物鏡和聚光鏡的製作方法
2023-10-09 00:41:14 4
專利名稱：物鏡和聚光鏡的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種安裝於顯微鏡上並可用於暗場觀察的物鏡和聚光鏡。
背景技術：
安裝於顯微鏡等上的物鏡和聚光鏡已不僅用於常見的亮場觀察，而且還可用於暗場觀察。暗場觀察通過從諸如物鏡或聚光鏡等光學系統的外圍提供光束，並將光束導向物體的表面來進行。因此，暗場觀察可用於不能通過亮場觀察來觀察的帶有缺陷、異物、不均勻、裂縫或者低反射性的樣品(例如，參見專利文獻1)。
專利文獻1公開號為SHO 60-225817的待審日本專利申請(圖1等)。
然而，當採用物鏡或者聚光鏡來進行暗場觀察時，由於環形光束從光學系統的外圍均勻照射，不僅不能檢測帶有顯微缺陷和異物的部分，而且也不能檢測方向性缺陷。
發明內容
鑑於前述觀點，本發明的一個目的在於提供一種物鏡和聚光鏡，其可以進行比暗場觀察更為精細的觀察。
為了解決前述問題，本發明的一個主要方面是一種物鏡，包括一個用於獲得物體放大圖像的第一光學系統；一個用於將暗場照明光導引到物體上的第二光學系統；一個鏡筒，它用於容納第一光學系統和第二光學系統並具有用於暗場照明光的圍繞第一光學系統的光路；以及一個設置於光路上的遮光機構，其能改變暗場照明光的入射面積，以遮蔽暗場照明光。
第一光學系統是一個透鏡組，其通常用於例如反射型照明觀察中。第二光學系統設置於例如光路開口部分的附近。第二光學系統由環形透鏡、鏡面構件等組成，其中環形透鏡具有例如毛玻璃表面的散射表面，用作暗場照明光的入射表面，鏡面構件設置於鏡筒前端的光圈部分處。物體為用於半導體基板或者類似物的精密元件、金屬材料或類似物等。
根據本發明，當暗場照明光照射到第二光學系統的入射面積發生改變時，可將暗場照明光照射到僅僅部分待觀察的物體上。另外，暗場照明光可從任何方向照射到待觀察的物體上。因此，不能通過傳統的暗場觀察來檢測的顯微缺陷、異物等都能夠被檢測。此外，也可僅檢測方向性缺陷。因此，可進行比傳統的暗場觀察更精細的顯微觀察。
根據本發明的一個方面，遮光機構具有多個沿著第一光學系統的光軸方向層疊的遮光板，遮光板可圍繞光軸旋轉，從而使暗場照明光的入射面積發生改變。當遮光板關閉時，光路變窄，入射面積變小。當遮光板打開時，光路變寬，入射面積變大。由於多個遮光板是層疊的，入射面積可逐漸變化。因此，物體可被觀察得更為精細。
根據本發明的一個方面，鏡筒具有保持第一光學系統的倮持構件。每個遮光板具有一個與保持構件配合的第一配合部分，從而使每個遮光板可打開/關閉；以及一個第二配合部分，當第一配合部分與保持構件配合使遮光板打開/關閉時，該第二配合部分可導致每個遮光板一起旋轉。例如，保持構件為圍繞第一光學系統設置的圓柱形。例如，第一配合部分可設置成環形，從而使第一配合部分與圓柱形保持構件配合。由於第二配合部分導致每個遮光板一起旋轉和打開/關閉，當僅有一個遮光板運行並打開/關閉時，可很容易地對入射面積進行調節。因此，提高了可操作性。
根據本發明的一個方面，第二配合部分具有設置於每個遮光板上側並與上面相鄰的遮光板配合的配合凸起；和導槽，其設置於每個遮光板下側，並與下面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。因此，當每個遮光板的配合凸起與鄰近遮光板的導槽配合併且遮光板一起旋轉時，每個遮光板一起旋轉並打開/關閉。結果，入射面積可以很容易地改變。
第二配合部分可具有設置於每個遮光板的下側，並與下面相鄰的遮光板配合的配合凸起；和導槽，其設置於每個遮光板的上側並與上部鄰近遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
