部112d，形成有貫通無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b的開口部112g。
另外，無機物隔壁層112a例如希望由SiO2、TiO2等無機材料構成。該無機物隔壁層112a的膜厚希望為例如50～200nm，特別是150nm。當膜厚不足50nm時，無機物隔壁層112a變得比後述的空穴注入/輸送層薄，因為無法確保空穴注入/輸送層的平坦性，所以不好。如果膜厚超過200nm，則基於下部開口部112c的階梯變大，因為無法確保在空穴注入/輸送層上層疊的後述的發光層的平坦性，所以不好。
而且，有機物隔壁層112b由丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等通常的抗蝕劑構成。該有機物隔壁層112b的厚度希望為0.1～3.5μm，特別是2μm左右。如果厚度不足0.1μm，則有機物隔壁層112b比後述的空穴注入/輸送層和發光層的合計厚度薄，發光層有可能從上部開口部112d溢出，所以不好。另外，如果厚度超過3.5μm，則基於上部開口部112d的階梯變大，因為無法確保在有機物隔壁層112b上形成的陰極的臺階敷層，所以不好。另外，如果有機物隔壁層112b的厚度在2μm以上，能提高與驅動用薄膜電晶體123的絕緣，所以更好。
另外，在隔壁部112上形成有表現親液性的區域和表現防液性的區域。
表現親液性的區域是無機物隔壁層112a的第一層疊部112e和象素電極111的電極面111a，這些區域通過以氧為處理氣體的等離子體處理，被表面處理為親液性。另外，表現防液性的區域是上部開口部112d的壁面和有機物隔壁層112的上表面112f，這些區域通過四氟甲烷、四氟代甲烷或四氟化碳為處理氣體的等離子體處理，表面被氟化處理(處理為防液性)。
接著，如圖3所示，功能層110由層疊在象素電極111上的空穴注入/輸送層110a、與空穴注入/輸送層110a上相鄰形成的發光層110b構成。須指出的是，也可以與發光層110b相鄰再形成具有其他功能的其他功能層。例如，能形成電子輸送層。
空穴注入/輸送層110a不但具有把空穴注入發光層110b中的功能，而且具有在空穴注入/輸送層110a內部輸送空穴的功能。通過在象素電極111和發光層110b之間設置這樣的空穴注入/輸送層110a，能提高發光層110b的發光效率、壽命等元件特性。另外，在發光層110b中，從空穴注入/輸送層110a注入的空穴和從陰極12注入的電子在發光層中再結合，進行了發光。
空穴注入/輸送層110a由位於下部開口部112c內並且形成象素電極面111a上的平坦部110a1、位於上部開口部112d內並且形成在無機物隔壁層的第一層疊部112e上的周邊部110a2構成。另外，空穴注入/輸送層110a根據結構，只在各象素電極111上，並且在無機物隔壁層110a(下部開口部110c)之間形成(也有隻在所述的平坦部上形成的形態)。
該平坦部110a1的厚度一定，例如形成在50～70nm的範圍內。
當形成有周邊部110a2時，周邊部110a2位於無機物隔壁層的第一層疊部112e上，並且緊貼上部開口部112d的壁面即有機物隔壁層112b。另外，周邊部110a2的厚度在靠近電極面111a一側薄，沿著遠離電極面111a的方向增大，在下部開口部112d的壁面附近變得最厚。
作為周邊部110a2形成所述形狀的理由在於空穴注入/輸送層110a是把包含空穴注入/輸送層形成材料和極性溶劑的第一組成物向開口部112內噴出後，除去極性溶劑而形成的，極性溶劑的揮發主要在無機物隔壁層的第一層疊部112e上發生，空穴注入/輸送層形成材料在該第一層疊部112e上集中地濃縮、析出。
另外，發光層110b在空穴注入/輸送層110a的平坦部110a1和周邊部110a2上形成，在平坦部110a1上的厚度例如為50～80nm的範圍。
發光層110b具有發出紅色(R)光的紅色發光層110b1、發出綠色(G)光的綠色發光層110b2、發出藍色(B)光的藍色發光層110b3等三種，並且各發光層110b1～110b3配置為帶狀。
如以上所述，因為空穴注入/輸送層110a的周邊部110a2挨著上部開口部112d的壁面(有機物隔壁層112b)，所以發光層110b不直接接觸有機物隔壁層112b。因此，能通過周邊部110a2阻止在有機物隔壁層112b中作為雜質而包含的水移到發光層110b一側，能防止水引起的發光層110b的氧化。
另外，因為在無機物隔壁層的第一層疊部112e上形成有厚度不均勻的周邊部110a2，所以周邊部110a2通過第一層疊部112e變為從象素電極111絕緣的狀態，空穴不會從周邊部110a2注入發光層110b中。據此，來自發光層110b的電流只流到平坦部112a1，能從平坦部112a1把空穴均勻地輸送到發光層110b，不但能只使發光層110b的中央部分發光，而且能使發光層110b的發光量一定。
另外，因為無機物隔壁層112a比有機物隔壁層112b更向象素電極111的中央一側延伸，所以能通過該無機物隔壁層112a使象素電極111和平坦部110a1的接合部分的形狀整齊，能抑制各發光層110b間的發光強度的偏移。
而且，因為象素電極111的電極面111a和無機物隔壁層的第一層疊部112e表現了親液性，所以功能層110與象素電極111以及無機物隔壁層112a均勻地緊貼，能使無機物隔壁層112a上，功能層110不會變得極端薄，能防止象素電極111和陰極12的短路。
另外，因為有機物隔壁層112b的上表面112f和上部開口部112d的壁面表現了防液性，所以功能層110和有機物隔壁層112b的緊貼性變低，功能層110不會從開口部112g溢出形成。
須指出的是，作為空穴注入/輸送層形成材料，例如能使用聚乙烯二氧噻吩等聚噻吩衍生物和聚苯乙烯磺酸等的混合物。
另外，作為發光層110b的材料，能使用例如由以下結構式表示的化合物1～化合物5所代表的(聚)對苯撐乙烯撐衍生物、聚苯撐衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯咔唑、聚噻吩衍生物、二萘嵌苯類色素、香豆素類色素、若丹明類色素，或在這些高分子材料中摻雜紅熒烯、二萘嵌苯、9、10-聯苯蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、香豆素6、喹吖酮等。 化合物1 化合物2 化合物3 化合物4 化合物5接著，如圖3所示，遮光層113形成在無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b之間。在遮光層113上，在與功能層110對應的位置設置有遮光開口部113c。據此，遮光層113配置在功能層110彼此之間，位於功能層110的非形成區域。
遮光層113遮擋從發光層110b發出並由陰極12反射的光，防止來自象素區域A以外的反射光的出射，提高了顯示裝置的視覺識別性。另外，該遮光層113抑制基於陰極12的外部光的反射，使視覺識別性提高。
該遮光層113由形成在無機物隔壁層112a上的第一遮光膜113a和層疊在第一遮光膜113a上的第二遮光膜113b構成。第一遮光膜113a例如由厚度100nm的金屬Cr膜構成，第二遮光膜113b例如由厚度50nm的氧化鉻(Cr2O5)膜構成。
通過設置相關的遮光層113，能在非形成區域遮擋來自功能層110的非形成區域的外部的入射光以及來自功能層110的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
特別是，通過在功能層110的非形成區域遮擋來自功能層110的光，能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此導致的顏色汙點，能提高顯示裝置的對比度。
另外，通過在無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b之間設置遮光層113，能提高無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b的緊貼性。
而且，因為金屬鉻膜(113a)配置在襯底一側，在離開襯底的一側配置氧化鉻膜(113b)，所以通過金屬鉻膜(113a)使來自外部的入射光反射，並且通過氧化鉻膜(113b)能遮擋功能層110的非形成區域的功能層110的出射光，能進一步提高顯示裝置的對比度，能進一步提高視覺識別性。
須指出的是，在圖3中表示了2層結構的遮光層113，但是本發明並不局限於此，作為遮光層，可以使用把炭黑等黑色顏料與樹脂混合而成的黑色樹脂，採用由該黑色樹脂層的單層結構構成的遮光層。
接著，陰極12形成在發光元件部11的整個面上，與象素電極111成對，實現了使電流流向功能層110的功能。該陰極12例如由鈣層和鋁層層疊構成。此時，靠近發光層一側的陰極希望設置為功函數低的，特別是在本形態中，直接與發光層110b相連，完成把電子注入發光層110b的功能。另外，通過發光層的材料能使氟化鋰高效地發光，所以有時也在發光層110和陰極12之間形成LiF。須指出的是，在紅色和綠色發光層110b1、110b2中並不局限於氟化鋰，也可以使用其它材料。因此，只有藍色(B)發光層110b3中，形成由氟化鋰構成的層，在其他的紅色和綠色發光層110b1、110b2上，可以層疊氟化鋰以外的材料。另外，在紅色和綠色發光層110b1、110b2上可以不形成氟化鋰，而只形成鈣。
