光學體、牆壁構件、建築配件以及遮陽設備的製作方法

2023-05-29 18:39:46 5

專利名稱：光學體、牆壁構件、建築配件以及遮陽設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及光學體、牆壁構件、建築配件以及遮陽設備。更具體地，本發明涉及用於漫反射入射光的光學體。
背景技術：
考慮到降低空調負荷，在市場上存在一種用於遮陽的窗膜。用於反射陽光的薄膜也作為遮陽技術的一個實例在市場上銷售。為了製造該薄膜，已經披露了各種方法，它們採用光學多層膜、含金屬膜、透明導電膜用作反射層(參見，例如，國際公布第05/087680號)。然而，這種類型的反射層形成在平窗玻璃上，並且入射陽光僅被鏡面(規則)反射。因此，來自天空和被平窗玻璃鏡面反射的光到達室外附近的其他建築和地面，在該處光被吸收並轉化成熱，從而使周圍環境的溫度升高。因此，在所有的窗戶塗有上述類型的反射層的建築的周圍環境中出現了局部溫度升高。在城區中，這引起了熱島現象加劇且在被該反射光照射的區域中的草不能生長的問題。

發明內容
期望提供可以抑制熱島現象加劇的光學體，光學體製造方法，窗構件，建築配件以及遮陽設備。為了解決相關技術領域中的上述問題，發明人已經深入地研究了能夠在不同於入射光被鏡面反射的方向的方向上定向反射太陽光的光學體。結果，發明人成功地提供了一種光學體，該光學體包括具有其中結構以規則間距排列的凹凸表面的第一光學層、形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上嵌入凹凸表面的第二光學層。然而，當在夜晚通過上述光學體觀察在遠處的電燈時，出現衍射圖案。結果，為了抑制這種衍射圖案的出現，發明人進行了深入的研究發現，通過以隨機形狀形成第一光學層的凹凸表面可抑制衍射圖案的出現。基於上述發現，完成了本發明的實施方式。根據本發明的一個實施方式，提供了一種光學體，該光學體包括具有隨機凹凸表面的第一光學層，形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學層，其中，所述反射層是用於漫反射入射光的特定波長帶中的光而透過特定波長帶之外的光的波長選擇性反射層。根據本發明的另一個實施方式，提供了一種光學體，該光學體包括具有隨機凹凸表面的第一光學層，形成在凹凸表面上的反射層以及形成在反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學層，其中，反射層是用於漫反射部分入射光而使剩餘的光透過的半透射性層。根據本發明的又一個實施方式，提供了一種光學體製造方法，該光學體製造方法包括以下步驟形成具有隨機凹凸表面的第一光學層，在凹凸表面上形成反射層以及在反射層上形成第二光學層以嵌入凹凸表面，其中，反射層是用於漫反射特定波長帶中的光而透過特定波長帶之外的光的波長選擇性反射層。
根據本發明的另一個實施方式，提供了一種光學體製造方法，該光學體製造方法包括以下步驟形成具有隨機凹凸表面的第一光學層，在凹凸表面上形成反射層以及在反射層上形成第二光學層以嵌入凹凸表面，其中，反射層是用於漫反射部分入射光而使剩餘的光透過的半透射性層。對於本發明的實施方式，如上面所述，由於在第一光學層的隨機凹凸表面上形成波長選擇性反射層或半透射性層，所以可以漫反射特定波長帶中的光或部分入射光。此外， 由於在第一光學層中形成隨機凹凸表面並且在隨機凹凸表面上形成反射層，所以可抑制衍射圖案的出現。此外，由於第二光學層形成在反射層上以嵌入第一光學層的隨機凹凸表面， 所以可以清晰的觀察到通過光學體的透射圖像。因此，通過本發明的實施方式，可以抑制熱島現象的加劇。此外，可抑制衍射圖案的出現。


圖IA是示出了根據第一實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖，圖IB是示出了其中將根據第一實施方式的光學膜粘貼至粘附體(即，光學膜被粘貼至其上的目標)的實例的截面圖；圖2是根據第一實施方式的用來說明光學膜功能的放大截面圖；圖3是示出了根據第一實施方式的用來製造光學膜的設備的結構的一個實例的示意圖；圖4A 圖4C示出了根據第一實施方式的用來說明製造光學膜的方法的一個實例的連續步驟；圖5A和5B是用來說明通過噴砂處理來處理母版表面的方法的一個實例的示圖；圖6A 圖6E示出了用來說明通過光刻法和蝕刻來處理母版表面的方法的一個實例的連續步驟；圖7A 圖7C示出了根據第一實施方式的用來說明製造光學膜的方法的一個實例的連續步驟；圖8A 圖8C示出了根據第一實施方式的用來說明製造光學膜的方法的一個實例的連續步驟；圖9A是示出了根據第二實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖，圖9B是根據第二實施方式的用來說明光學膜的功能的放大截面圖；圖IOA 圖IOC均為根據第三實施方式的示出了光學膜的結構的一個實例的截面圖；圖11是示出了根據第四實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖；圖12是示出了根據第五實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖；圖13是示出了根據第六實施方式的百葉窗(遮光簾)的結構的一個實例的透視圖；圖14A是示出了板條的結構的第一實例的截面圖，圖14B是示出了板條的結構的第二實例的截面圖；圖15A是示出根據第七實施方式的捲簾裝置(rolling screen device)的結構的一個實例的透視圖，圖15B是示出沿圖15A中的線XVB-XVB的帘布結構的一個實例的截面圖；圖16A是示出了根據第八實施方式的建築配件的結構的一個實例的透視圖，圖 16B是示出了光學體的結構的一個實例的截面圖；圖17A和17B均為示出了複製母版的測量表面粗糙度的結果的截面輪廓圖；圖18A是示出了實例1、3和4的光學膜的光譜透射波形的曲線圖，和圖18B是示出了實例1、3、和4的光學膜的光譜反射波形的曲線圖；圖19A是示出了實例8和9的光學膜的光譜透射波形的曲線圖，圖19B是示出了實例8和9的光學膜的光譜反射波形的曲線圖；圖20A是示出比較實例1和2的光學膜的光譜透射波形的曲線圖，圖20B是示出比較實例1和2的光學膜的光譜反射波形的曲線圖；圖21是說明用於測量實例1 9和對比實例1 3中的每個光學膜的反射角度的分布的設備的示圖；圖22是說明極坐標繪圖的示圖；圖23示出了實例1中的光學膜的極坐標繪圖；圖M示出了實例2中的光學膜的極坐標繪圖；圖25示出了實例3中的光學膜的極坐標繪圖；圖26A是示出了在包括實例1中的光學膜中的入射光的軸線和鏡面反射光的軸線的方位角中的反射強度的繪製結果的曲線圖，圖26B是示出了在包括實例2中的光學膜中的入射光的軸線和鏡面反射光的軸線的方位角中的反射強度的繪製結果的曲線圖；以及圖27是示出了在包括實例3中的光學膜中的入射光的軸線和鏡面反射光的軸線的方位角中的反射強度的繪製結果的曲線圖。