根據本發明的一個方面，當進行配合的遮光板的每一個旋轉使入射面積變為最小時，遮光板以預定面積彼此重疊。因此，當每個遮光板都關閉時，可防止暗場照明光從鄰近遮光板漏出。結果，遮光板可可靠地遮蔽暗場照明光。因此，可更為精確地進行觀察。
根據本發明的一個方面，至少其中一個遮光板具有從鏡筒凸出的手柄構件。例如，該手柄構件可設置於最上側遮光板和最下側遮光板。因此，當使用者握持手柄時，對其施加力並使其旋轉，其它遮光板也一起旋轉並打開/關閉。結果，可很容易地改變入射面積。
根據本發明的一個方面，遮光機構具有由遮光板組成的第一遮光板組，該第一遮光板組可一起旋轉；以及由遮光板組成的第二遮光板組，該第二遮光板組可一起旋轉，第二遮光板組可獨立於第一遮光板組進行操作。因此，當第一遮光板組和第二遮光板組分別旋轉並打開時，不僅通過光路進入第二光學系統的暗場照明光的入射面積可自由變化，其入射方向也可自由變化。結果，暗場照明光可從任何方向照射到物體上。
本發明的另一個主要方面是一種聚光鏡，它包括用於將暗場照明光限制為環形的光圈機構；用於將由光圈機構限制的暗場照明光導引到物體上的聚光透鏡；和遮光機構，其改變進入聚光透鏡的暗場照明光的入射面積，從而遮蔽暗場照明光。
聚光鏡用於透光型照明觀察。在該結構中，當進入聚光透鏡的暗場照明光的入射面積變化時，暗場照明光可僅僅照射到部分待觀察的物體上。另外，暗場照明光可從任何方向照射到待觀察的物體上。因此，與前述物鏡相同，不能通過傳統的暗場觀察來檢測的顯微缺陷、異物等都能夠被檢測。此外，還可僅僅檢測到方向性缺陷。因此，可比傳統的暗場觀察更精細的觀察物體。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，遮光機構具有多個沿著聚光透鏡的光軸方向層疊的遮光板，遮光板可圍繞光軸旋轉，以便使暗場照明的入射面積發生改變。
根據本發明的一個方面，聚光鏡還包括一個用於旋轉遮光板的轉動軸。每個遮光板具有第一配合部分，其與轉動軸配合以使每個遮光板可被打開/關閉；以及第二配合部分，當第一配合部分與保持構件配合時，該第二配合部分能導致每一遮光板一起旋轉，從而使遮光板打開/關閉。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，第二配合部分具有設置於每個遮光板的上側並與上部鄰近的遮光板配合的配合凸起；和導槽，其設置於每個遮光板的下側，並與下面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，第二配合部分可具有設置於每個遮光板的下側上，並與下面相鄰的遮光板配合的配合凸起；和導槽，其設置於每個遮光板的上側並與上部鄰近遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，當進行配合的遮光板的每一個旋轉使入射面積變為最小時，遮光板以預定面積彼此重疊。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，至少其中一個遮光板具有一個手柄構件，通過該手柄構件打開/關閉遮光板。
根據本發明的一個方面，在聚光鏡中，遮光機構具有由遮光板組成的第一遮光板組，該第一遮光板組可一起旋轉；以及由遮光板組成的第二遮光板組，該第二遮光板組可一起旋轉，第二遮光板組可獨立於第一遮光板組進行操作。
根據本發明能夠提供一種物鏡和聚光鏡，使用該物鏡和聚光鏡能夠進行比暗場觀察更細微的觀察。
圖1是示出了根據本發明的第一實施方案的物鏡100的外觀的透視圖。