須指出的是，氟化鋰的厚度希望為2～5nm的範圍，特別是2nm左右。另外，鈣的厚度例如希望為2～50nm的範圍，特別是20nm左右。
另外，形成陰極12的鋁使從發光層110b發出的光在襯底2一側反射，除了鋁膜，最好由Ag膜、Al和Ag的層疊膜構成。另外，其厚度希望在100～1000nm的範圍，特別是200nm左右。
也可以再在鋁上設置由SiO、SiO2、SiN構成的防止氧化用的保護膜。
須指出的是，在這樣形成的發光元件上配置密封蓋604。如圖2B所示，通過密封樹脂603接合密封蓋604，形成顯示裝置1。
下面，參照

本實施例的顯示裝置的製造方法。
本實施例的顯示裝置1的製造方法例如具有(1)隔壁部的形成步驟；(2)等離子體處理步驟；(3)空穴注入/輸送層的形成步驟；(4)發光層的形成步驟；(5)對置電極的形成步驟；(6)密封步驟。須指出的是，製造方法並不局限於此，按照需要有時會去掉或追加步驟。
(1)隔壁部的形成步驟隔壁部的形成步驟是在襯底2的給定位置形成隔壁部112的步驟。隔壁部112的結構為形成有無機物隔壁層112a作為第一隔壁層，並且形成有有機物隔壁層112b作為第二隔壁層。下面就形成方法加以說明。
(1)-1無機物隔壁層的形成首先，如圖4所示，在襯底上的給定位置形成無機物隔壁層112a。形成有無機物隔壁層112a的位置是在第二層間絕緣膜144b上和電極(在此是象素電極)111上。須指出的是，第二層間絕緣膜144b形成在配置了薄膜電晶體、掃描線、信號線等的電路元件部14上。
無機物隔壁層112a能使用例如SiO2、TiO2等的無機物膜作為材料。例如通過CVD法、鍍膜法、濺射法、蒸鍍法等形成有這些材料。
無機物隔壁層112a的膜厚度希望為50～200nm的範圍，特別是150nm左右。
無機物隔壁層112是在層間絕緣膜114和象素電極111的整個面上形成無機物膜，然後，通過由光刻法等對該無機物膜刻膜，形成有具有開口部的無機物隔壁層112。開口部與象素電極111的電極面111a的形成位置對應，如圖4所示，設置為下部開口部112c。
此時，與象素電極111的周邊部重疊形成有無機物隔壁層112a。如圖4所示，通過使象素電極111的周邊部和無機物隔壁層112a重疊，形成無機物隔壁層112a，能控制發光層110的發光區域。
(1)-2遮光層113和有機物隔壁層112b的形成接著，形成遮光層113和作為第二隔壁層的有機物隔壁層112b。
如圖5所示，在無機物隔壁層112a上形成遮光層113和有機物隔壁層112b。
首先，在無機物隔壁層112a和電極面111a的整個面上層疊第一遮光膜113a和第二遮光膜113b(遮光層113)。
例如通過用濺射法、蒸鍍法等使金屬Cr成膜，形成第一遮光膜113a，例如通過用蒸鍍法等使氧化鉻(Cr2O5)成膜，形成第二遮光膜113b。
接著，作為有機物隔壁層112b，使用丙烯酸樹脂、聚醯亞胺等具有耐熱性、耐溶劑性的材料，通過光刻技術等形成有有機物隔壁層112b。須指出的是，在形成圖案時，在有機物隔壁層112b上形成上部開口部112d的同時，在遮光層113上形成遮光開口部113c。上部開口部112d設置在與電極面111a和下部開口部112c對應的位置。
如圖5所示，上部開口部112d和遮光開口部113c最好比形成在無機物隔壁層112a上的下部開口部112c寬。有機物隔壁層112b最好是具有錐度的形狀，在有機物隔壁層112b的最低面中，比象素電極111的寬度窄，並且在有機物隔壁層112b的最上面，形成與象素電極111的寬度幾乎相同的寬度。據此，包圍無機物隔壁層112a的下部開口部112c的第一層疊部112e比有機物隔壁層112b更向象素電極111的中央一側延伸。
這樣一來，通過使上部開口部112d、遮光開口部113c和下部開口部112c連通，就形成有貫通無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b的開口部112g。
第一遮光膜113a的膜厚禮入為100nm。另外，第二遮光膜113b例如為50nm。
另外，有機物隔壁層112b的厚度希望為0.1～3.5μm，特別是2μm左右。取這樣的範圍的理由如以下所述。
即，如果厚度不足0.1μm，則有機物隔壁層112b比後述的空穴注入/輸送層和發光層的合計厚度薄，發光層110b有可能從上部開口部112d溢出，所以不好。另外，如果厚度超過3.5μm，則基於上部開口部112d的階梯變大，因為無法確保上部開口部112d的陰極12上的臺階敷層，所以不好。另外，如果有機物隔壁層112b的厚度在2μm以上，能提高陰極12與驅動用薄膜電晶體123的絕緣，所以更好。
(2)等離子體處理步驟接著，在等離子體的處理步驟中，以使象素電極111的表面活性化、再對隔壁部112的表面進行表面處理為目的。特別是在活性化步驟中，是以象素電極111(ITO)上的洗淨、功函數的調整為主要目的而進行的。還進行象素電極111的表面的親液化處理、隔壁部112表面的防液化處理。
該等離子體處理步驟大致分為例如(2)-1預備加熱步驟；(2)-2活性化處理步驟(賦予親液性的親液化步驟)、(2)-3撥性化處理步驟；(2)-4冷卻步驟。須指出的是，並不局限於這樣的步驟，按照需要也可以削減、追加步驟。
首先，圖6表示了等離子體處理步驟中使用的等離子體處理裝置。
圖6所示的等離子體處理裝置50由預備加熱處理室51、第一等離子體處理室52、第二等離子體處理室53、冷卻處理室54、向這些處理室51-54輸送襯底2的輸送裝置55構成。各處理室51-54以輸送裝置55配置為放射狀。
首先，說明使用了這些裝置的簡要步驟。
預備加熱步驟在圖6所示的預備加熱處理室51中進行。而且，通過該處理室51，把從隔壁部的形成步驟輸送來的襯底2加熱到給定溫度。
在預備加熱步驟後，進行親液化步驟和防液化處理步驟。即把基體依次輸送到第一、第二等離子體處理室52、53，在各處理室52、53中，對隔壁部112進行等離子體處理，使其親液化。在該親液化處理後，進行防液化處理。在防液化處理後，把基體輸送到冷卻處理室，在冷卻處理室54中把基體冷卻到室溫。該冷卻步驟後，通過輸送裝置把襯底輸送到接著的步驟即空穴注入/輸送層的形成步驟。
下面，詳細說明各步驟。
(2)-1預備加熱步驟預備加熱步驟由預備加熱處理室51進行。在該處理室51中，把包含隔壁部112的襯底2加熱到給定的溫度。
襯底2的加熱方法採用了例如在處理室51內，在安放襯底2的臺上安裝加熱器，用該加熱器加熱該臺和襯底2的方法。須指出的是，也能採用此外的方法。
在預備加熱處理室51中，例如在70℃～80℃的範圍內加熱襯底2。該溫度是接著的步驟即等離子體處理的處理溫度，配合接著的步驟，事先加熱襯底2，目的在於消除襯底2的溫度偏移。
假設不附加預備加熱步驟，把襯底2從室溫加熱到所述的溫度，從步驟開始到步驟結束的等離子體處理步驟中，溫度一邊總是變動，一邊進行了處理。因此，溫度一邊變動一邊進行等離子體處理有可能與特性的不均勻有關。因此，為了把處理條件保持一定，取得均勻的特性，進行了預備加熱。
因此，在等離子體處理步驟中，當在把襯底2安放在第一、第二等離子體處理裝置52、53內的試料臺上的狀態下進行親液化步驟或防液化步驟時，最好使預備加熱溫度與連續進行親液化步驟或防液化步驟的試料臺56的溫度幾乎一致。
因此，通過對襯底2預備加熱，使第一、第二等離子體處理裝置52、53內的試料臺上升的溫度到達例如70～80℃，即使在連續對多個襯底進行等離子體處理時，也能使處理開始之後和處理結束之前的等離子體處理的條件幾乎一定。據此，使襯底2的表面處理條件相同，能使對於隔壁部112的組成物的浸溼性均勻，能製造具有一定的質量的顯示裝置。
另外，通過預先加熱襯底2，能縮短之後的等離子體處理的處理時間。
(2)-2活性化處理接著，在第一等離子體處理室52中，進行了活性化處理。在活性化處理中，包含了象素電極111的功函數的調整、控制、象素電極表面的洗淨、象素電極表面的親液化處理。
作為親液化處理，在大氣氣體介質中，進行以氧為處理氣體的等離子體處理(O2等離子體處理)。圖7是模式地表示第一等離子體處理的圖。如圖7所示，把包含隔壁部112的襯底2放置在內置了加熱器的試料臺56上，在襯底2的上側，間隔0.5～2mm左右的距離，與襯底2相對配置了等離子體放電電極57。一邊由試料臺56加熱襯底2，一邊以給定的輸送速度把試料臺56向圖示的箭頭方向輸送，其間對襯底2照射了等離子體狀態的氧。
O2等離子體處理例如在等離子體功率100～800kW，氧氣流量50～100ml/min，板輸送速度0.5～10mm/sec，基體溫度70～90℃的條件下進行。須指出的是，基於試料臺56的加熱主要是為了預備加熱的襯底2的保溫而進行的。
通過該O2等離子體處理，如圖8所示，對象素電極111的電極面111a、無機物隔壁層112a的第一層疊部112e以及有機物隔壁層112b的上部開口部112d的壁面和上表面112f進行了親液處理。通過該親液處理，在這些面中導入了羥基，取得了親液性。
在圖9中用單點劃線表示了親液處理的部分。
須指出的是，該O2等離子體處理不僅賦予親液性，而且也能完成上述的象素電極即ITO上的洗淨、功函數的調整。