具體實施例方式下面將參照附圖按照下面的順序描述本發明的實施方式1.第一實施方式(其中光學膜是具有漫反射能力的波長選擇膜)2.第二實施方式(其中光學膜是具有漫反射能力的半透射膜)3.第三實施方式(其中光學膜包括光散射體)4.第四實施方式(其中光學膜包括自潔有效層)5.第五實施方式(其中通過使用珠子形成漫反射表面)6.第六實施方式(其中光學膜被應用至百葉窗)7.第七實施方式(其中光學膜被應用至捲簾裝置)8.第八實施方式(其中光學膜被應用至建築配件)[光學膜的結構]圖IA是示出根據第一實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖，圖IB是示出其中將根據第一實施方式的光學膜粘貼至粘附體的實例的截面圖。用作光學體的光學膜 1是具有漫反射能力的波長選擇光學膜。該具有漫反射能力的波長選擇光學膜漫反射入射光的特定波長帶中的光，同時透射所述特定波長帶之外的光。光學膜1優選地具有帶狀形狀。具有帶狀形狀的光學膜1可通過卷輥對卷輥處理(roll-to-roll process)來方便地製造。此外，帶狀光學膜1可以通過將其纏繞成卷而方便地進行處理。如圖IA所示，光學膜1包括具有在其中以隨機凹凸形狀形成的界面的光學層2以及形成在光學層2中的界面處的波長選擇性反射層3。光學層2包括具有隨機凹凸形狀的第一表面的第一光學層4以及具有隨機凹凸形狀的第二表面的第二光學層5。光學層2中的界面由彼此面對設置的均具有隨機凹凸形狀的第一和第二表面形成。換句話說，光學膜 1包括具有隨機凹凸表面的第一光學層4，形成在所述第一光學層4的隨機凹凸表面上的波長選擇性反射層3以及形成在所述波長選擇性反射層3上以嵌入到其上形成有波長選擇層 3的隨機凹凸表面中的第二光學層5。所述光學膜1具有光(諸如太陽光)入射到其上的入射表面Sl以及入射在入射表面Sl上的部分光從其出射的出射面S2，該部分光已經穿過光學膜1。光學膜1適合應用於內壁構件、外壁構件、窗構件、牆壁材料等。此外，光學膜1 適合應用於百葉窗(遮光簾)的板條(遮陽構件的一個實例)和捲簾裝置的帘布(遮陽構件的另一個實例)。此外，適合採用光學膜1作為設置在建築配件(即，內部構件或外部構件)(例如，障子(即，紙糊和/或安裝玻璃的滑動門))的採光部分中的光學體。如果需要，光學膜1還可以包括在設置光學層2的出射表面S2的側面上的第一基板如。如果需要，光學膜1還可以包括在設置光學層2的入射表面Sl的側面上的第二基板 fe。當光學膜1包括第一基板如和/或第二基板如時，則在光學膜1包括第一基板如和 /或第二基板fe的狀態下，後述的光學特性(例如透明度和透射光的顏色)是令人極其滿意的。如果需要，光學膜1還可以包括粘貼層6。粘貼層6形成在光學膜1的入射表面 Sl和出射表面S2中的一個上，將被粘貼至窗構件10。因此，通過介於光學膜1和窗構件10 之間的粘貼層6，將光學膜1粘貼至窗構件10(即，粘附體)的室內或室外側。粘貼層6可被形成為例如包括粘結劑(例如，UV固化樹脂或雙液混合樹脂)作為主要成分的粘結層， 或被形成為包含粘合劑(例如，PSA(壓敏粘合劑))作為主要成分的粘合層。當粘貼層6 為粘合層時，優選地，進一步在粘貼層6上形成剝離層7。這能夠使得僅通過將剝離層7撕下、以粘貼層6介於光學膜1和粘附體之間的方式容易地將光學膜1粘貼到粘附體(例如， 窗構件10)。考慮到增加第二基板fe與粘貼層6和第二光學層5中的一個或兩個之間的粘性， 光學膜1還可以包括在第二基板fe與粘貼層6和第二光學層5中的一個或兩個之間的底層(primer layer)(未示出)。此外，考慮到增加相同位置的粘性，優選地，進行普通的物理預處理代替形成底層，或除形成底層外還進行普通的物理預處理。普通的物理預處理包括， 例如，等離子處理或電暈處理。光學膜1還可以包括在入射表面Sl和出射表面S2中粘貼至粘附體(例如，窗構件10)的一個上或在該表面與波長選擇性反射層3之間的阻擋層(未示出)。由於阻擋層的存在，能夠減少溼氣從入射表面Sl或出射表面S2向波長選擇性反射層3的擴散並抑制包含在波長選擇性反射層3中的金屬的劣化等。從而，可提高光學膜1的耐用性。考慮到使得光學膜1的表面抗脫落、抗刮傷等，光學膜1還可以包括硬塗層8。硬塗層8優選地形成在入射表面Sl和出射表面S2中位於與粘貼至粘附體(例如，窗構件10) 的表面相對的一側上的一個表面上。考慮到提供防汙性能等，還可以在光學膜1的入射表面Sl或出射表面S2上形成防水或親水層。具有該功能的層例如可以直接形成在光學層2 上或各種功能層之一(例如硬塗層8)上。考慮到能夠將光學膜1容易地粘貼至粘附體(例如，窗構件10)，光學膜1優選地具有柔韌性。本文中，術語「薄膜」被構造為包括薄片。也就是說，光學膜1也包括光學薄片。光學膜1優選地具有透明度。該透明度優選地落在後述的透射圖像清晰度的範圍內。第一光學層4和第二光學層5之間的折射率差優選地小於或等於0. 010，更優選地小於或等於0. 008，並進一步優選地小於或等於0. 005。如果折射率差超過0. 010，透射圖像看起來模糊。當折射率差大於0. 008而不大於0. 010時，儘管依賴於室外的光亮度，但在日常生活中沒有任何問題。當折射率的差大於0. 005而不大於0. 008時，可以清晰地觀察室外的景物，儘管令人不滿意的是，當仔細觀看明亮物體的邊緣時該明亮物體的圖像稍有些模糊。 當折射率的差小於或等於0. 005時，不論透射圖像的亮度如何都可觀察到清晰的圖像。第一光學層4和第二光學層5中位於粘貼至例如窗構件10的一側上的一個可以包含粘合劑作為主要成分。由於該特徵，可以通過直接粘附包含粘合劑作為主要成分的第一光學層4 或第二光學層5來將光學膜1粘貼至，例如，窗構件10。在這種情況下，相對於粘合劑的折射率差優選地在上述範圍內。第一光學層4和第二光學層5優選地具有相同的光學特性，例如折射率。更具體地，第一光學層4和第二光學層5優選地由具有在可見光範圍內的透明度的相同的材料 (例如相同的樹脂材料)製成。通過使用相同的材料形成第一光學層4和第二光學層5，兩個光學層的折射率彼此相等，因此可以提高對可見光的透明度。然而，對於這一點應該注意的是，即使原材料是相同的，但最終形成的層的折射率可以因(例如)成膜處理中的固化條件(curing condition)差異而彼此不同。另一方面，當第一光學層4和第二光學層5由不同的材料製成時，透射圖像趨於模糊，這是因為光學層4和5之間的折射率的差異而導致了光在波長選擇性反射層3 (其提供了邊界)處被折射。特別地，存在這樣的趨勢，即，當仔細觀看明亮物體的透射圖像時，明顯觀察到透射圖像的模糊。注意，為了調節折射率的值，可以在第一光學層4和/或第二光學層5中混合添加劑。第一光學層4和第二光學層5優選地具有可見光範圍內的透明度。本文中，術語 「透明度」被定義為具有兩層含義，即，不吸收光和不散射光。當在一般情況下使用術語「透明度」時，通常表示前者含義。然而，根據第一實施方式的光學膜1優選地具有這兩層含義的透明度。目前採用的回射器(retroreflector)意在視覺確定從路標、夜晚工作人員的衣服等反射的光以提供明顯的指示。因此，即使所述回射器具有散射特性，如果回射器與下層反射器緊密接觸，仍可視覺觀察到從下層反射器反射的光。該現象基於與如下原理同樣的原理，即，即使將提供散射特性的防眩處理應用到圖像顯示器的正面以使其具有防眩特性， 仍可以視覺確認圖像。相反，根據第一實施方式的光學膜1優選地不散射光，原因如下，光學膜1的特徵在於透射不是特定波長的漫反射光的光，並且光學膜1被粘貼至主要透射透射波長的光的透射構件，因此允許觀察到透射光。然而，根據用途，可有意地使第二光學層 5具有散射特性。