圖2是示出了物鏡100的分解透視圖。
圖3是示出了遮光板7的垂直剖視圖。
圖4是示出了圖3所示的遮光板7的分解剖視圖。
圖5是示出了從上側觀察時遮光板7的分解透視圖。
圖6是示出了從下側觀察時遮光板7的分解透視圖。
圖7是示出了照明光從光源通過物鏡100照射到物體上的狀態的示意圖。
圖8是物鏡100的俯視圖，示出了遮光板7逐個打開/關閉的狀態。
圖9是示出了遮光板7逐個打開/關閉的狀態的透視圖。
圖10是示出了當進行普通的亮場觀察和暗場觀察時，電路板的觀察圖像的示意圖。
圖11是示出了當通過改變遮光板7的打開位置和打開面積來進行暗場觀察時，遮光板7的打開位置和電路板的觀察圖像的示意圖。
圖12是示出了根據第二實施方案的聚光鏡200的結構的示意圖。
圖13是示出了聚光鏡200的旋轉部分17b的仰視圖。
具體實施方案下面，將參照附圖對本發明的實施方案進行說明。
(第一實施方案)首先描述本發明的第一種實施方案。圖1是顯示出根據本實施方案的物鏡100的外觀的透視圖。這種物鏡100用於顯微鏡。圖2是顯示出物鏡100的分解透視圖。顯微鏡的光系統主要分為反射型(用於不透光但能反射光的諸如金屬的觀察物體)和透射型(用於可透光的諸如顯微機構的觀察物體)。然而，假定根據本實施方案的物鏡100是一種用於反射型光系統的物鏡。
物鏡100的鏡筒1由上部鏡筒部分1a、中間鏡筒部分1b、下部部分1c和光圈部分1d組成。設置於鏡筒1內部的是一個同心的內鏡筒3。鏡筒1和內鏡筒3通過連接構件4相連。一個中央透鏡組2保持於內鏡筒3中，其對來自將在後面進行描述的光源的亮場照明光進行聚光。將物鏡100安裝於顯微鏡(未顯示)上的螺紋部分1f設置在上部鏡筒部分1a的頂部。
在鏡筒1和內部鏡筒3之間形成一個環形光路5，通過環形光圈(將在後面說明)從光源提供的環形暗場照明光穿過環形光路。設置於光路5的上方並與鏡筒1的光圈部分1d的上面相鄰的是一個環形透鏡6，其對穿過光路5的暗場照明光進行聚光並使光進入觀察物體。例如，環形透鏡6可具有一個毛玻璃表面，其導致暗場照明光發散，從而使暗場照明光的照明損失減少。
在鏡筒3的下部部分設置一個凹面配合部分3a。裝配到配合部分3a的是遮光板7，其遮蔽了通過光路5進入環形透鏡6的亮場照明光。下面將接著描述遮光板7。
圖3是顯示出物鏡100的分解垂直剖視圖。圖4是示出了圖3中所示遮光板7的分解剖視圖。圖5是顯示出遮光板7的從上側觀察的分解透視圖。圖6是顯示出遮光板7的從底側觀察的分解透視圖。
例如，遮光板7可由12個沿著中央透鏡組2的光路層疊的板組成。然而，遮光板7的數目不限於這一數字。每個遮光板7由一個與配合部分3a配合的環形部分7a和一個遮住光路5的近似梯形的葉片(blade)部分7b組成(見圖2到圖7)。當環形部分7a與內鏡筒3的配合部分3a配合時，環形部分7a可環繞中央透鏡組2的光軸旋轉。這種旋轉導致葉片部分7b在光路5上水平運動，使遮光板7打開和關閉。當遮光板7打開時，暗場照明光僅從光路5的打開部分穿過光路5，並通過環形透鏡6進入物體。
設置於環形部分7a的上表面和葉片部分7b的邊界附近的是一個導銷7c(見圖4和圖5)；設置於環形部分7a的下表面和葉片部分7b的邊界附近的是一個導槽7d。當每個遮光板7的導銷7c和上面相鄰遮光板7的導槽7d配合時，它們就裝配在一起。當將導銷7c導引到導槽7d並與導槽7d的邊緣部分配合時，施加到導銷7c上的作用力導致每個遮光板7一起旋轉。
當每個遮光板7的導銷7c和導槽7d沿著使遮光板7閉合併使每個遮光板7的導銷7c與上一相鄰的遮光板7的導槽7d的邊緣部分配合的方向旋轉時，它們以預定面積疊置。因此，防止了暗場照明光從兩個相鄰遮光板7處漏出。結果，光路5可安全地被遮蔽。