(2)-3防液處理步驟接著，在第二等離子體處理室53中，作為防液化步驟，在大氣氣體介質中，進行以四氟甲烷為處理氣體的等離子體處理(CF4等離子體處理)。第二等離子體處理室53的內部結構與圖7所示的第一等離子體處理室52的內部結構相同。即一邊由試料臺加熱襯底2，一邊以給定的輸送速度輸送試料臺，其間對襯底2照射了等離子體狀態的四氟甲烷(四氟化碳)。
CF4等離子體處理例如在等離子體功率100～800kW，四氟甲烷流量50～100ml/min，板輸送速度0.5～10mm/sec，基體溫度70～90℃的條件下進行。須指出的是，基於加熱臺的加熱與第一等離子體處理室52的情形同樣，主要是為了預備加熱的襯底2的保溫而進行的。
須指出的是，處理氣體並不局限於四氟甲烷(四氟化碳)，能使用其它氟化碳類的氣體。
通過該CF4等離子體處理，如圖9所示，對上部開口部112d的壁面和有機物隔壁層的上表面112f進行了防液處理。通過該防液處理，在這些面中導入了氟基，取得了防液性。在圖9中，用雙點劃線表示了表現防液性的區域。通過照射等離子體狀態的碳氟化合物，能容易地使構成有機物隔壁層112b的丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等有機物具有防液性。另外，具有通過O2等離子體進行了前處理的具有容易氟化的特徵，在本實施例中特別有效。
須指出的是，象素電極111的電極面111a和無機物隔壁層112a的第一層疊部112e受到一些CF4等離子體處理的影響，但是對浸溼性影響不大。在圖9中用單點劃線表示了表現親液性的區域。
(2)-4冷卻步驟接著，作為冷卻步驟，使用冷卻處理室54，把為了等離子體處理而加熱的襯底2冷卻到管理溫度。這是用於冷卻到之後的步驟即噴墨步驟(液滴的噴出步驟)的管理溫度而進行的步驟。
該冷卻處理室54的結構為具有用於配置襯底2的板，該板中內置了使襯底2冷卻的水冷裝置。
另外，通過把等離子體處理後的襯底2冷卻到室溫或給定溫度(例如進行噴墨步驟的管理溫度)，在接著的空穴注入/輸送層的形成步驟中，襯底2的溫度變為一定，能以襯底2的溫度沒有變化的均勻溫度進行接著的步驟。因此，通過附加這樣的冷卻步驟，能均勻地形成由液滴噴出法等噴出方法噴出的材料。
例如，當使包含用於形成空穴注入/輸送層的材料的第一組成物噴出時，能以一定的容積連續噴出第一組成物，能均勻地形成空穴注入/輸送層。
在所述等離子體處理步驟中，通過對於材料不同的有機物隔壁層112b和無機物隔壁層112a，依次進行O2等離子體處理和CF4等離子體處理，能容易地在隔壁部112上設置親液性的區域和防液性的區域。
須指出的是，等離子體處理步驟中使用的等離子體處理裝置並不局限於圖6所示的裝置，也可以使用例如圖10所示的等離子體處理裝置60。
圖10所示的等離子體處理裝置60由預備加熱處理室61、第一等離子體處理室62、第二等離子體處理室63、冷卻處理室64、向這些處理室61-64輸送襯底2的輸送裝置65構成，各處理室61-64配置在輸送裝置65的輸送方向的兩側(圖中箭頭方向的兩側)。
在該等離子體處理裝置60中，與圖6所示的等離子體處理裝置50同樣，把從隔壁部的形成步驟輸送來的襯底2依次輸送到預備加熱處理室61、第一、第二等離子體處理室62、63和冷卻處理室64，在各處理室中進行與所述同樣的處理後，把襯底2輸送到接著的空穴注入/輸送層的形成步驟。
另外，所述等離子體裝置也可以不是大氣壓下的裝置，而使用真空下的等離子體裝置。
(3)空穴注入/輸送層的形成步驟接著，在空穴注入/輸送層的形成步驟中，在電極(在此是象素電極111)上形成空穴注入/輸送層。
在空穴注入/輸送層的形成步驟中，作為液滴的噴出，例如通過使用噴墨裝置向電極面111a上噴出包含空穴注入/輸送層形成材料的第一組成物(組成物)。然後進行乾燥處理和熱處理，在象素電極111上和無機物隔壁層112a上形成空穴注入/輸送層110a。須指出的是，在此把形成有空穴注入/輸送層110a的無機物隔壁層112a稱作第一層疊部112e。
包含該空穴注入/輸送層的形成步驟，在以下的步驟中最好為無水和氧的氣體介質。例如最好在氮氣體介質、氬氣體介質等惰性氣體介質中進行。
須指出的是，有時不在第一層疊部112e上形成空穴注入/輸送層110a。即有隻在象素電極111上形成有空穴注入/輸送層的形態。
基於噴墨的製造方法如以下所述。
如圖11所示，從形成在噴墨頭H1上的多個噴嘴噴出包含空穴注入/輸送層形成材料的第一組成物。在此，通過使噴墨頭掃描，在各象素中填充了組成物，但是通過使襯底2掃描也能填充組成物。通過使噴墨頭和襯底2相對地移動，也能填充組成物。須指出的是，此後的使用噴墨頭進行的步驟與所述點是同樣的。
基於噴墨頭的噴出如以下所述。即把形成在噴墨頭H1上的多個噴嘴H2與電極面111a相對配置，從噴嘴H2噴出第一組成物。在象素電極111的周圍形成有劃分下部開口部112c的隔壁112，使噴墨頭H1與位於該下部開口部112c內的象素電極面111a相對，一邊使該噴墨頭H1和襯底2相對移動，一邊從噴嘴H2向電極面111a上噴出控制了一滴的液量的第一組成物滴110c。
作為在此使用的第一組成物，能使用把聚乙烯二氧噻吩(PEDOT)等聚噻吩衍生物和聚苯乙烯磺酸(PSS)等的混合物溶解在極性溶劑中的組成物。作為極性溶劑能使用例如異丙醇(IPA)、正丁醇、γ-丁內酯、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1、3-二甲基-2-咪唑(DMI)及其衍生物、卡必醇醋酸鹽、丁基卡必醇醋酸鹽等的乙二醇醚類。
作為更具體的第一組成物的組成，例如PEDOT/PSS混合物(PEDOT/PSS＝1∶20)12.52重量％、PSS1.44重量％、IPA10重量％、NMP27.48重量％、DMI50重量％。須指出的是，第一組成物的粘度希望為2～20Ps，特別是4～15cPs左右。
通過使用所述第一組成物，能在噴出噴嘴H2不產生堵塞，穩定地噴出。
須指出的是，空穴注入/輸送層形成材料對於紅(R)、綠(G)、藍(B)的各發光層110b1～110b3可以使用相同的材料，也可以按各發光層改變。
如圖11所示，噴出的第一組成物滴110c在進行了親液處理的電極面111a和第一層疊部112e上擴展，填充到下部、上部開口部112c、112d內。假設第一組成物滴110c從給定位置偏移，被噴到上表面112f上，上表面112f也不會被第一組成物滴110c浸漬，被排拒的第一組成物滴110c滑入下部、上部開口部112c、112d內。
噴向電極面111a的第一組成物量由下部、上部開口部112c、112d的大小、要形成的空穴注入/輸送層的厚度、第一組成物中的空穴注入/輸送層的形成材料的濃度等決定。
另外，可以不只是一次，而分多次向同一電極面111a噴出第一組成物滴110c。此時，各次的第一組成物的量可以相同，可以每次改變第一組成物。也可以不向電極面111a的同一地方噴出，而在各次中向電極面111a的不同地方噴出。
關於噴墨頭的結構，能使用圖14那樣的頭H。關於襯底和噴墨頭的配置，最好象圖15那樣配置。圖14中，符號H7是支撐所述的噴墨頭H1的支撐襯底，在該支撐襯底H7上設置有多個噴墨頭H1。
在噴墨頭H1的墨水噴出面(與襯底的對置面)上，沿著頭的長度方向形成列狀，並且在頭的寬度方向隔開間隔，以兩列設置有多個噴出噴嘴(例如，一列180個噴嘴，合計360個噴嘴)。另外，在使噴嘴向著襯底一側，並且對於X軸(或Y軸)以給定角度傾斜的狀態下，在沿著近X軸方向排為列狀，並且在Y軸方向隔開給定間隔配置為兩列的狀態下，在俯視圖中為近似矩形的支撐板20上定位、支撐了多個(圖14中一列為6個，合計12個)該噴墨頭H1。
另外，圖15所示的噴墨裝置中，符號1115是放置襯底2的臺，符號1116是在圖中的x軸方向(主掃描方向)引導臺1115的導軌。另外，頭H通過支撐構件1111，通過導軌1113，能在圖中y軸方向(副掃描方向)移動，頭H還能在圖中的θ軸方向旋轉，噴墨頭H1對於主掃描方向能傾斜給定的角度。這樣，通過對於掃描方向傾斜配置噴墨頭，能使噴嘴間距與象素間距對應。另外，通過調整傾斜角度，能對對應於任意的象素間距。
圖15所示的襯底2為在母板上配置了多片的結構。即一片的區域相當於一個顯示裝置。在此，形成有三個顯示區域2a，但是並不局限於此。例如，當對於襯底2上的左側的顯示區域2a塗敷組成物時，通過導軌1113使頭H向圖中的左側移動，並且通過導軌1116使襯底2向圖中上側移動，一邊使襯底2掃描，一邊進行塗敷。接著，使頭H向圖中的右側移動，對於基體的中央的顯示區域2a塗敷組成物。對於在右端的顯示區域2a也與所述同樣。
須指出的是，圖14所示的頭H和圖15所示的噴墨裝置不僅在空穴注入/輸送層的形成步驟中，還能用於發光層的形成步驟。
接著，進行圖12所示的乾燥步驟。通過進行乾燥步驟，對噴出後的第一組成物進行乾燥處理，使第一組成物中包含的極性溶劑蒸發，形成空穴注入/輸送層110a。
如果進行乾燥處理，則第一組成物滴110c中包含的極性溶劑的蒸發主要在靠近無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b的地方發生，伴隨著極性溶劑的蒸發，空穴注入/輸送層形成材料被濃縮、析出。
據此，如圖13所示，在第一層疊部112e上形成有由空穴注入/輸送層形成材料構成的周邊部110a2。該周邊部110a2緊貼在上部開口部112d的壁面(有機物隔壁層112b)上，其厚度在靠近電極面111a一側薄，在遠離電極面111a一側即靠近有機物隔壁層112b一側變厚。