優選地，以如下方式使用光學膜1，例如，用(例如)介於光學膜和剛性構件之間的粘合劑將光學膜粘貼至剛性構件(例如，窗構件10)，該剛性構件具有主要對穿過光學膜並落在不是特定波長的帶中的光的透射性。窗構件10的實例包括用於高層建築、房屋等的建築窗構件以及用於交通工具的窗構件。當將光學膜1應用至建築窗構件時，優選將其應用至面向一定方向，具體地，在從東至南進一步至西的範圍內(例如，在從東南至西南的範圍內)的一定方向的窗構件10。這是因為，通過將光學膜1應用至如上述定向的窗構件10， 可以更有效地反射熱射線。光學膜1不僅可應用至單層窗玻璃，還可用於特定的玻璃，例如多層玻璃。此外，窗構件10並不限於玻璃製成的構件，它可以是由具有透明性的高聚材料製成的構件。光學層2優選地具有可見光範圍內的透明度。原因在於，通過具有可見光範圍內的透明度的光學層2，當將光學膜1粘貼至窗構件10 (例如，窗玻璃)時，允許可見光穿過光學膜1並且可保證太陽光的照明。光學膜1不僅可以粘貼至玻璃窗的內表面，還可以粘貼至其外表面。此外，光學膜1可與附加的熱射線阻擋薄膜結合使用。例如，可以在空氣和光學膜 1之間的界面(即，在光學膜1的最外表面上)處設置光吸收塗層。更進一步地，光學膜1 可以與硬塗層、紫外線阻擋層、表面抗反射層等結合使用。當以結合的方式使用這些功能層中的一個或多個時，優選地將功能層設置在光學膜1和空氣之間的界面處。然而，將紫外線阻擋層設置在比光學膜1更靠近太陽的一側上。因此，特別地，當光學膜1被粘貼在面向室內的側面的窗玻璃的內表面上時，期望將紫外線阻擋層設置在窗玻璃的內表面和光學膜1 之間。在這種情況下，可以將紫外線吸收劑混合在設置在窗玻璃的內表面和光學膜1之間的粘貼層中。根據光學膜1的用途，可以將光學膜1染色以具有引人注目的設計。當對光學膜1 作出引人注目的設計時，優選地形成第一光學層4和第二光學層5中的至少一個從而以不降低透明度的程度在可見光範圍內主要吸收特定波長帶中的光。圖2是根據第一實施方式的用來說明光學膜的功能的放大截面圖。光學膜1具有光L入射在其上的入射表面Si。光學膜1漫反射特定波長帶中的光L1 (其為進入入射表面 Sl的光L的一部分)，同時透射不是特定波長帶中的光L2。此外，光學膜1對光L2而不是特定波長帶具有透明度。該透明度優選地在後述的透射圖像清晰度的範圍內。此外，可以使漫反射特性具有各向異性。例如，當光學膜1具有帶狀形狀時，漫反射特性可以在縱向(長度方向)方向和橫向(寬度方向)方向之間具有各向異性。根據光學膜1的用途，不同地設定在特定波長帶內的漫反射光和特定波長帶外的透射光。例如，當將光學膜1應用至窗構件10時，優選的是，在特定波長帶內的漫反射光為近紅外光，而特定波長帶外的透射光為可見光。更具體地，在特定波長帶內的漫反射光優選為主要落在780nm 2100nm的波長帶內的近紅外光。通過反射近紅外光，當將光學膜 1粘貼至窗構件10 (例如窗玻璃)時，可抑制建築內溫度的升高。同時，可降低冷氣負載並可實現能量的節約。這裡，表述「反射」表示特定波長帶內(例如，在近紅外線範圍內)的反射率優選地為大於等於30 %，更優選地為大於等於50 %，並更進一步優選地為大於等於 80%。表述「透射」表示在特定波長帶內(例如，在可見光範圍內)的透射率優選地為大於等於30%，更優選地為大於等於50%，並更進一步優選地為大於等於70%。當使用梳寬為0. 5mm的光梳時，在光學膜1具有透射性的波長帶中的透射圖像清晰度的值優選地為大於等於50，更優選地為大於等於60，並進一步更優選地為大於等於 75。如果透射圖像清晰度的值小於50，透射圖像看起來趨於模糊。當透射圖像清晰度的值不小於50並小於60時，儘管依賴於室外的光亮度，但在日常生活中沒有任何問題。當透射圖像清晰度的值不小於60並小於75時，可以清晰地觀察室外的景物，儘管令人不滿意的是，當仔細觀看明亮物體的邊緣時該明亮物體的圖像稍有些模糊。當透射圖像清晰度的值不小於75時，幾乎沒有令人不滿意的衍射圖案。此外，使用梳寬為0. 125mm、0. 5mm、1.0mm和 2. Omm的光梳測量的透射圖像清晰度的總值優選地為大於等於230，更優選地為大於等於 270，並進一步更優選地為大於等於350。如果透射圖像清晰度的總值小於230，透射圖像看起來趨於模糊。當透射圖像清晰度的總值不小於230並小於270時，儘管依賴於室外的光亮度，但在日常生活中沒有任何問題。當透射圖像清晰度的總值不小於270並小於350時， 可以清晰的觀察室外的景物，儘管只有非常明亮的物體(例如，光源)產生令人不滿意的衍射圖案。當透射圖像清晰度的總值不小於350時，幾乎沒有令人不滿意的衍射圖案。這裡， 通過使用由Suga Test Instruments Co.，Ltd製造的ICM-IT根據JIS K7105測量透射圖像清晰度的值。當要透射的波長與D65光源不同時，優選地，在利用具有要透射的波長的濾波器校準之後進行測量。在光學膜1具有透射性的波長帶中出現的混濁度優選地為小於等於6%，更優選地為小於等於4%，更進一步優選地為小於等於2%。如果混濁度超過6%，透射光被散射並且視線模糊。這裡，通過使用由Murakami Color Research Laboratory Co.，Ltd製造的 HM-150根據JIS K7136規定的測量方法測量混濁度。當要透射的波長與D65光源不同時， 優選地，在利用具有要透射的波長的濾波器校準之後進行測量。光學膜1的入射表面Si， 優選地，光學膜1的入射表面Sl和出射表面S2，具有不降低透射圖像清晰度的這樣程度的平滑度。更具體地，入射表面Sl和出射表面S2的算術平均粗糙度Ra優選地為小於等於 0. 08 μ m,更優選地為小於等於0. 06 μ m,更進一步優選地為小於等於0. 04 μ m。需要注意的是，通過測量入射(出射)表面的表面粗糙度並從二維輪廓曲線推導出粗糙度曲線來得到算術平均粗糙度Ra作為粗糙度參數。根據JIS B0601:2001設置測量條件。測量設備和測量條件的詳細內容如下測量設備全自動細微形狀測量機SURFC0DER ET4000A(由Kosaka Laboratory Ltd.生產)，λο = 0.8mm，評估長度4mm，截止(cut off) X 5，以及數據採樣間隔0. 5 μ m.下面將詳細描述構成光學膜1的第一光學層4、第二光學層5以及波長選擇性反射層3。(第一光學層和第二光學層)第一光學層4例如用於支撐和保護波長選擇性反射層3。考慮到使光學膜1具有柔韌性，第一光學層4優選地由包含例如樹脂作為主要成分的層製成。例如，第一光學層4 的兩個主表面中的一個是平滑表面而另一個是隨機凹凸表面(第一表面)。波長選擇性反射層3形成在第一光學層4的隨機凹凸表面上。第二光學層5通過嵌入在其上形成有波長選擇性反射層3的第一光學層4的第一表面(隨機凹凸表面)來保護波長選擇性反射層3。考慮到使光學膜1具有柔韌性，第二光學層5優選地由包含例如樹脂作為主要成分的層製成。例如，第二光學層5的兩個主表面中的一個是平滑表面而另一個是隨機凹凸表面(第二表面)。第一光學層4的隨機凹凸表面和第二光學層5的隨機凹凸表面以隨機凹凸的關係彼此反轉。由於第一光學層4的隨機凹凸表面和第二光學層5的隨機凹凸表面彼此間的不同僅在於它們以隨機凹凸的關係彼此反轉，所以下面將對第一光學層4的隨機凹凸表面進行描述。第一光學層4優選地包含樹脂作為主要成分，該樹脂為其儲能(彈性)模量在 100°c表現出很少的減小並且在25°C和100°C之間儲能模量沒有顯著的差異的這樣類型的樹脂。