如圖6所示，導槽7d的長度d1略小於每個葉片部分7b的最內側邊界的寬度d2。另外，導銷7c設置於葉片部分7b的最內側邊界的寬度d2的範圍內。因此，當每個遮光板7的導銷7c和導槽7d沿著使遮光板7閉合併使每個遮光板7的導銷7c與上一相鄰的遮光板7的導槽7d的邊緣部分配合的方向旋轉時，相鄰遮光板7以預定面積S重疊。因此，防止了暗場照明光從相鄰遮光板7處漏出。因此，光路5可安全地被遮蔽。
第六遮光板7-6的下表面的導槽7d完全在環形部分7a上形成為環形(見圖6)。當第七遮光板7-7的導銷7c與環形導槽7d相配合併由此形成導引時，遮光板7-7可旋轉360°，而不與遮光板7-6一起運動。換言之，上面的六個遮光板7可一起旋轉，同時下面的六個遮光板7可一起旋轉。但第六個遮光板7不與第七遮光板7一起旋轉。因此，當遮光板7打開時，不僅從光路5進入環形透鏡6的暗場照明光的入射面積可自由改變，其入射方向也可自由變化。因此，暗場照明光可沿任意方向照射到物體上。例如，當光路5在物鏡100的一側及其對側被遮蔽時，暗場照明光從左側和右側方向進入。另外，當全部12個遮光板7置於後面、前面、左側或右側時，暗場照明光都可沿某一方向進入。
遮光板7-1、7-6、7-7和7-12中的每個都帶有一個手柄7e。當使用者握持每個手柄7e並沿著水平方向對其施力時，上面六個遮光板7和下面六個遮光板7可一起運動，從而使它們打開/閉合。如圖1和圖2所示，鏡筒1的中間鏡筒部分1b具有一個狹縫部分1e，每個手柄7e通過該狹縫部分可旋轉地凸出。
圖7是顯示出照明光從光源通過物鏡100照射到物體上的狀態的示意圖。圖7(a)示出了亮場照明光的情況。圖7(b)示出了暗場照明光的情況。
如圖7(a)所示，當進行亮場觀察時，從光源8發出的亮場照明光11受亮場觀察開放型光圈9限制，由反射鏡10反射，並通過物鏡100的中央透鏡組2導引到放置於載物臺13上的物體12上。在這種情況下，亮場照明光11垂直進入物體12。亮場照明光11由中央透鏡組2反射，接著被導引到鏡片(未顯示)。結果，使用者能夠對物體進行觀察。
另一方面，如圖7(b)所示，當進行暗場觀察時，從光源8發出的暗場照明光15被暗場觀察環型光圈14限制成環形，由反射鏡10反射，穿過物鏡100的光路5，並通過環形透鏡6導引到物體12上。當部分光路5被每個遮光板7所遮蔽時，暗場照明光15通過光路5的未遮蔽部分照射到物體12上。照射到物體上的暗場照明光15被反射到中央透鏡組2，並與亮場照明光11一樣通過鏡片進行觀察。
在這種情況下，暗場照明光15對角地照射到物體12上。僅僅能觀察到散射的反射光。因此，與亮場觀察的情況不同，由於背景和物體的前表面是暗的，物體的不平、缺陷等等都能很明亮地觀察到。例如，物體12可以是半導體基板或者金屬材料。
下面將描述具有前述結構的物鏡100的操作。圖8是物鏡100的俯視圖，示出了當進行圖7(b)中顯示的暗場觀察時，遮光板7逐個打開/關閉的狀態。圖9是示出了遮光板7逐個打開/關閉的狀態的透視圖。
在所有遮光板7都處於關閉狀態的狀態中(見圖8(a)和圖9(a))，當使用者握持遮光板7-6和7-7的每個手柄7e並沿著箭頭A和箭頭B所示方向對它們施加作用力時，遮光板7-6、7-5等如圖8(b)和9(b)中所示沿著內部鏡筒3的配合部分3a通過導銷7c和導槽7d一起旋轉。同樣地，遮光板7-7、7-8等如圖8(b)和9(b)中所示沿著內部鏡筒3的配合部分3a通過導銷7c和導槽7d一起旋轉。結果，遮光板7被打開，光路5出現(見圖8(b)和9(b))。當使用者對每個手柄7e進一步沿著箭頭A和箭頭B所示方向施加力時，遮光板7進一步打開，光路5的截面變大。光路5打開直到上面的六個遮光板7每一個都放置到另一個頂部，下面的六個遮光板7每一個都放置到另一個頂部(見圖8(c)和9(c))。因此，光路5的截面，即暗場照明光照射到環形透鏡6和物體12上的入射面積可被改變。結果，不能由傳統的暗場觀察所觀察到的顯微缺陷、不平等也能夠被觀察到。