另外，與此同時，通過乾燥處理在電極面111a上也發生極性溶劑的蒸發，據此，在電極面111a上形成有由空穴注入/輸送層形成材料構成的平坦部110a1。在電極面111a上極性溶劑的蒸發速度幾乎均勻，所以空穴注入/輸送層的形成材料在電極面111a上幾乎均勻地濃縮，據此，形成有厚度均勻的平坦部110a。
這樣，就形成有由周邊部110a2和平坦部110a1構成的空穴注入/輸送層110a。
須指出的是，也可以在周邊部110a2上不形成，而只在電極面111a上形成空穴注入/輸送層。
所述的乾燥處理例如在氮氣體介質中，在室溫以例如133.3Pa(1Torr)左右的壓力進行。如果壓力過低，則第一組成物滴110c崩沸，所以不好。另外，如果使溫度為室溫以上，則極性溶劑的蒸發速度快，無法形成平坦的膜。
乾燥處理後，通過在氮中，希望在真空中，在200℃進行加熱10分鐘左右的熱處理，除掉殘存在空穴注入/輸送層110a內的極性溶劑和水。
在所述空穴注入/輸送層的形成步驟中，一方面噴出的第一組成物滴110c充滿了下部、上部開口部112c、112d內，而另一方面第一組成物被進行了防液處理的有機物隔壁層112b排拒，流入下部、上部開口部112c、112d內。據此，一定能把噴出的第一組成物滴110c填充到下部、上部開口部112c、112d內，能在電極面111a上形成空穴注入/輸送層110a。
(4)發光層的形成步驟接著，發光層的形成步驟由表面改質步驟、發光層的形成材料的噴出步驟以及乾燥步驟構成。
首先，為了空穴注入/輸送層110a的表面改質，進行表面改質步驟。下面，詳細說明該步驟。與所述的空穴注入/輸送層的形成步驟同樣，通過噴墨法，向空穴注入/輸送層110a上噴出第二組成物。然後對噴出的第二組成物進行乾燥處理(以及熱處理)，在空穴注入/輸送層110a上形成發光層110b。
在發光層的形成步驟中，為了防止空穴注入/輸送層110a的再溶解，作為發光層的形成時使用的第二組成物的溶劑，使用對於空穴注入/輸送層110a不溶的非極性溶劑。
但是，因為空穴注入/輸送層110a對於非極性溶劑的親和性低，所以即使向空穴注入/輸送層110a上噴出包含非極性溶劑的第二組成物，也擔心無法使空穴注入/輸送層110a和發光層110b緊貼，或無法均勻地塗敷發光層110b。
因此，為了提高空穴注入/輸送層110a對於非極性溶劑和發光層形成材料的表面親和性，最好在形成發光層之前，進行表面改質步驟。
下面，說明表面改質步驟。
表面改質步驟是通過噴墨法(液滴噴出法)、旋轉鍍膜法或浸漬法，在空穴注入/輸送層110a上塗敷與發光層的形成時使用的第一組成物的非極性溶劑為相同溶劑或與它類似的溶劑即表面改質材料後，進行乾燥而進行的。
如圖13所示，基於噴墨法的塗敷是在噴墨頭H3中填充表面改質材料，從形成在噴墨頭H3上的噴出噴嘴H4噴出表面改質材料。與所述的空穴注入/輸送層的形成步驟同樣，通過使噴出噴嘴H4與襯底2(即形成有空穴注入/輸送層110a的襯底2)相對，一邊使噴墨頭H3與襯底2相對移動，一邊從噴出噴嘴H4向空穴注入/輸送層110a上噴出表面改質材料110d而進行。
另外，基於旋轉鍍膜法的塗敷是把襯底2放置在例如旋轉臺上，從上方向襯底2上滴下表面改質材料後，使襯底2旋轉，使表面改質材料擴展到襯底2上的空穴注入/輸送層110a的全體而進行的。須指出的是，雖然表面改質材料也暫時擴展到進行了防液處理的上表面112f上，但是由於旋轉產生的離心力而飛出，只塗敷在空穴注入/輸送層110a上。
基於浸漬的塗敷是使襯底2浸漬在例如表面改質材料中後，把其撈起，使表面改質材料在空穴注入/輸送層110a的整體上擴散而進行的。此時，表面改質材料也暫時擴散到進行了防液化處理的上表面112f上，但是撈起時，表面改質材料被上表面112f排拒，從而只塗敷在空穴注入/輸送層110a上。
作為在此使用的表面改質材料，作為與第二組成物的非極性溶劑相同的材料，例如有環己基苯、二氫苯並呋喃、三甲基苯、四甲基苯，作為與第二組成物的非極性溶劑類似的材料，例如有甲苯、二甲苯等。
特別是當通過噴墨法塗敷時，最好使用二氫苯並呋喃、三甲基苯、四甲基苯、環己基苯或它們的混合物，特別是使用與第二組成物相同的溶劑混合物，當基於旋轉塗敷法或浸漬法時，最好使用甲苯、二甲苯等。
接著，如圖16所示，使塗敷區域乾燥。乾燥步驟在用噴墨法塗敷時，是把襯底2放置在熱板上，用例如200℃以下的溫度加熱，使其乾燥蒸發。當為旋轉塗敷法或浸漬法時，最好向襯底2噴射氮，或使襯底旋轉，使襯底2的表面產生氣流，進行乾燥。
須指出的是，可以在空穴注入/輸送層的形成步驟的乾燥處理後進行表面改質材料的塗敷，在使塗敷後的表面改質材料乾燥後，進行空穴注入/輸送層的形成步驟的熱處理。
通過進行這樣的表面改質步驟，空穴注入/輸送層110a的表面變得與非極性溶劑容易親合，在此後的步驟中，能在空穴注入/輸送層110a上均勻地塗敷包含發光層的形成材料的第二組成物。
須指出的是，可以在所述表面改質材料中溶解作為空穴輸送性材料而一般使用的所述化合物2等，作為組成物，通過由噴墨法把該組成物塗敷到空穴注入/輸送層上，使其乾燥，在空穴注入/輸送層上形成極薄的空穴輸送層。
空穴注入/輸送層的大部分溶入以後的步驟中圖負的發光層110b中，但是一部分以薄膜狀殘存在空穴注入/輸送層110a和發光層110b之間，據此，空穴注入/輸送層110a和發光層110b之間的能壘降低，空穴的移動變得容易，能提高發光效率。
接著，作為發光層形成步驟，通過噴墨法(液滴噴出法)，向空穴注入/輸送層110a上噴出包含發光層的形成材料的第二組成物後，進行乾燥處理，在空穴注入/輸送層110a上形成發光層110b。
圖17表示了基於噴墨的噴出方法。如圖17所示，使噴墨頭H5和襯底2相對移動，從形成在噴墨頭上的噴出噴嘴H6噴出了包含各色(例如在此為藍色(B))發光層的形成材料的第二組成物。
在噴出時，使噴出噴嘴與位於下部、上部開口部112c、112d內的空穴注入/輸送層110a相對，一邊使噴墨頭H5與襯底2相對移動，一邊噴出了第二組成物。從噴出噴嘴H6噴出的液量控制了每滴的液量。從噴出噴嘴噴出了控制了液量的液體(第二組成物滴110e)，向空穴注入/輸送層110a上噴出該第二組成物滴110e。
作為發光層的形成材料能使用化合物1～化合物5所示的聚芴類高分子衍生物、(聚)對苯撐乙烯撐衍生物、聚苯撐衍生物、聚乙烯咔唑、聚噻吩衍生物、二萘嵌苯類色素、香豆素類色素、若丹明類色素，或在所述高分子材料中摻雜有機EL材料。例如能通過摻雜紅熒烯、二萘嵌苯、9、10-聯苯蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、香豆素6、喹吖酮等後使用。
作為非極性溶劑，最好為對於空穴注入/輸送層110a不溶的材料，例如能使用環己基苯、二氫苯並呋喃、三甲基苯、四甲基苯等。
通過在發光層110b的第二組成物中使用這樣的非極性溶劑，能在空穴注入/輸送層110a不再溶解的前提下塗敷第二組成物。
如圖17所示，噴出的第二組成物110e在空穴注入/輸送層110a上擴散，充滿下部、上部開口部112c、112d內。而在被防液處理的上表面112f上，即使第二組成物滴110e從給定的噴出位置偏離，被噴出到上表面112f上，上表面112f也不會被第二組成物滴110e浸漬，第二組成物滴110e進入下部、上部開口部112c、112d內。
向空穴注入/輸送層110a上噴出第二組成物的量由下部、上部開口部112c、112d的尺寸、要形成的發光層110b的厚度、第二組成物中的發光層的形成材料的濃度等決定。
另外，可以不只是一次，而分多次向同一空穴注入/輸送層110a噴出第二組成物滴110e。此時，各次的第二組成物的量可以相同，也可以每次改變第二組成物的液量。也可以不向空穴注入/輸送層110a的同一地方噴出，而在各次中向空穴注入/輸送層110a的不同地方噴出第二組成物。
接著，在結束了向給定位置噴出第二組成物後，通過對噴出後的第二組成物滴110e進行乾燥處理，就形成有發光層110b3。即通過乾燥，包含在第二組成物中的非極性溶劑蒸發，就形成有圖18所示的藍色(B)發光層110b3。須指出的是，在圖18中，只表示了一個發出藍光的發光層，但是從圖1和其他圖可知，本來發光元件形成有矩陣形狀，形成有圖中未顯示的多個發光層(與藍色對應)。
接著，如圖19所示，使用與所述藍色(B)發光層110b3時同樣的步驟，形成紅色(R)發光層110b1，最後形成綠色(G)發光層110b2。
須指出的是，發光層110b的形成步驟並不局限於所述的順序，可以採用任意的順序。例如，能按照發光層形成材料決定形成的順序。
另外，發光層的第二組成物的乾燥條件為當藍色110b3時，在氮氣體介質中，在室溫以例如133.3Pa(1Torr)左右的壓力進行5～10分鐘。如果壓力過低，則第二組成物崩沸，所以不好。另外，如果溫度為室溫以上，則非極性溶劑的蒸發速度快，發光層的形成材料大量附著在上部開口部112d的壁面上，所以不好。
另外，綠色發光層110b2和紅色發光層b1時，因為發光層的形成材料的成分數多，所以最好迅速使其乾燥，例如在40℃，進行5～10分鐘的氮氣噴射。
作為其他的乾燥方法，例如有遠紅外線照射法、高溫氮氣噴射法等。