更具體地，第一光學層4優選地包含儲能模量在25°C時小於等於3 X IO9Pa且在100°C 時儲能模量大於等於3X IO7Pa的樹脂。第一光學層4優選地由一種樹脂製成，但可包含兩種或更多種的樹脂。此外，如果需要，第一光學層4可混入添加劑。當如所述，當第一光學層4包含儲能模量在100°C表現出很少的減小且在25°C和 100°C之間的儲能模量沒有顯著差異的這樣類型的樹脂作為主要成分時，第一光學層4甚至在形成第一光學層4的隨機凹凸表面(第一表面)之後進行施加熱或者熱和壓力的處理時仍能夠基本上保持所設計的界面形狀。另一方面，如果第一光學層4包含儲能模量在 100°C表現出很大的減小且在25°C和100°C之間的儲能模量差異顯著的這樣類型的樹脂作為主要成分，界面形狀從設計的形狀變形為光學膜1可能發生捲曲的較大程度。施加熱的情況下的處理不僅包括直接向光學膜1或其部件施加熱(例如，退火的處理)，還包括局部升高形成的薄膜的表面的溫度並且將熱間接施加至薄膜表面(例如，在薄膜的形成過程中以及樹脂成分的固化過程中)的處理，以及通過能量射線的照射升高母版的溫度並將熱間接施加至光學膜的處理。此外，通過如上所述限制儲能模量的數值範圍而得到的效果並不限於使用特定類型的樹脂的情況，在使用熱塑性樹脂、熱固化型樹脂以及能量射線照射型樹脂時也可以得到類似的效果。例如，第一光學層4的儲能模量可確定如下。當第一光學層4的表面暴露時，第一光學層4的儲能模量可通過使用微型硬度計測量暴露表面的儲能模量來確定。當在第一光學層4的表面上形成第一基板如等時，可通過撕下第一基板如等使第一光學層4的表面露出，然後通過使用微型硬度計測量暴露表面的儲能模量來確定第一光學層4的儲能模量。例如，當使用熱塑性樹脂時可以通過調節(例如)側鏈的長度和類型的方法來抑制高溫時儲能模量的減少，以及當使用熱固化型樹脂或能量射線照射型樹脂時可以通過調節(例如)交聯點(cross-linking point)的數量和交聯劑的分子結構的方法來抑制高溫時儲能模量的減少。然而，樹脂材料本身所需要的特性優選地不隨這樣的結構的改變而劣化。根據交聯劑的類型，例如，室溫左右的儲能模量可能增加至樹脂薄膜變得易碎的程度， 或由於大的收縮樹脂膜被彎曲或捲曲的程度。因此，優選地根據需要的特性適當地選擇交聯劑的類型。當第一光學層4包含結晶高聚材料作為主要成分時，其優選地包含玻璃轉化點高於製造處理過程中最高的溫度並在製造處理過程中最高溫度處表現出儲能模量的減小很少的樹脂作為主要成分。如果使用玻璃轉化點在室溫25°C到製造處理過程中最高的溫度的範圍內並在製造處理過程中最高溫度處表現出儲能模量的減小很多的樹脂，則在製造處理過程中難於保持所設計的理想界面。當第一光學層4包含非結晶(非晶態)高聚材料作為主要成分時，其優選地包含熔點高於製造處理過程中最高的溫度並在製造處理過程中最高溫度處表現出儲能模量的減小很少的樹脂作為主要成分。如果使用熔點在室溫25°C到製造處理過程中最高的溫度的範圍內並在製造處理過程中最高的溫度處表現出儲能模量的減小很多的樹脂，則在製造處理過程中難於保持所設計的理想界面。這裡，表述「製造處理過程中最高的溫度」表示在製造處理過程中第一光學層4的隨機凹凸表面(第一表面)處的最高的溫度。優選地，第二光學層5也滿足儲能模量的上述數值範圍和玻璃轉化點的上述溫度範圍。因此，第一光學層4和第二光學層5中的至少一個優選地包含儲能模量在25°C時小於等於3X IO9Pa的樹脂。在這樣的條件下，光學膜1在室溫25°C可以具有柔韌性並且可以通過卷輥對卷輥製造。在實例性情況下，第一基板如和第二基板fe具有透明度。考慮到使光學膜1具有柔韌性，每個基板優選地為薄膜形式，但基板的形式並不限於薄膜。例如，可以通過使用普通高聚材料來形成第一基板如和第二基板如。普通高聚材料的實例包括三乙醯纖維素 (TAC)，聚酯纖維(TPEE)，聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚醯亞胺(PI)，聚醯胺(PA)，芳綸 (aramid)，聚乙烯(PE)，聚丙烯酸脂，聚醚碸，聚碸，聚丙烯(PP)，雙乙醯纖維素(diacetyl cellulose)，聚氯乙烯，丙烯酸樹脂(PMMA)，聚碳酸酯(PC)，環氧樹脂，脲醛樹脂，聚氨酯樹脂以及三聚氰胺樹脂。然而，第一基板如和第二基板如的材料不限於上述的具體實例。考慮到生產率，第一基板如和第二基板fe的厚度優選地為38 μ m 100 μ m,但並不限於該具體的範圍。第一基板如和第二基板fe優選地對能量射線是可透射的。原因在於，當第一基板如和第二基板fe對能量射線是可透射的時，如後所述，通過從包括第一基板如或第二基板fe的一側使用能量射線照射能量射線固化型樹脂能夠固化介於第一基板如或第二基板fe和波長選擇性反射層3之間的能量射線固化型樹脂。在實例性情況下，第一光學層4和第二光學層5具有透明度。例如，通過固化樹脂組分來獲得第一光學層4和第二光學層5。作為樹脂組分，考慮到製造的方便，優選地使用能夠通過使用光或電子束照射固化的能量射線固化型樹脂，或能夠通過施加熱來固化的熱固化型樹脂。作為能量射線固化型樹脂，能夠通過光照射而固化的光敏樹脂組分是優選的， 並且能夠通過紫外線照射而固化的紫外線固化型樹脂是最優選的。考慮到增加第一光學層 4或第二光學層5和波長選擇性反射層3之間的粘合性，樹脂組分進一步優選地包括包含磷酸的化合物，包含琥珀酸的化合物以及包含丁內酯的化合物。包含磷酸的化合物可以是，例如，包含磷酸的(甲基)丙烯酸酯，優選地是具有磷酸官能團的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。包含琥珀酸的化合物可以是，例如，包含琥珀酸的(甲基)丙烯酸酯，優選地是具有琥珀酸官能團的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。包含丁內酯的化合物可以是，例如，包含丁內酯的(甲基)丙烯酸酯，優選地是具有丁內酯官能團的(甲基)丙烯酸酯單體或低聚物。紫外線固化型樹脂組分包含，例如，(甲基)丙烯酸酯和光聚作用引發劑。如果需要，紫外線可固化樹脂組分可以進一步包含光穩劑(photo-stabilizer)、阻燃劑、流平劑 (leveling agent)禾口 / 或抗氧化齊[J。作為丙烯酸酯，優選地使用具有兩個或多於兩個的(甲基)丙烯醯基團的單體或低聚物。這樣的單體和/或低聚物的實例包括聚氨(甲基)丙烯酸酯(urethaneOiieth) acrylate)，環氧(甲基)丙烯酸酯，聚酯(甲基)丙烯酸酯，聚醇(甲基)丙烯酸酯(polyol (mettOacrylate)，聚醚(甲基)丙烯酸酯，和三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯 (melamine(meth)acrylate)0這裡，術語「(甲基)丙烯醯基團」表示丙烯醯基團或甲基丙烯醯基團。這裡使用的「低聚物」表示是具有大於等於500至小於等於60000的分子量的分子。這裡使用的光聚作用引發劑可以從普通材料中適當地進行選擇。作為普通材料的實例，苯甲酮衍生物，苯乙酮衍生物，蒽醌衍生物等可單獨使用或組合使用。混合的光聚作用引發劑的量優選為固體含量的大於等於0.1% (質量百分比)而小於等於10% (質量百分比)。