當然，當使用者對遮光板7-1和7-12的每個手柄7e都施力，來代替對遮光板7-6和遮光板7-7的每個手柄施力時，光路5也可打開/關閉。另外，如上所述，由於遮光板7-6和遮光板7-7不一起旋轉，當上面六個遮光板7和下面六個遮光板7一起旋轉到預定位置時，可自由調節光路5的遮光位置(遮光方向)。因此，不僅暗場照明光的入射面積可自由改變，而且其入射位置(其入射方向)也可自由改變。因此，可很容易地觀察到物體的方向性缺陷、不平等。
另外，如上所述，如果每個遮光板7都沿著使光路5關閉的方向旋轉(與箭頭A和B相反的方向)，遮光板7以預定面積重疊。因此，遮光板7可以可靠地遮蔽暗場照明光。
下面將描述採用根據本實施方案的物鏡100來進行暗場觀察的效果。圖10(a)是示出了以電路板作為物體12進行亮場觀察所觀察到的圖像的示意圖。圖10(b)是示出了採用不帶有遮光板7的傳統物鏡對電路板進行暗場觀察所觀察到的圖像的示意圖。
如這些附圖所示，在所述電路板的觀察圖像的中央存在顯微的水平條帶缺陷。在缺陷的左側觀察到有導線存在，在缺陷的右側觀察到有垂直線存在。在圖10(b)所示的暗場圖像中，由於環狀光束等同地照射到電路板上，觀察到的基板前表面是暗的，而觀察到的缺陷、導線和線是亮的。
圖11是示出了當通過改變遮光板7的打開位置和打開面積來進行暗場觀察時，遮光板7的打開位置和電路板的觀察圖像的示意圖。
圖11(a)顯示了通過打開遮光板7使暗場照明光從物鏡100的近側照射來進行暗場觀察的狀態。如圖中所示，徑嚮導線的上部從圖10(b)中所示的暗場圖像中消失了。結果，可以很容易地觀察到中央缺陷。因此，可以很清楚地觀察到在圖10(b)中顯示的暗場圖像中不能清楚顯現的缺陷的上部圖案。
圖11(b)顯示了通過打開遮光板7使暗場照明光從物鏡100的右側照射來進行暗場觀察的狀態。如圖中所示，右手側垂直線和左側下部導線的一部分消失了。結果，可以很容易地觀察到缺陷。此外，也可以很清楚地觀察到缺陷的下部圖案。
圖11(c)顯示了通過打開遮光板7使暗場照明光從物鏡100的右側和左側照射來進行暗場觀察的狀態。如圖中所示，在圖10(b)中顯示的暗場圖像中的右側垂直線消失了。因此，可以很容易地觀察到缺陷。此外，也可以很清楚地觀察到缺陷的上部和下部圖案。
因此，當採用遮光板7時，例如導線和垂線等阻礙待觀察缺陷的部分可被隱蔽。因此，與傳統的暗場觀察相比，可更容易地觀察到顯微缺陷和不平。另外，由於暗場照明光的照射方向可被改變，可很容易地觀察到方向性缺陷等。
當根據本實施方案的物鏡100不僅用於工業樣品(例如電路板和金屬材料等，而且例如還用於醫學樣本等時，可以觀察到病理樣本中的顯微變化、特定變化的徵兆等。
(第二實施方案)下面將描述本發明的第二實施方案。根據第一實施方案，描述了用於反射型暗場觀察的物鏡。然而，根據第二實施方案，本發明被應用到用在透射型暗場觀察的聚光鏡上。如上所述，當機構為可透過照明光的顯微機構等時，採用透射型照明系統。
圖12是顯示出根據本實施方案的聚光鏡200的結構和暗場照明光光路的示意圖。圖13示出了聚光鏡200的仰視圖。在這些附圖中，與第一實施方案相同的部分採用相同的附圖標記來表示，並簡化或省略對它們的說明。