這樣在象素電極111上就形成有空穴注入/輸送層110a和發光層110b。
(5)對置電極(陰極)的形成步驟接著，在對置電極的形成步驟中，如圖20所示，在發光層110b和有機物隔壁層112b的整個面上形成陰極12(對置電極)。須指出的是，陰極12可以層疊多種材料。例如在靠近發光層一側，形成功函數小的材料，例如能使用Ca、Ba等，另外，根據材料，有時在下層形成薄的LiF等。另外，在上部一側(密封一側)能使用比下部一側功函數高的材料，例如能使用A1。
希望通過例如蒸鍍法、濺射法、CVD法等形成這些陰極12，特別是用蒸鍍法形成時能防止熱對發光層110b的損傷。
另外，可以只在發光層110b上形成氟化鋰，能與給定的色對應形成。例如只在藍色(B)發光層110b3上形成。此時，在其他的紅色(R)發光層和綠色(G)發光層110b1、110b2 連接由鈣構成的上部陰極層12b。
另外，最好在陰極12的上部，使用通過蒸鍍法、濺射法、CVD法等形成的Al膜、Ag膜等。另外，該厚度希望在100～1000nm的範圍，特別是200～500nm左右。
另外，在陰極12上也可以設置用於防止氧化的SiO2、SiN等的保護層。
(6)密封步驟最後，密封步驟是通過密封樹脂3a密封形成有發光元件的襯底2和密封襯底3b的步驟。例如，在襯底2的整個面上塗敷由熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂構成的密封樹脂3a，在密封樹脂3a上層疊密封用襯底3b。通過該步驟，在襯底2上形成密封部3。
密封步驟最好在氮、氬、氦等惰性氣體中進行。如果在大氣中進行，當在陰極12上產生了針孔等缺陷時，水或氧有可能從該缺陷部分侵入陰極12，陰極12被氧化，所以不好。
通過在圖5所示的襯底5的布線5a上連接陰極12，並且在驅動IC6上連接電路元件部14的布線，就得到了本實施例的顯示裝置1。
下面，參照

本發明的實施例2。
圖21是表示實施例2的顯示裝置的主要部分的剖視圖。
如圖21所示，本實施例的顯示裝置的結構為在襯底2上依次層疊了形成有TFT等電路的電路元件部14、形成有發光層的發光元件部211、陰極12。
在本實施例的顯示裝置中，與實施例1時同樣，從功能層110向襯底2一側發出的光透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)，並且從功能層110向襯底2的相反一側發出的光由陰極12反射，透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)。
本實施例的顯示裝置與實施例1的顯示裝置的區別在於在襯底的電路元件部14和隔壁部112之間配置了遮光層。
因此，在以後的說明中，對於圖21所示的構成要素中與圖3所示的實施例1的顯示裝置的構成要素相同的構成要素採用了相同的符號，省略了它的說明。
即圖21中雖然表示了電路元件部14、象素電極111、隔壁部112(無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b)、陰極12的各構成要素，但是，它們與實施例1中說明的構成要素相同，省略了說明。
圖21所示的發光元件部211以分別層疊在多個象素電極111上的功能層110、設置在各象素電極111和各功能層110之間並且劃分各功能層110的隔壁部112、遮光層213為主體構成。
遮光層213配置在電路元件部14的第二層間絕緣膜144b以及象素電極111和無機物隔壁層112a之間。
該遮光層213是把炭黑等黑色顏料混合在丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂等中而得到的黑色樹脂層的單層結構。
另外，在遮光層213上，在與功能層110對應的位置設置有遮光開口部213c。這樣，遮光層213就配置在功能層110彼此之間，位於功能層110的非形成區域。
該遮光層213與實施例1的遮光層113同樣，遮擋從發光層110b發出並由陰極12發射的光，防止來自象素區域A以外的反射光的出射，提高了顯示裝置的視覺識別性。另外，該遮光層213抑制基於陰極12的外部光的反射，提高了顯示裝置的視覺識別性。
通過設置相關的遮光層213，能在非形成區域遮擋來自功能層110的非形成區域的外部的入射光以及來自功能層110的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
通過在功能層110的非形成區域遮擋來自功能層110的光，能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此導致的顏色汙點，能提高顯示裝置的對比度。
須指出的是，遮光層213並不局限於黑色樹脂層的單層結構，也可以是在第一層間絕緣膜144b上依次層疊了金屬鉻膜和氧化鉻(Cr2O5)膜的層疊結構。此時，金屬鉻膜的厚度為100nm左右，氧化鉻膜的厚度為50nm左右。
須指出的是，本實施例的顯示裝置的製造方法與實施例1的顯示裝置的製造方法的幾乎同樣，不同之處在於在第二層間絕緣膜144b和象素電極111上依次層疊遮光層213和無機物隔壁層112a，並且通過蝕刻等，設置下部開口部112c和遮光開口部213a，再在無機物隔壁層112a上層疊有機物隔壁層112b。因此，除了所述的不同點，用與實施例1的顯示裝置相同的步驟製造了本實施例的顯示裝置。
下面，參照

本發明的實施例3。
圖22是表示實施例3的顯示裝置的主要部分的剖視圖。
如圖22所示，本實施例的顯示裝置的結構為在襯底2上依次層疊了形成有TFT等電路的電路元件部14、形成有發光層的發光元件部311、陰極12。
在本實施例的顯示裝置中，與實施例1、2時同樣，從功能層110向襯底2一側發出的光透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)，並且從功能層110向襯底2的相反一側發出的光由陰極12反射，透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)。
本實施例的顯示裝置與實施例1的顯示裝置的區別在於通過用黑色樹脂形成有機物隔壁層，有機物隔壁層變為遮光層。
因此，在以後的說明中，對於圖22所示的構成要素中與圖3所示的實施例1的顯示裝置的構成要素相同的構成要素採用了相同的符號，省略了它的說明。
即圖22中雖然表示了電路元件部14、象素電極111、無機物隔壁層112a、功能層110(空穴注入/輸送層110a和發光層110b)、陰極12的各構成要素，但是，它們與實施例1中說明的構成要素相同，省略了說明。
圖22所示的發光元件部311以分別層疊在多個象素電極111…上的功能層110、設置在各象素電極111和各功能層110之間並且劃分各功能層110的隔壁部312為主體構成。
如圖22所示，隔壁部312由位於襯底2一側無機物隔壁層312a和位於遠離襯底2一側的有機物隔壁層312b層疊構成。
無機物隔壁層、有機物隔壁層312a、312b形成在象素電極111的周邊部上。在平面上，成為象素電極111的周圍和無機物隔壁層312a平面重疊配置的結構。另外，有機物隔壁層312b也同樣，配置為與象素電極111的一部分在平面上重疊。另外，無機物隔壁層312a形成在比有機物隔壁層312b更靠象素電極111的中央一側。這樣，通過在象素電極111的內側形成無機物隔壁層312a的各第一層疊部112e，設置有與象素電極111的形成位置對應的下部開口部112c。
另外，在有機物隔壁層312b上設置有上部開口部312d。如圖22所示，所述上部開口部312d比下部開口部112c寬，比象素電極111窄。
另外，在隔壁部312上，連通下部開口部112c和上部開口部312d，設置有貫通無機物隔壁層112c和有機物隔壁層312d的開口部3112g。
有機物隔壁層312b兼作遮光層，由把炭黑等黑色顏料混合在丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等通常的抗蝕劑中而得到的黑色樹脂形成。該有機物隔壁層312b的厚度希望為0.1～3.5μm的範圍，特別是2μm左右。如果厚度不足0.1μm，則有機物隔壁層312b比後述的空穴注入/輸送層和發光層的合計厚度薄，發光層有可能從上部開口部112d溢出，並且由於兼作遮光層的有機物隔壁層312b變薄，遮光性下降，所以不好。另外，如果厚度超過3.5μm，則基於上部開口部312d的階梯變大，因為無法確保在有機物隔壁層312b上形成的陰極12和反射層13的臺階敷層，所以不好。另外，如果有機物隔壁層312b的厚度在2μm以上，能提高與驅動用薄膜電晶體123的絕緣，所以更好。
另外，有機物隔壁層312b的上部開口部312d的壁面和上表面312f是表現防液性的區域，通過以四氟甲烷為反應氣體的等離子提出例，導入了氟等防液基。
須指出的是，本實施例的有機物隔壁層312b除了材料由黑色樹脂構成之外，與實施例1的有機物隔壁層112b同樣，該有機物隔壁層312b和發光元件110以及陰極12的位置關係與實施例同樣。
根據所述顯示裝置，因為有機物隔壁層312b兼作遮光層，所以通過該有機物隔壁層312b，能遮擋功能層110的非形成區域的來自外部的入射光和來自功能層110的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