從實用角度考慮，如果混合的光聚作用引發劑的量小於0.1% (質量百分比)，光固化能力降低到不適於工業生產的程度。另一方面，如果混合的光聚作用引發劑的量超過 10% (質量百分比)，則當發出的用於照射的光的量不充足時，氣味趨於殘留在形成的塗層中。這裡，術語「固體含量」表示在被固化後構成第一光學層4或第二光學層5的所有成分。 固體含量包括，例如，丙烯酸酯、光聚作用引發劑等。優選地，樹脂具有這樣的特性，S卩，例如，當使用能量射線照射或施加熱時結構可轉印至樹脂。可以使用包括乙烯基樹脂(vinyl-based resin)，環氧基樹脂，熱塑性樹脂等的任何類型的樹脂，只要該樹脂滿足上述折射率的要求。可將樹脂與低聚物混合以減少固化收縮。樹脂可以進一步包含，例如，作為固化劑的聚亞安酯。考慮到第一光學層4或第二光學層5與相鄰層之間的粘合性，樹脂可以進一步與具有羥基、羧基和磷酸基(phosphoric group)的單體，多羥基化合物，諸如羧酸、矽烷、 鋁和鈦的耦合劑以及各種螯合劑中的一種或多種混合。樹脂組分優選地進一步包含交聯劑。具體地，優選地將環狀交聯劑用作交聯劑。通過使用交聯劑，可以將樹脂製造成具有耐熱性而不會大幅地改變室溫下的儲能模量。如果室溫下的儲能模量被大幅改變，光學膜1會變得易碎，從而難於通過卷輥對卷輥處理來製造光學膜1。環狀交聯劑的實例包括二氧雜環乙烷乙二醇二丙烯酸酯 (dioxaneglycol diacrylate)，三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯，三環癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(tricyclodecanedimethanol diacrylate)，環氧乙烷改性丙烯酸異氰脲酸酯 (ethylene oxide-modified isocyanurate diacrylate),環氧乙燒改性異氰脲酸三丙烯酸酉旨(ethylene oxide-modified isocyanurate triacrylate)禾口己內酉旨改性三(丙;I；希酉先氧乙基)異氰服酸酉旨(caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate)。優選地，第一基板如或第二基板fe具有分別低於第一光學層4或第二光學層5 的水蒸氣滲透率。例如，當通過使用能量射線固化型樹脂(例如聚氨酯丙烯酸酯)形成第一光學層4時，優選地通過使用水蒸氣滲透率低於第一光學層4並且對能量射線是可透射的樹脂(例如，聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET))形成第一基板如。結果，可減少從入射表面 Sl或出射表面S2向波長選擇性反射層3的溼氣擴散並抑制包含在波長選擇性反射層3中的金屬等的劣化。因此，可提高光學膜1的耐用性。應該注意的是，厚度為75μπι的PET的水蒸氣滲透率是約10g/m2/天(40°C，90% RH)。優選地，第一光學層4和第二光學層5中的至少一個包含高極性的官能團，並且該官能團的含量在第一光學層4和第二光學層5之間不同。更優選地，第一光學層4和第二光學層5都包含含磷化合物(例如，磷酸酯(phosphoric ester))，並且含磷化合物的含量在第一光學層4和第二光學層5之間不同。在第一光學層4和第二光學層5之間的含磷化合物的含量差異優選地為大於等於2倍，更優選地為大於等於5倍，並進一步更優選地大於等於10倍。
當第一光學層4和第二光學層5中的至少一個包含含磷化合物時，波長選擇性反射層3在其與包含含磷化合物的第一光學層4或第二光學層5接觸的表面中優選地包含氧化物、氮化物或氧氮化物。特別優選的是波長選擇性反射層3在其與包含含磷化合物的第一光學層4或第二光學層5接觸的表面中包括包含氧化鋅(SiO)或氧化鈮的層。這樣的特徵對於增加第一光學層4或第二光學層5和波長選擇性反射層3之間的粘合性是有效的。 另一個原因在於，當波長選擇性反射層3包含金屬(例如，Ag)時，抗蝕作用增強。此外，波長選擇性反射層3可以包含摻雜劑，諸如Al或(ia。原因在於，當例如通過濺射法形成金屬氧化層時，摻雜劑提高了薄膜質量和平滑度。考慮到對光學膜1、窗構件10等作出引人注目的設計，第一光學層4和第二光學層 5中的至少一個優選地具有吸收可見光範圍內特定波長帶中的光的特性。分散在樹脂中的顏料可以是有機顏料或無機顏料。特別地，自身具有高耐候性(weatherbility)的無機顏料是優選的。無機顏料的實用實例包括氧化鋯灰(zircone gray) (Co, Ni-摻雜&Si04)， 鐠黃(praseodymium yellow) (Pr-慘雜 ZrSi04)，絡鐵黃(chrome-titania yellow) (Cr, Sb-摻雜 Τ 02 或 Cr，W-摻雜 Τ 02)，鉻綠(chrome green)(諸如 Cr2O3)，孔雀藍((CoZn) O(AlCr)2O3),維多利亞綠(Victoria green) ((Al，Cr)203)，深藍(CoO ·Al2O3 · SiO2)，鋯釩藍 (V-摻雜 ZrSiO4)，鉻錫紅(chrome-tin pink) (Cr-摻雜 CaO 'SnO2 'SiO2)，錳紅(manganese pink) (Mn-摻雜Al2O3)以及橙紅(salmon pink) (Fe-摻雜&Si04)。有機顏料的實例包括偶氮基顏料和酞菁顏料。(反射層)用作部分反射層的波長選擇性反射層3漫反射進入入射表面的入射光中的在特定波長帶中的光，但它使特定波長帶外的光透射。波長選擇性反射層3為，例如，多層(層疊)膜、透明導電層或功能層。可選地，波長選擇性反射層3可通過以組合的方式使用多層膜、透明導電層和功能層中的兩種或多於兩種形成。波長選擇性反射層3的平均膜厚優選地為小於等於20 μ m，更優選地為小於等於5 μ m，並更進一步優選地為小於等於1 μ m。如果波長選擇性反射層3的平均膜厚超過20 μ m，在其中透射光被折射的光程長度增加，透射圖像看起來趨於變形。例如，可以通過濺射法、氣相沉積法、浸塗法(dip coating)或模塗法 (die coating)形成波長選擇性反射層3。下面將對多層膜、透明導電層和功能層逐一進行描述。(多層膜)例如，多層膜是通過交替層疊彼此間折射率不同的低折射率層和高折射率層而形成的薄膜。作為另一個實例，多層膜是通過交替層疊在紅外線範圍內具有高反射率的金屬層和在可見光範圍內具有高折射率並用作抗反射層的高折射率層而形成的薄膜。光學透明層或透明導電層可以用作高折射率層。例如，在紅外線範圍內具有高反射率的金屬層包含單獨的Au、Ag、Cu、Al、Ni、Cr、 Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo或Ge，或含有從這些元素中選擇的兩種以上元素的合金作為主要成分。在這些實例中，考慮到實用性，Ag-、Cu-、Al-、Si-或Ge基材料是優選的。當將合金用作金屬層的材料時，例如，金屬層優選地包含AlCu、Alti, AlCr, AlCo, AlNdCu, AlMgSi, AgPdCuagPdTi、AgCuTi、AgPdCa,AgPdMg,AgPdFe,Ag 或 SiB 作為主要成分。為了延緩金屬層的腐蝕，優選地將諸如Ti或Nd的附加材料混合到金屬層中。