如圖12所示，根據本實施方案的聚光鏡200由聚光透鏡部分16和轉臺(turret)17組成。轉臺17由上部固定部分17a和下部旋轉部分17b構成。旋轉部分17b具有亮場觀察光路19和暗場觀察光路18。當旋轉部分17b圍繞轉動軸24水平旋轉時，亮場觀察可轉換成暗場觀察，或者反之亦然。將暗場照明光25限制為環形的環形光圈23設置於暗場觀察光路18上。
內部鏡筒21設置於暗場觀察光路18上，並通過連接元件22固定到旋轉部分17b。內部鏡筒21具有配合部分21a。遮光板20裝配到配合部分21a上。遮光板20的基本結構與第一實施方案中的遮光板7的基本結構相同。一些遮光板20具有手柄20a，其從旋轉部分17b的下表面凸出。當使用者對手柄20a水平施力時，與在第一實施方案中的情況相同，手柄20a沿著圖13中所示的方向繞著內部鏡筒21旋轉。結果可打開/關閉遮光板20。
暗場照明光25從光源29發出，被反射到反射鏡30上，由暗場觀察光路18導引到環形光圈23，並通過聚光透鏡部分16照射到放置在載物臺28上的物體27上。當遮光板20關閉時，暗場照明光25被遮蔽。暗場照明光25照射到物體27上。物體透射暗場照明光25。暗場照明光25被導向物鏡26。結果，可通過鏡片或類似物(未顯示)觀察到暗場圖像。
因此，當採用帶有遮光板20的聚光鏡200進行透射型暗場觀察時，與第一實施方案相似，通過遮蔽暗場照明光25，可改變進入物體27的暗場照明光的入射面積和入射方向。結果，與傳統的透射型暗場觀察相比，可更為細微地觀察物體。
本發明並不限於前述實施方案。前述實施方案可進行各種變型，而不會背離本發明的精神。
在第一和第二實施方案中，遮光板具有環形和梯形形狀。然而，遮光板的形狀並不限於那些例子。只要遮光板能夠遮蔽暗場照明光，遮光板可具有任意形狀。
根據第一實施方案和第二實施方案，導銷和導槽分別設置於每個遮光板的上表面和下表面。代替的是，導槽和導銷也可分別設置於上表面和下表面。
根據第一實施方案和第二實施方案，遮光板分組為上面六個板和下面六個板。上面六個板和下面六個板可以組為單位一起旋轉。作為替代，第六遮光板的導槽可具有與每個其它板的導槽相同的結構，從而使所有的板一起旋轉。作為替代，最上面的遮光板和最下面的遮光板可分別固定於聚光鏡的鏡筒和內部鏡筒上，從而當使用者對一個手柄施力時，能夠打開或關閉遮光板。
在第一實施方案的物鏡100中，環形透鏡6設置於光圈部分1d的上側，以對暗場照明光進行聚光，並將暗場照明光對角地照射到物體上。作為替代，當鏡面設置於光圈部分1d的內側或者在鏡面上形成光圈部分1d的內表面時，也可對暗場照明光進行聚光。
根據第二實施方案，本發明被應用於聚光鏡，該聚光鏡通過旋轉轉臺的旋轉部分允許進行亮場觀察和暗場觀察。當然，本發明還可被應用於專用於暗場觀察的聚光鏡。
權利要求
1.一種物鏡，包括一用於獲得物體的放大圖像的第一光學系統；一用於將暗場照明光導引到物體上的第二光學系統；一鏡筒，其容納第一光學系統和第二光學系統，並具有用於暗場照明光的圍繞第一光學系統的光路；以及一設置於光路上的遮光機構，其能改變暗場照明光的入射面積來遮蔽暗場照明光。
2.如權利要求1所述的物鏡，其特徵在於，所述遮光機構具有多個沿著第一光學系統的光軸方向層疊的遮光板，所述遮光板可通過圍繞光軸旋轉而打開或關閉，以便使暗場照明的入射面積發生改變。
3.如權利要求2所述的物鏡，其特徵在於，所述鏡筒具有保持所述第一光學系統的保持構件，以及每個遮光板具有與保持構件配合的第一配合部分，以使每個遮光板可打開/關閉；以及第二配合部分，當第一配合部分與保持構件配合時，該第二配合部分可導致每個遮光板一起旋轉，從而使遮光板打開/關閉。