另外，因為有機物隔壁層312b兼作遮光層，所以沒必要另外設置遮光層，從而能簡化顯示裝置的結構。
須指出的是，本實施例的顯示裝置的製造方法與實施例1的顯示裝置的製造方法幾乎同樣，不同點為用黑色樹脂形成有機物隔壁層312b和省略了在有機物隔壁層和無機物隔壁層之間形成的遮光層。因此，除了所述的不同點，用與實施例1的顯示裝置相同的步驟製造了本實施例的顯示裝置。
下面，參照

本發明的實施例4。
圖23是表示實施例4的顯示裝置的主要部分的剖視圖。
如圖23所示，本實施例的顯示裝置的結構為在襯底2上依次層疊了形成有TFT等電路的電路元件部414、形成有發光層的發光元件部411、陰極12。
在本實施例的顯示裝置中，與實施例1同樣，從發光元件部411的功能層110向襯底2一側發出的光透過電路元件部414和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)，並且從功能層110向襯底2的相反一側發出的光由陰極12反射，透過電路元件部14和襯底2，射出到襯底2的下側(觀測者一側)。
本實施例的顯示裝置與實施例1的顯示裝置的區別在於在電路元件部314內配置了遮光層。
因此，在以後的說明中，對於圖23所示的構成要素中與圖3所示的實施例1的顯示裝置的構成要素相同的構成要素採用了相同的符號，省略了它的說明。
即圖23中雖然表示了象素電極111、隔壁部112(無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b)、功能層110(空穴注入/輸送層110a和發光層110b)、陰極12的各構成要素，但是，它們與實施例1中說明的構成要素相同，省略了說明。
圖23所示的發光元件部411以分別層疊在多個象素電極111…上的功能層110、設置在各象素電極111和各功能層110之間並且劃分各功能層110的隔壁部112為主體構成。本實施例的發光元件部411從實施例1的發光元件部11除了遮光層113以外，與實施例1的發光元件部11幾乎相同。
在電路元件部414上，在襯底2上形成有由氧化矽構成的底層保護膜2c，在該底層保護膜2c上形成有由多晶矽構成的島狀的半導體膜141。須指出的是，通過在半導體膜141中打入高濃度P形成有源區域141a和漏區域141b。須指出的是，未導入P的部分變為溝道區域141c。
在電路元件部414上形成有覆蓋底層保護膜2c和半導體膜141的透明柵絕緣膜142，在柵絕緣膜142上形成有由Al、Mo、Ta、Ti、W等構成的柵電極143(掃描線101)，在柵電極143和柵絕緣膜142上形成有透明的第一層間絕緣膜144a和第二層間絕緣膜144b。柵電極143設置在與半導體膜141的溝道區域141c對應的位置。另外，在柵絕緣膜142和柵絕緣膜143之間形成有遮光層413。
另外，貫通第一、第二層間絕緣膜144a、144b，形成有分別連接了半導體膜141的源、漏區域141a、141b的接觸孔145、146。
然後，在第二層間絕緣膜144b上，把由ITO等構成的透明的象素電極111形成給定的形狀，而接觸孔145連接在該象素電極111上。
遮光層413是把炭黑等黑色顏料混合在丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂等中而得到的黑色樹脂層的單層結構。
在遮光層413上，在與功能層110對應的位置設置有遮光開口部413c。這樣，遮光層413就配置在功能層110彼此之間，位於功能層110的非形成區域。
該遮光層413與實施例1的遮光層113同樣，遮擋從發光層110b發出並由陰極12發射的光，防止來自象素區域A以外的反射光的出射，提高了顯示裝置的視覺識別性。另外，該遮光層213抑制基於陰極12的外部光的反射，提高了顯示裝置的視覺識別性。
通過在電路元件部414內設置相關的遮光層413，能在非形成區域遮擋來發光元件110的非形成區域的外部的入射光以及來自發光元件110的出射光，能提高顯示裝置的對比度，能提高視覺識別性。
通過在功能層110的非形成區域遮擋來自功能層110的光，能防止在以往的顯示裝置中產生的著色光彼此導致的顏色汙點，能提高顯示裝置的對比度，提高視覺識別性。
須指出的是，本實施例的顯示裝置的製造方法與實施例1的顯示裝置的製造方法的幾乎同樣，不同之處在於在形成電路元件部414時，形成柵絕緣膜142和第一層間絕緣膜143a之間形成遮光層413；在有機物隔壁層和無機物隔壁層之間形成有遮光層。因此，除了所述的不同點，用與實施例1的顯示裝置相同的步驟製造了本實施例的顯示裝置。
下面，參照

本發明的實施例5。
圖24是表示實施例5的顯示裝置的主要部分的剖視圖。
如圖24所示，本實施例的顯示裝置具有在由金屬構成的襯底502上依次層疊發光元件部11、陰極512、保護層513而構成的顯示元件部510。另外，在發光元件部11和襯底502之間設置有電路元件部14。
在本實施例的矩陣型顯示元件510中，從功能層110向襯底502一側發出的光由金屬制的襯底502反射，再透過陰極512和保護層513，射出到襯底502的上側(觀察者一側)，從功能層110向襯底502的相反一側發出的光原封不動地透過陰極512和保護層513，射出到襯底502的上側(觀察者一側)。這樣，在本實施例的顯示裝置中，光射出到襯底502的上側(觀察者一側)，光的出射光方向變為與實施例1～4的矩陣型顯示元件的相反方向。
本實施例的顯示裝置與實施例1的顯示裝置的不同之處在於形成保護層513代替了反射層；形成的陰極512很薄。
因此，在以後的說明中，對於圖24所示的構成要素中與圖3所示的實施例1的顯示裝置的構成要素相同的構成要素採用了相同的符號，省略了它的說明。
即圖24中雖然表示了電路元件部14、象素電極111、隔壁部112(無機物隔壁層112a和有機物隔壁層112b)、遮光層113(第一遮光膜113a和第二遮光膜113b)的各構成要素，但是，它們與實施例1中說明的構成要素相同，省略了說明。
圖24所示的顯示元件部510在由金屬構成的襯底502上依次層疊了發光元件部11、陰極512、保護層513。
襯底2是由例如Al等構成的金屬襯底，能發射從功能層110發出的光，射出到襯底502的上方一側。
另外，陰極512形成在發光元件部11的整個面上，與象素電極111成對，實現了使電流注入功能層110的功能。該陰極512例如由鈣層和鋁層層疊構成。此時，靠近發光層一側的陰極希望設置為功函數低的，特別是在本形態中，直接與發光層110b相連，完成把電子注入發光層110b的功能。另外，通過發光層的材料能使氟化鋰高效地發光，所以有時也在發光層110和陰極12之間形成LiF。
須指出的是，在紅色和綠色發光層110b1、110b2中並不局限於氟化鋰，也可以使用其它材料。因此，只有藍色(B)發光層110b3中，形成由氟化鋰構成的層，在其他的紅色和綠色發光層110b1、110b2上，可以層疊氟化鋰以外的材料。另外，在紅色和綠色發光層110b1、110b2上可以不形成氟化鋰，而只形成鈣。
另外，本實施例的陰極512形成得比實施例1～4的陰極12薄，能透射從功能層110發出的光。
保護層513形成在陰極512上，防止水或氧對陰極512和發光元件部的侵入，防止陰極512或形成在發光元件部11內的發光層110b的氧化。
該保護層513最好由例如Ag膜構成。
本實施例的保護層513形成得比較薄，能透射從發光元件110發出的光。
根據所述的顯示裝置，因為從功能層110發出的光透過陰極512和保護層513出射，所以與光透射襯底和電路元件部時相比，能減少光量的損失，能實現顯示裝置的高亮度化。
下面，參照

本發明的實施例6。須指出的是，在以下的說明中，對於與所述實施例3相同的部位採用了相同的符號，省略了它的部分說明。
圖25是表示實施例6的顯示裝置的剖視圖。
如圖25所示，本實施例的顯示裝置包含襯底2』、具有配置為矩陣狀的發光元件並且形成在襯底2』上的發光元件部311、形成在發光元件部311上的陰極12』。由發光元件部311和陰極12』構成了顯示元件310』。
本實施例的顯示裝置具有把密封部3』一側作為顯示面而構成的所謂頂發射型的結構，作為襯底2』，能使用透明襯底(或半透明襯底)和不透明襯底中的任意一種。作為透明或半透明襯底，例如有玻璃、石英、樹脂(塑料、塑料薄膜)等，特別適合用廉價的鈉玻璃。作為不透明襯底，除了對例如氧化鋁等的陶瓷和不鏽鋼等金屬薄板進行了表面氧化等絕緣處理的材料，還有熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等。另外，襯底2』劃分為位於中央的顯示區域2a、位於襯底2』的周邊並且包圍顯示區域2a的非顯示區域2b。
顯示區域2a是由配置為矩陣狀的發光元件形成的區域，非顯示區域2b形成在顯示區域的外側。而且，在非顯示區域2b上形成有與顯示區域2a相鄰的假顯示區域2d。
另外，在發光元件部311和襯底2』之間設置有電路元件部14，在該電路元件部14上，與所述實施例1同樣，設置有所述的掃描線、信號線、保持電容、開關用薄膜電晶體、驅動用薄膜電晶體123等。
另外，陰極12』中，其一端從發光元件部311上連接了形成在襯底2』上的陰極用布線12a，它的布線的一端部連接了軟性襯底(圖中未顯示)上的布線。另外，布線連接了設置在軟性襯底上的圖中未顯示的驅動IC(驅動電路)。