特別地，當將Ag用作金屬層的材料時，優選地混合附加材料。光學透明層是在可見光範圍內具有高折射率並用作抗反射層的層。光學透明層包含高介電材料(例如，氧化鈮、氧化鉭和氧化鈦)作為主要成分。透明導電層包含ZnO基氧化物或銦摻雜氧化錫作為主要成分。ZnO基氧化物例如可以是從包括氧化鋅(SiO)、鎵(Ga) 和鋁(Al)摻雜氧化鋅(GAZO)、鋁(Al)摻雜氧化鋅(AZO)以及鎵(Ga)摻雜氧化鋅(GZO)的組中選擇的至少一種。包括在多層膜中的高折射率層的折射率優選地在大於等於1. 7並小於等於2. 6的範圍內，更優選地在大於等於1. 8並小於等於2. 6的範圍內，更進一步優選地在大於等於 1. 9並小於等於2. 6的範圍內。通過如上面所述設置折射率，可以以薄膜薄到不會引起破裂的程度來在可見光範圍內實現抗反射。應該注意的是，在^Onm的波長處測量折射率。高折射率層是包含(例如)金屬氧化物作為主要成分的層。在一些情況下，考慮到緩解層中的應力並抑制破裂的發生，這裡使用的金屬氧化物優選的是除氧化鋅之外的金屬氧化物。具體地，優選使用從包括氧化鈮(例如，五氧化鈮)、氧化鉭(例如，五氧化二鉭)和氧化鈦的組中選擇的至少一種。高折射率層的平均膜厚優選地為大於等於IOnm並小於等於120nm， 更優選地為大於等於IOnm並小於等於lOOnm，更進一步優選地為大於等於IOnm並小於等於80nm。如果平均膜厚小於lOnm，高折射率層更傾向於反射可見光。另一方面，如果平均膜厚超過120nm，高折射率層更傾向於降低透射率並引起破裂。多層膜並不限於無機材料製成的薄膜，它可通過層疊由高聚材料製成的薄膜或包含分散在高聚材料中的微小顆粒等的層形成。此外，當形成光學透明層時，為了防止下層中的金屬的氧化劣化，可在形成的光學透明層和相鄰層之間的界面處形成由(例如)Ti製成的厚度為幾納米的薄緩衝層。本文中，術語「緩衝層」表示當上層形成時自我氧化以抑制作為下層的例如金屬層的氧化的層。(透明導電層)透明導電層是包含具有在可見光範圍內的透明性的導電材料作為主要成分的層。 更具體地，透明導電層包含透明導電材料作為主要成分，例如，氧化錫、氧化鋅、包含碳納米管的材料、銦摻雜氧化錫、銦摻雜氧化鋅和銻摻雜氧化錫。可選地，可在此使用的層可包含以高濃度分散在樹脂中的上述材料的納米顆粒，或導電材料(例如，金屬)的納米顆粒、納米棒或納米線。(功能層)功能層包含含鉻材料(例如，其反射特性根據外部刺激的施加而可逆地改變)作為主要成分。術語「含鉻材料」表示根據外部的刺激(例如，熱、光或侵入分子)的施加而可逆地改變其結構的材料。可在此使用的含鉻材料的實例包括光致變色材料(photochromic material)、熱至文變色材料(thermochromic material)、氣至文變色材料(gaschromic material)禾口電至文變色材料(electrochromic material)。光致變色材料是通過光的作用可逆地改變其結構的材料。光致變色材料可根據光的照射(例如，紫外線)可逆地改變各種物理特性，例如，反射率和顏色。例如，摻雜有Cr、 Fe或Ni的過渡金屬氧化物，例如，TiO2, WO3> MoO3和Nb2O5可用作光致變色材料。此外，通過層疊光致變色材料的層和折射率與前面的層不同的層可以提高波長選擇性。熱致變色材料是通過熱的作用可逆地改變其結構的材料。熱致變色材料可根據熱的施加，可逆地改變各種物理特性，例如，反射率和顏色。例如，可以將用作熱致變色材料。為了控制轉變溫度和轉變曲線，也可添加其他的元素，例如，W、Mo和F。此外，可以通過在抗反射層(均包含高折射率材料(例如，TiO2或ΙΤ0)作為主要成分)之間夾入包含熱致變色材料(例如，VO2)作為主要成分的薄膜來形成多層結構。可以將諸如膽甾液晶(cholesteric liquid crystal)光子晶體用作熱致變色材料。膽留液晶根據層間距離可以選擇性地反射特定波長的光，而層間距離根據溫度是可變的。因此，膽留液晶的物理特性(例如，反射率和顏色)可根據熱可逆地改變。就此而言， 通過使用幾種具有不同層間距離的膽甾液晶可以加寬反射帶。電致變色材料是通過電的作用可逆地改變各種物理特性(諸如，反射率和顏色) 的材料。電致變色材料可以被設置成，例如，根據電壓的施加可逆地改變其結構的材料。更具體地，可將通過摻雜或不摻雜質子來改變其反射特性的反射光控制材料用作電致變色材料。術語「反射光控制材料」表示能夠根據外部刺激的施加選擇性地將其光學特性控制成透明狀態、鏡面狀態(mirror state)和在其兩者之間的中間狀態中的期望的一個的材料。 可以在此處使用的反射光控制材料的實例包括含有鎂鎳合金材料或鎂鈦合金材料作為主要成分的合金材料、WO3以及具有選擇反射能力的針狀晶體被封裝在微囊體中的材料。實際上，例如，功能層可以通過在第二光學層5上順序層疊上述合金層、包含例如 Pd的催化劑層、由例如Al形成的薄緩衝層、由例如Ta2O5形成的電解質層、由例如包含質子的WO3形成的離子存儲層以及透明導電層來構成。可選地，例如，功能層可以通過在第二光學層5上順序層疊透明導電層、電解質層、由例如WO3製成的電致變色層和透明導電層來構成。在這樣的多層結構中，當在透明導電層和相對的電極之間施加電壓時，包含在電解質層中的質子被摻雜進合金層或從合金層去摻雜。結果，改變了合金層的透射率。此外，為了提高波長選擇性，電致變色材料優選地層疊有高折射率材料，諸如T^2或ιτο。作為另一種可用的多層結構，可以在第二光學層5上層疊透明導電層、包含分散在其中的微囊體的光學透明層和透明電極。在該結構中，當在兩個透明電極之間施加電壓時，可得到其中包在微囊體膜中的針狀晶體被一致地定向的透射狀態，而當消除電壓時，可得到其中針狀晶體隨機定向的波長選擇反射狀態。[用於製造光學膜的設備]圖3是示出了根據第一實施方式的用於製造光學膜的設備的結構的一個實例的示意圖。如圖3所示，製造設備包括層壓輥41和42、導輥43、塗覆裝置45和照射裝置46。層壓輥41和42被設置成能夠將粘貼反射層的光學層9和第二基板fe夾在其之間。粘貼反射層的光學層9是通過在第一光學層4的一個主表面上形成波長選擇性反射層 3而得到的層。粘貼反射層的光學層9可以進一步包括第一基板4a，該第一基板如設置在第一光學層4的與在其上形成波長選擇性反射層3的一個主表面相對的一側上的第一光學層4的另一個主表面上。在示出的實例中，波長選擇性反射層3形成在第一光學層4的一個主表面上，而第一基板如設置在第一光學層4的另一個主表面上。導輥43設置在製造設備內的輸送路徑中以能夠輸送具有帶狀形狀的光學膜1。層壓輥41和42和導輥43的材料不限制於具體的一種。根據所需要的輥的特性，可適當地選擇使用諸如不鏽鋼的金屬、橡膠、矽樹脂等。塗覆裝置45可被設置成包括塗覆單元(例如塗覆器)的裝置。作為塗覆器，考慮到要塗覆的樹脂成分的物理特性等，適當地選擇使用包括凹印板塗覆器、拉絲錠和模具的普通的塗覆器。照射裝置46是用於通過電離射線(例如電子射線、紫外線、可見光線或伽馬射線)照射樹脂成分的裝置。在示出的實例中，將發出紫外線的UV燈用作照射裝置46。[製造母版的方法]例如，可通過使用下面的方法(1) (9)中的一個製造具有隨機微小凹凸形狀的母版21。通過使用下面的方法(1) (9)獲得各種具有不同隨機微小凹凸形狀的母版21。(1)毛刻坯面的方法這是一種通過藉助於拋光粉或噴砂處理或通過蝕刻來毛刻坯體(其用來製造母版並由例如玻璃、金屬、陶瓷或塑料製成)的光滑表面的方法。