4.如權利要求3所述的物鏡，其特徵在於，所述第二配合部分具有設置於每個遮光板的上側並與上面相鄰的遮光板配合的配合凸起，以及導槽，其設置於每個遮光板的下側並與下面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
5.如權利要求3所述的物鏡，其特徵在於，第二配合部分具有設置於每個遮光板的下側並與下面相鄰的遮光板配合的配合凸起，以及導槽，其設置於每個遮光板的上側並與上面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
6.如權利要求3所述的物鏡，其特徵在於，當進行配合的遮光板的每一個旋轉使入射面積變為最小時，遮光板彼此以預定面積重疊。
7.如權利要求2所述的物鏡，其特徵在於，至少其中一個遮光板具有一從鏡筒凸出的手柄構件。
8.如權利要求3所述的物鏡，其特徵在於，所述遮光機構具有由遮光板組成的第一遮光板組，該第一遮光板組可一起旋轉；以及由遮光板組成的第二遮光板組，該第二遮光板組可一起旋轉，所述第二遮光板組可獨立於第一遮光板組進行操作。
9.一種聚光鏡，包括將暗場照明光限制為環形的光圈機構；將由光圈機構限制的暗場照明光導引到物體上的聚光透鏡；以及遮光機構，其改變進入聚光透鏡的暗場照明光的入射面積，從而遮蔽暗場照明光。
10.如權利要求9所述的聚光鏡，其特徵在於，遮光機構具有多個沿著聚光透鏡的光軸方向層疊的遮光板，所述遮光板可通過圍繞光軸旋轉而開啟或關閉，以便使暗場照明的入射面積發生改變。
11.如權利要求11所述的聚光鏡，進一步包括用於旋轉遮光板的轉動軸，其中每個遮光板具有第一配合部分，其與轉動軸配合，從而使每個遮光板打開/關閉；以及第二配合部分，當第一配合部分與保持構件配合時，該第二配合部分導致每個遮光板一起旋轉，從而使遮光板打開/關閉。
12.如權利要求12所述的聚光鏡，其特徵在於，第二配合部分具有設置於每個遮光板的上側並與上面相鄰的遮光板配合的配合凸起，以及導槽，其設置於每個遮光板的下側並與下面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
13.如權利要求12所述的聚光鏡，其特徵在於，第二配合部分具有設置於每個遮光板的下側並與下面相鄰的遮光板配合的配合凸起，以及導槽，其設置於每個遮光板的上側並與上面相鄰遮光板的配合凸起配合，當每個遮光板打開/關閉時導引該配合凸起。
14.如權利要求12所述的聚光鏡，其特徵在於，當進行配合的遮光板的每一個旋轉使入射面積變為最小時，遮光板彼此以預定面積重疊。
15.如權利要求11所述的聚光鏡，其特徵在於，至少其中一個遮光板具有手柄構件，通過該手柄構件打開/關閉遮光板。
16.如權利要求12所述的聚光鏡，其特徵在於，所述遮光機構具有由遮光板組成的第一遮光板組，該第一遮光板組可一起旋轉；以及由遮光板組成的第二遮光板組，該第二遮光板組可一起旋轉，所述第二遮光板組可獨立於第一遮光板組進行操作。
全文摘要
本發明提供了一種物鏡和聚光鏡，其允許進行比暗場觀察更為精細的觀察。多個遮光板(8)沿光軸的垂直方向可旋轉地設置於物鏡(100)的配合部分(3a)上，從而使遮光板(5)可打開/關閉。因此，穿過光路(5)的暗場照明光可被遮蔽。此外，相對於環形透鏡(6)的暗場照明光的入射面積和入射方向可以變化，該環形透鏡將暗場照明光照射到物體上。結果，可觀察到不能由傳統的暗場觀察檢測的顯微缺陷、不平和異物，並可觀察到方向性缺陷。
文檔編號G02B21/10GK1875309SQ20048002082
公開日2006年12月6日 申請日期2004年11月24日 優先權日2004年11月24日
發明者吉峰貴司 申請人:吉峰貴司