另外，在電路元件部14的非顯示區域2b上配置了所述實施例1中說明了的電源線103(103R、103G、103B)。
另外，在顯示區域2a的兩側，配置了所述掃描一側驅動電路105、105。該掃描一側驅動電路105、105設置在假區域2d的下側的電路元件部14內。在電路元件部14內，設置有連接在驅動電路105、105上的驅動電路用控制信號布線105a和驅動電路用電源布線105b。
另外，在發光元件部311上設置有密封部3』。該密封部3』由塗敷在襯底2』上的密封樹脂603和密封蓋604』構成。密封樹脂603由熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂等構成，特別是最好由熱硬化樹脂的一種即環氧樹脂構成。
該密封樹脂603在襯底2』的周圍塗敷為環狀，例如是由微分配器等塗敷的。該密封樹脂603接合襯底2』和密封蓋604』，防止從襯底2』和密封蓋604』之間水或氧向密封蓋604』的內部侵入，防止陰極12』或發光元件部311內形成的圖中未顯示的發光層的氧化。
密封蓋604』由玻璃或樹脂等透光性材料構成，通過密封樹脂603接合了襯底2』，在其內側設置有容納顯示元件310』的凹部604a。須指出的是，按照需要，也可以設置吸收水、氧等的吸氣劑。例如通過在凹部604內的非顯示區域2b上設置該吸氣劑，能對顯示不造成影響。
圖26表示了放大了顯示裝置的顯示區域的剖面結構的圖。在圖26中顯示了三個象素區域A。該顯示裝置的結構為在襯底2』上依次層疊形成有TFT等電路的電路元件部14、形成有功能層110的發光元件部311和陰極12。
在該顯示裝置中，從功能層110向密封部3』一側發出的光射出到蓋604』的上側(觀測者一側)，並且從功能層110向襯底2』發出的光由象素電極111』反射，射出到密封部3』一側(觀測者一側)。因此，對陰極12』使用了例如ITO、Pt、Ir、Ni或Pd等透明的材料。希望膜厚為75nm左右，更希望比該膜厚更薄。另外，對於象素電極111』最好使用例如Al和Ag等高反射率的金屬材料，據此，能使向襯底2』一側發出的光高效地射出到密封部3』一側。
發光元件部311由分別層疊在多個象素電極111』…上的功能層110、設置在各象素電極111』和功能層110之間並且劃分各功能層110的隔壁部312為主體構成的。陰極12』配置在功能層110上。由象素電極111』、功能層110以及陰極12』構成了發光元件。在此，象素電極111』例如由ITO形成，形成有在俯視圖中為矩形的圖案。該象素電極111』的厚度希望為50～200nm的範圍，特別是150nm左右。在該各象素電極111』…之間設置有隔壁部312。
隔壁部312由位於襯底2一側的無機物隔壁層312a(第一隔壁層)和遠離襯底2的有機物隔壁層312b(第二隔壁層)層疊構成。
形成有無機物、有機物隔壁層312a、312b，使其在象素電極111』的周邊部上。在平面上，成為象素電極111』的周圍和無機物隔壁層312a平面重疊配置的結構。另外，有機物隔壁層312b也同樣，配置為與象素電極111』的一部分在平面上重疊。另外，無機物隔壁層312a形成在比有機物隔壁層312b更靠象素電極111』的中央一側。這樣，通過在象素電極111的內側形成無機物隔壁層312a的第一層疊部112e，設置有與象素電極111的形成位置對應的下部開口部112c。
另外，在有機物隔壁層312b上形成有上部開口部312d。該上部開口部312d設置為與象素電極111的形成位置以及下部開口部112c對應。上部開口部312d比下部開口部112c寬，比象素電極111』窄。另外，有時上部開口部312d的上部的位置與象素電極111』的端部幾乎為相同位置。此時，如圖26所示，有機物隔壁層312b的上部開口部312d的剖面變為傾斜的形狀。
而且，在隔壁部312上，通過連通下部開口部112c和上部開口部312d，形成有貫通無機物隔壁層312a和有機物隔壁層312b的開口部312g。
有機物隔壁層312b兼作遮光層，由把炭黑等黑色顏料混合在丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂等通常的抗蝕劑中而得到的黑色樹脂形成。該有機物隔壁層312b的厚度希望為0.1～3.5μm的範圍，特別是2μm左右。如果厚度不足0.1μm，則有機物隔壁層312b比後述的空穴注入/輸送層和發光層的合計厚度薄，發光層有可能從上部開口部112d溢出，並且由於兼作遮光層的有機物隔壁層312b變薄，遮光性下降，所以不好。另外，如果厚度超過3.5μm，則基於上部開口部312d的階梯變大，因為無法確保在有機物隔壁層312b上形成的陰極12和反射層13的臺階敷層，所以不好。另外，如果有機物隔壁層312b的厚度在2μm以上，能提高與驅動用薄膜電晶體123的絕緣，所以更好。
另外，無機物隔壁層312a例如希望由SiO、SiO2、TiO2等無機材料構成。該無機物隔壁層312a的膜厚希望為例如50～200nm，特別是150nm。當膜厚不足50nm時，無機物隔壁層112a變得比後述的空穴注入/輸送層薄，因為無法確保空穴注入/輸送層的平坦性，所以不好。如果膜厚超過200nm，則基於下部開口部112c的階梯變大，因為無法確保在空穴注入/輸送層上層疊的後述的發光層的平坦性，所以不好。
另外，在隔壁部312上形成有表現親液性的區域和表現防液性的區域。
表現親液性的區域是無機物隔壁層312a的第一層疊部112e和象素電極111』的電極面111a，這些區域通過以氧為處理氣體的等離子體處理，被表面處理為親液性。另外，表現防液性的區域是上部開口部312d的壁面和有機物隔壁層312b的上表面312f，這些區域通過四氟甲烷為處理氣體的等離子體處理，表面被氟化處理(處理為防液性)。
功能層110由層疊在象素電極111』上的空穴注入/輸送層110a、與空穴注入/輸送層110a上相鄰形成的發光層110b構成。須指出的是，也可以與發光層110b相鄰再形成具有其他功能的其他功能層。例如，能形成電子輸送層。
空穴注入/輸送層110a不但具有把空穴注入發光層110b中的功能，而且具有在空穴注入/輸送層110a內部輸送空穴的功能。通過在象素電極111』和發光層110b之間設置這樣的空穴注入/輸送層110a，能提高發光層110b的發光效率、壽命等元件特性。另外，在發光層110b中，從空穴注入/輸送層110a注入的空穴和從陰極12』注入的電子在發光層中再結合，進行了發光。
空穴注入/輸送層110a由位於下部開口部112c內並且形成在象素電極面111a上的平坦部110a1、位於上部開口部312d內並且形成在無機物隔壁層的第一層疊部112e上的周邊部110a2構成。另外，空穴注入/輸送層110a根據結構，只在各象素電極111』上，並且在無機物隔壁層110a(下部開口部110c)之間形成(也有隻在所述的平坦部上形成的形態)。
該平坦部110a1的厚度一定，例如形成在50～70nm的範圍內。
當形成有周邊部110a2時，周邊部110a2位於無機物隔壁層的第一層疊部112e上，並且緊貼上部開口部312d的壁面即有機物隔壁層312b。另外，周邊部110a2的厚度在靠近電極面111a一側薄，沿著遠離電極面111a的方向增大，在下部開口部312d的壁面附近變得最厚。
作為周邊部110a2形成所述形狀的理由在於空穴注入/輸送層110a是把包含空穴注入/輸送層形成材料和極性溶劑的第一組成物向開口部312內噴出後，除去極性溶劑而形成的，極性溶劑的揮發主要在無機物隔壁層的第一層疊部112e上發生，空穴注入/輸送層形成材料在該第一層疊部112e上集中地濃縮、析出。
另外，發光層110b在空穴注入/輸送層110a的平坦部110a1和周邊部110a2上形成，在平坦部110a1上的厚度例如為50～80nm的範圍。
發光層110b具有發出紅色(R)光的紅色發光層110b1、發出綠色(G)光的綠色發光層110b2、發出藍色(B)光的藍色發光層110b3等三種，並且各發光層110b1～110b3配置為帶狀。
須指出的是，電路元件部14的結構與所述實施例1同樣，所以省略了說明。
因此，在本實施例的顯示裝置中，與所述實施例3同樣，因為有機物隔壁層312b兼作遮光層，所以通過該有機物隔壁層312b能遮擋來自功能層110的非形成區域的外部的入射光和來自功能層110的出射光，能提高顯示裝置的對比度，提高視覺識別性。另外，在圖25中，表示了在隔壁部312的下層一側(相鄰的發光層之間的區域)配置了TFT123的結構，但是當象本實施例那樣，從密封部3』一側取出來自發光層110b的光時，象素的開口率不被配置在象素電極111』的下層一側的電路結構影響，所以電路元件部14的布線或TFT123與象素電極111』可配置為在俯視圖中重疊。據此，不但最大限度擴展了象素電極111』，而且，通過使布線的寬度充分粗，能實現高亮度並且大的畫面顯示。
須指出的是，本實施例的顯示裝置的製造方法與實施例3的顯示裝置的製造方法大致相同，區別僅在於象素電極111』、陰極12』、密封蓋604』的材料。因此，本實施例的顯示裝置除了所述不同點，能用與實施例3的製造方法同樣的步驟製造。
下面，說明具有實施例1～6的顯示裝置的電子儀器的具體例。
圖27A是表示行動電話的一個例子的立體圖。在圖27A中，符號600表示行動電話主體，符號601表示使用了所述顯示裝置中的任意一種的顯示部。