可以根據拋光粉的尺寸、噴砂處理的撞擊和力度和/或坯體的旋轉次數來控制坯面上形成的凹坑和凸起的間距。還可以使用蝕刻來控制坯面的粗糙度和平滑度。此外，在使用拋光粉的情況下，可以通過考慮拋光粉擺動的軌跡來控制凹凸形狀，而在使用噴砂處理或蝕刻的情況下，可以通過考慮沙子或蝕刻劑噴向坯面的角度來控制凹凸形狀。噴砂處理使得光學膜1被製造為具有在平面中彼此垂直的兩個方向上的不同的散射角或者具有在平面中彼此垂直的兩個方向上散射特性上的各向異性。例如，可以將在日本未審專利申請公開第2005-250459號中披露的方法用作通過噴砂處理製造光學膜1的方法。(2)雕刻坯面的方法這是一種通過使用例如尖頭針(例如，金剛石針)雕刻坯體(其用來製造母版)表面上的蠟的方法。此外，例如，可以通過氣相沉積法將金屬沉積在母版坯體的雕刻表面上， 從而加固坯面。(3)從氣態或液態將微小固體聚集至坯面上的方法S卩，例如，一種在坯體(其用於製造母版)表面上氣相沉積微小固體的方法。可以通過執行氣相沉積而同時選擇使得顆粒增大的條件(諸如，將坯體的溫度設置為較低的水平)來在母版坯體的表面上形成微小的凹坑和凸起。相似地，通過設置電鍍的條件以減少經常添加至電鍍液中的穩定劑和其他的添加劑的量，可以在母版坯體的表面上形成微小固體。可選地，通過將固溶體或分散溶液以非常微小的薄霧噴向母版坯體的表面或通過將母版坯體引導穿過非常微小的薄霧從而使得薄霧粘附至母版坯體的表面，隨後蒸發溶劑或分散介質來在母版坯體的表面上聚集微小固體。(4)在坯面上設置和固定微小顆粒的方法微小顆粒例如為粉末、珠子、沙粒、微晶體或微生物(例如真菌、病毒和浮遊生物)。通過將微小顆粒與高聚物粘合劑一起塗覆，可以將微小顆粒塗覆在用於製造母版的坯體的表面上。此外，表面凹坑和凸起的間距、高度等可通過改變例如微小顆粒的尺寸、微小顆粒與粘合劑的比例和/或塗覆的微小顆粒的量的多種方式來調節。此外，當使用微生物時，微小的凹坑和凸起由在微生物繁殖時產生的菌落來形成，例如，具有各種形狀的菌落根據菌類的類型而形成。(5)利用塗覆層中產生的網狀組織(褶皺)這是一種通過在母版坯體的表面上塗覆塗料(例如，通過將高聚合塗覆材料溶解在有機溶劑中形成該塗料)，然後控制乾燥條件將其保持在一個特定條件的同時去除溶劑的步驟來得到坯體(其用來製造母版)表面上的網狀組織(即，微小的凹坑和凸起)的方法。作為另一個實例，可以通過使塗覆的薄膜在加熱的條件下膨脹或在合適的可控條件下吸潮來形成網狀組織。作為又一個實例，微小的凹坑和凸起可以被設置作為通過使用在各層中表現出不同的化學反應機理的材料並控制各層的膨脹和收縮係數而在多層膜中產生的網狀組織。(6)利用各種現有材料的方法這是一種利用紙、皮、布、陶瓷、玻璃格、木板、巖石表面和生物體的方法，該生物體不僅包括昆蟲，還包括魚、貝等及它們的外皮，鱗片，外部骨骼和殼體。(7)曝光和顯影光敏聚合物的方法這是一種利用在用於製造母版的坯體的表面上塗覆光敏聚合物並通過將塗覆的光敏聚合物曝光和顯影為不均勻的圖案而製備的表面的方法。可以通過利用用在印刷中的點圖案或由相干光的幹涉而產生的斑點(先問中稱作「雷射幹涉法」)來將光敏聚合物在不均勻的圖案中曝光。例如，在日本專利第4460163號中披露的方法可用作雷射幹涉方法。(8)利用光刻和蝕刻的方法這是一種通過光刻和蝕刻在用於製造母版的坯體的表面上形成隨機凹凸形狀的方法。(9)前述方法的組合這是一種形成或選擇具有已經通過任何上面所述的方法(1) (8)形成的不規則微小凹凸形狀的表面，然後再次在相關表面上執行任何上述方法(1) (8)的方法。[製造光學膜的方法]下面將參照附圖4A 8C描述根據第一實施方式的製造光學膜的方法的一個實例。應該注意的是，考慮到生產率，除了製造母版的步驟之外，優選地以卷輥對卷輥的方式執行下述的製造處理的部分或全部。(製造母版的步驟)第一，如圖4A所示，製造具有隨機微小凹凸形狀的母版21。母版21可以為，例如， 平板、圓柱或圓筒的形式。可以通過利用任何前面所述的方法(1) (9)或這些方法中的兩個或兩個以上的組合在母版表面上形成微小凹凸形狀。在這些方法中，優選地使用噴砂處理方法、雷射幹涉法或利用光刻和蝕刻的方法。可以以組合的方式使用這些方法中的兩種或兩種以上。下面將作為優選實例描述噴砂處理方法和利用光刻和蝕刻的方法。(噴砂處理方法)圖5A和5B是說明通過噴砂處理來處理母版表面的方法的一個實例的示圖。在噴砂處理中，通過從噴砂設備(未示出)的噴槍61噴射研磨劑62使得研磨劑 62被噴射以撞擊母版坯體21a的表面來在母版坯體21a的表面上形成凹坑和凸起。噴砂設備是用於使用加壓氣體(例如，空氣或氮氣)將研磨劑62從噴槍61噴出並將研磨劑62噴射向作為工件的母版坯體21a，從而處理母版坯體21a的表面的設備。在所示實例中，在下面所述的預定條件下進行噴砂處理，同時旋轉母版坯體21a。研磨劑62優選地為由例如樹脂、玻璃、金屬或陶瓷等製成並具有球形或具有角 (例如，多角形)的形狀的顆粒。具體地，具有角的顆粒是優選的。顆粒的實例包括玻璃珠，氧化鋯顆粒，鋼格(steel grid)，鋁顆粒以及矽顆粒。研磨劑62的平均尺寸優選地為1 μ m 1000 μ m,更優選地為5 μ m 600 μ m，更進一步優選地為5 μ m 50 μ m。此外，一粒研磨劑62的重量優選地為0. 002mg 8mg。母版坯體21a由適於進行噴砂處理的材料製成。所述材料優選地為樹脂或金屬， 例如鋁、銅或鋼。具體地，鋁是優選的。將母版坯體21a的尺寸設置成其寬度適用於光學膜 1(具有例如，帶狀形狀)的寬度。如5A所示，優選地將研磨劑62的噴射條件設置為使得研磨劑62噴向母版坯體 21a的主表面的角度(傾斜角)在所有點都小於90°。更具體地，母版坯體21a的主軸與噴槍61之間形成的角度θ優選地為0 60°，更優選地為0 20°，並且更進一步優選地為0 10°。在所示出的實例中，通過以10°的角度θ噴射研磨劑62，在研磨劑62的噴射方向和垂直於噴射方向的方向之間可以形成不同的凹槽間距。此外，可以將噴射方向上的表面粗糙的輪廓形成為關於光漫射板的主軸(即，主表面的法線)不對稱。撞擊母版坯體21a的研磨劑62切割或使母版坯體21a的表面變形的同時損失其能量，然後以一定的角度向母版坯體21a的上方散射。通過設置上述噴射條件，由於研磨劑 62以特定的角度撞擊母版坯體21a，所以坯體的表面通過在橫向(X軸方向)和縱向(Y軸方向)之間不同方向上的研磨劑62的撞擊而變形。在圖5A和5B中所示的條件下，例如， 變形的形狀(凹槽)X軸方向上的尺寸比Y軸方向上的尺寸長。換句話說，X軸方向上的表面粗糙具有比Y軸方向上更大的間距。可以通過母版坯體21a、研磨劑62和噴砂處理條件 (例如，噴射研磨劑62的條件)的各種參數來調節表面粗糙的間距和其他的參數。例如，當使用具有更大尺寸的研磨劑時，表面粗糙的間距在X軸方向和Y軸方向上均增大。此外，當使用具有更大密度的研磨劑時，可實現具有更深形狀的凹槽。可以根據槍61中的壓縮空氣的壓力(其決定了研磨劑62被噴射時研磨劑62的能量)，噴槍61的角度，噴槍61和母版坯體21a之間的距離，研磨劑62的形狀、密度和硬度，母版坯體21a的材料質量等來控制在研磨劑62的噴射方向上的噴砂處理之後的母版坯體21a的形狀。可以根據研磨劑62的形狀和硬度來控制在垂直於研磨劑62的噴射方向的方向上噴砂處理之後的母版坯體21a的形狀。