圖27B是表示文字處理機、個人電腦等可攜式信息處理裝置的一個例子的立體圖。在圖27B中，符號700表示信號處理裝置，符號701表示鍵盤等輸入部，符號703表示信息處理裝置主體，符號702表示使用了所述的顯示裝置中的任意一種的顯示部。
圖27C是表示手錶型電子儀器的一個例子的立體圖。在圖27C中，符號800表示了手錶主體，符號801表示使用了所述的顯示裝置中的任意一種的液晶顯示部。
圖27A～圖27C各自所示的電子儀器具有使用了所述實施例1～5的顯示裝置中的任意一種的顯示部，因為具有上述的實施例1～5的顯示裝置的特徵，所以使用其中的任意顯示裝置，都能成為高亮度、具有優異的顯示質量的電子儀器。
在製造這些電子儀器時，與實施例1～5同樣，構成具有圖2所示的驅動IC6a(驅動電路)的顯示裝置1，通過把該顯示裝置1組入行動電話、可攜式信息處理裝置、手錶型電子儀器中，就製造了這些儀器。
須指出的是，本發明的技術範圍並不局限於所述實施例，在不脫離本發明的思想的範圍內，能進行各種變更。
圖28表示了本發明的其他例子的顯示裝置的剖視模式圖。圖28所示的顯示裝置具有襯底2、形成在襯底2上的顯示元件10、在襯底2的周圍塗敷為環狀的密封樹脂603、設置在顯示元件10上的密封蓋604。
襯底2和顯示元件10與實施例1的襯底2以及顯示元件10相同。顯示元件10以發光元件部11和形成在該發光元件部11上的陰極12為主體構成。
另外，如圖28所示，在發光元件部11上設置有密封部3。該密封部3由塗敷在陰極12上的熱硬化樹脂或紫外線硬化樹脂等構成的密封樹脂3a和配置在密封樹脂3a上的密封襯底3b構成。須指出的是，作為密封樹脂3a，最好在硬化時不產生氣體、溶劑等。
至少幾乎覆蓋位於發光元件部11上的陰極12而形成有該密封部3，防止了水或氧對於陰極12和發光元件部11的侵入，防止陰極12或形成在發光元件部11內的後述的發光層的氧化。
須指出的是，密封襯底3b接合在密封樹脂3a上，保護密封樹脂3a，最好是玻璃板、金屬板或樹脂板的任意一種。
另外，圖31表示了本發明的別的例子的顯示裝置的剖視模式圖。圖31所示的顯示裝置具有襯底2、形成在襯底2上的顯示元件10、塗敷在顯示元件10的整個面上的密封樹脂3a、設置在密封樹脂3a上的密封用襯底3b。
襯底2、顯示元件10、密封樹脂3a和密封用襯底3b與實施例1的襯底2、顯示元件10、密封材料3和密封用襯底4相同。顯示元件10以發光元件部11和形成在該發光元件部11上的陰極12為主體構成。
另外，如圖31所示，在密封材料3和陰極12之間形成有保護層713。保護層713由SiO2、SiN等構成，厚度在100～200nm的範圍內。該保護層713防止了水或氧對於陰極12和發光元件部11的侵入，防止陰極12或形成在發光元件部11內的後述的發光層的氧化。
根據所述的顯示裝置，通過有效地防止水和氧的侵入，防止陰極12或發光層的氧化，就能實現顯示裝置的高亮度和延長使用壽命。
另外，在實施例1～6中，說明了把R、G、B的各發光層110b配置為帶狀時的情形，但是本發明並不局限於此，也可以採用各種配置結構。例如，除了圖30A所示的帶狀配置之外，還能採用圖30B所示的鑲嵌配置和圖30C所示的三角配置。
另外，在圖6的實施例中，把由黑色樹脂構成的有機物隔壁層312b作為遮光層使用，但是也可以通過在透明的有機物隔壁層312b的上表面312f上形成遮光層，防止來自相鄰的發光層的著色光彼此的混色。或者在密封蓋604』的內表面(與陰極12』相對的面)上，通過在與隔壁相對的位置上形成遮光層，也能取得同樣的效果。
權利要求
1.一種顯示裝置，其特徵在於在襯底面內形成有多個發光元件；平面觀察，在所述各發光元件之間的區域中設置有遮光層。
2.一種顯示裝置，在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於所述隔壁部由位於所述襯底一側的第一隔壁層和形成在所述第一隔壁層上的第二隔壁層形成；在所述第一隔壁層和所述第二隔壁層之間設置有遮光層。
3.一種顯示裝置，在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於在所述襯底和所述隔壁部之間設置有遮光層。
4.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於在所述遮光層上設置有與所述發光元件對應的遮光開口部。
5.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於在所述遮光層上設置有與所述發光元件對應的遮光開口部。
6.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於所述遮光層由黑色樹脂構成。
7.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於所述遮光層由黑色樹脂構成。
8.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於所述遮光層由位於所述襯底一側的第一遮光膜和位於遠離所述襯底一側的第二遮光膜形成。
9.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於所述遮光層由位於所述襯底一側的第一遮光膜和位於遠離所述襯底一側的第二遮光膜形成。
10.根據權利要求8所述的顯示裝置，其特徵在於所述第一遮光膜是金屬鉻膜，並且所述第二遮光膜是氧化鉻。
11.根據權利要求9所述的顯示裝置，其特徵在於所述第一遮光膜是金屬鉻膜，並且所述第二遮光膜是氧化鉻。
12.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於所述第一隔壁層由SiO2和TiO2中的任意一種構成。
13.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於所述第一隔壁層由SiO2和TiO2中的任意一種構成。
14.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於所述第二隔壁層由丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂中的任意一種構成。
15.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於所述第二隔壁層由丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂中的任意一種構成。
16.根據權利要求2所述的顯示裝置，其特徵在於進行了至少使所述第一隔壁層的一部分具有親液性的加工。
17.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特徵在於進行了至少使所述第一隔壁層的一部分具有親液性的加工。
18.一種顯示裝置，在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部，其特徵在於通過由黑色樹脂構成所述隔壁部來形成遮光層。
19.根據權利要求18所述的顯示裝置，其特徵在於所述隔壁部中形成有所述第一隔壁層和所述遮光層。
20.根據權利要求19所述的顯示裝置，其特徵在於所述第一隔壁層由SiO2、TiO2中的任意一種構成。
21.根據權利要求19所述的顯示裝置，其特徵在於所述遮光層由丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂中的任意一種構成。
22.根據權利要求18所述的顯示裝置，其特徵在於進行了至少使所述第一隔壁層的一部分具有親液性的加工。
23.一種電子儀器，具有顯示裝置和用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底面內形成有多個發光元件，以平面觀察，在所述各發光元件之間的區域中設置有遮光層。
24.一種電子儀器，具有顯示裝置和用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；所述隔壁部由位於所述襯底一側的第一隔壁層和形成在所述第一隔壁層上的第二隔壁層形成；在所述第一隔壁層和所述第二隔壁層之間設置有遮光層。
25.一種電子儀器，具有顯示裝置和用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；在所述襯底和所述隔壁部之間設置有遮光層。
26.一種電子儀器，具有顯示裝置和用於驅動所述顯示裝置的驅動電路，其特徵在於所述顯示裝置在襯底上形成有多個發光元件，在各所述發光元件之間設置有隔壁部；在所述隔壁部上形成有由黑色樹脂構成的遮光層。
全文摘要
本發明提供一種顯示裝置，在襯底上形成有多個發光元件，並且在各所述發光元件之間設置有隔壁部，隔壁部由位於襯底一側的第一隔壁層和形成在第一隔壁層之上的第二隔壁層形成，在第一隔壁層和第二隔壁層之間設置有遮光層。能延長發光元件的使用壽命，對比度優異。
文檔編號H01L51/52GK1429051SQ02157458
公開日2003年7月9日 申請日期2002年12月17日 優先權日2001年12月18日
發明者關俊一 申請人:精工愛普生株式會社