此外，由於研磨劑62使母版坯體21a變形而同時損失能量時所沿著的軌跡和由排斥力的作用研磨劑62從母版坯體21a被散射時所沿著的軌跡不是對稱的，所以母版坯體21a可以被噴砂處理成具有關於母版坯體21a的主軸是非對稱的形狀。通過採用在上述噴射條件下製成的母版，光學膜1可以被製造成在縱向和橫向之間具有不同的漫射角，或者在其縱向和橫向之間在散射特性上各向異性。在如圖5A和5B 中所示的研磨劑62的噴射條件下，例如，被母版坯體21a反射或穿過母版坯體21a的光的漫射角在X-方向上較窄而在Y-方向上較寬，並且漫射特性中的亮度峰值移向X-方向上的 Xl側。換句話說，除了被母版坯體21a反射或穿過母版坯體21a的光的漫射角在X-方向上較窄而在Y-方向上較寬外，當測量已經被發射而以0°入射角進入漫射表面之後由漫射表面漫射的光的角度依賴性時，最大亮度的軸相對於光漫射板的主表面的法線方向向Xl 側傾斜，並且亮度分布關於最大亮度的軸是非對稱的。此外，隨著將噴槍61設置為相對於母版坯體21a位於更水平的姿勢，S卩，隨著將角度θ設置為更小的值，可以增大隨後所述的光漫射板的漫射角度的縱橫比，並提供所獲得的更好效果的散射特性的各向異性。研磨劑62以噴槍61的中心軸和母版坯體21a之間的角度θ從噴槍61噴出，並具有關於所述中心軸的角寬α。換句話說，研磨劑62在β 1 β 2的角度範圍內進入並撞擊母版坯體21a。角寬α通常約為10°。當對面積較小的母版坯體21a進行噴砂處理時，將角寬α設置成較小的值，或將將噴槍61和母版坯體21a之間的距離設置成較小的值。當對面積較大的母版坯體21a進行噴砂處理時，在持續進行噴砂處理的同時平穩地移動噴槍61或母版坯體21a。在所示的實例中，當持續地將研磨劑62從噴槍61噴出時，噴槍61在母版坯體21a 上方掃描使得對整個母版坯體21a的主表面進行噴砂處理。(通過光刻和蝕刻處理母版表面的方法)圖6A 圖6E示出了用來說明通過光刻和蝕刻來處理母版主表面的方法的一個實例的連續步驟。(抗蝕層形成步驟)首先，在母版坯體21a(即，加工件)的表面上形成抗蝕層71 (參見圖6A)。母版坯體21a(S卩，加工件)可以是，例如，板、薄片、薄膜、塊、圓筒狀、圓柱狀或圓環狀的形式。抗蝕層71例如可由無機抗蝕劑或有機抗蝕劑製成。當母版坯體21a為圓筒體或圓柱體的形式時，抗蝕層71優選地形成在圓筒體或圓柱體的外圓周表面上。(曝光步驟)接著，使用光Ll (例如，雷射束)照射抗蝕層71以隨機地在抗蝕層71中形成曝光部分71a(參見圖6B)。抗蝕層71中形成的曝光部分71a例如可以具有圓形或基本上為圓形的形狀。(顯影步驟)接著，將包括形成在其中的曝光部分71a的抗蝕層71顯影。結果，在抗蝕層71中形成對應於曝光部分71a的開口 71b(參見圖6C)。開口 71b優選地具有半徑不同的圓形形狀。儘管圖6C示出了其中通過將正型抗蝕劑用作抗蝕層71來在曝光部分71a中形成開口 71b的實例，但此時使用的抗蝕劑並不限於正型。換句話說，可以通過使用負型抗蝕劑作為抗蝕層71而留下曝光部分。(蝕刻步驟)接著，通過使用包括形成在其中的曝光部分71a的抗蝕層71作為掩膜來蝕刻母版坯體21a的表面。結果，在母版坯體21a的表面中形成具有不同深度和/或不同半徑的凹坑72(參見圖6D)。每個凹坑72優選地具有部分球形。術語「部分球形」表示通過切下球形或基本球形的部分而得到的形狀。例如，可以通過幹法蝕刻或溼法蝕刻來進行蝕刻。從設備的簡易性考慮，溼法蝕刻是更優選的。此外，例如，可以通過各向同性蝕刻或各向異性蝕刻來進行蝕刻。根據期望的隨機凹凸形狀，適當地優選選擇各向同性蝕刻或各向異性蝕刻。(抗蝕層剝落步驟)接著，如果需要，例如，通過灰化處理將形成在母版坯體21a的表面上的抗蝕層71 剝落。
(電鍍步驟)接下來，如果需要，使母版21的凹凸表面經受電鍍以形成電鍍層，例如鎳鍍層。通過上述步驟得到了具有隨機凹凸形狀的母版21。(轉印步驟)接著，如圖4B和6E所示，例如，通過熱加壓法或轉印方法將母版21的隨機凹凸形狀轉印至薄膜形式的樹脂材料。例如，可以通過將能量射線固化型樹脂倒入模具中並使用能量射線照射樹脂而將其固化的處理，或向可固化樹脂施加熱或壓力的處理，或在施加熱的同時從貯料輥提供樹脂薄膜並將模具的形狀轉印至樹脂薄膜(稱為層壓轉印方法)的處理來實現轉印方法。結果，如圖4C中所示，形成了在其一個主表面上具有隨機凹凸形狀的第一光學層4。此外，如圖4C所示，第一光學層4可以形成在第一基板如上。例如，可以通過從貯料輥提供薄膜形式的第一基板如，在第一基板如上塗覆能量射線固化型樹脂，將樹脂按壓在模具上以將模具的形狀轉印至樹脂，以及使用能量射線照射樹脂而將其固化的處理來實現這種情況。優選地，樹脂進一步包含交聯劑。原因在於，交聯使得樹脂具有耐熱性而不會很大程度地改變室溫下的儲能模量。(膜形成步驟)接下來，如圖7A所示，在第一光學層4的一個主表面上形成波長選擇性反射層3。 例如，可以通過濺射、蒸發、CVD(化學氣相沉積)、浸漬塗覆、脫模塗覆(die coating)、溼法塗覆和噴塗來形成波長選擇性反射層3。接著，如圖7B所示，如果需要，使波長選擇性反射層3經受如31所表示的退火。退火的溫度例如在100°C以上且250°C以下的範圍內。(嵌入步驟)接著，如圖7C所示，在波長選擇性反射層3上塗覆非固化狀態的樹脂22。樹脂22 例如可以是能量射線固化型樹脂或熱固化型樹脂。此處可使用的能量射線固化型樹脂優選的是紫外線固化型樹脂。接下來，如圖8A所示，通過在樹脂22上放置第二基板fe形成疊層。接下來，如圖8B所示，在對疊層施加由33表示的壓力的同時例如通過施加由32表示的能量射線或熱來固化樹脂22。此處可使用的能量射線的實例包括電子射線、紅外線、可見光線和伽馬射線。從生產設備的角度考慮，紫外線是更優選的。優選地，考慮到樹脂的固化特性、樹脂和第二基板fe的黃化的抑制等，適當地選擇綜合照射量。施加至疊層的壓力優選地在大於等於0. OlMPa且小於等於IMPa的範圍內。如果施加的壓力小於0. OlMPa，在薄膜的傳送中可能出現問題。另一方面，如果施加的壓力超過IMPa，則需要使用金屬卷輥作為夾軋輥，並且施加的壓力更易于波動。通過上述步驟，如圖8C所示，第二光學層5形成在波長選擇性反射層3上，從而得到光學膜1。下面將詳細描述利用圖3中所示的製造設備形成光學膜1的方法。首先，將第二基板如從基板供應輥(未示出)拉出，並將拉出的第二基板fe引導通過塗覆裝置45下方。 接著，通過塗覆裝置45將電離射線固化型樹脂44塗覆在正通過塗覆裝置45下方的第二基板fe上。接著，將塗覆有電離射線固化型樹脂44的第二基板fe傳送至層壓輥41和42。 另一方面，將粘貼有反射層的光學層9從光學層供應輥(未示出)拉出並傳送至層壓輥41 和42。接下來，以這種方式傳送的第二基板fe和粘貼有反射層的光學層9被夾在層壓輥41和42之間，不允許氣泡進入第二基板如和粘貼反射層的光學層9之間，從而粘貼有反射層的光學層9被層壓在第二基板fe上。接著，包括層壓的粘貼有反射層的光學層9的第二基板如被沿著層壓輥41的外圓周表面傳送同時照射裝置46用電離射線從包括第二基板 5a的一側照射電離射線固化型樹脂44，從而固化電離射線固化型樹脂44。結果，第二基板 5a和粘貼有反射層的光學層9通過介於其之間的電離射線固化型樹脂44彼此粘合，從而製成了具有長尺寸的目標光學膜1。接著，通過卷輥(未示出)將製成的帶形光學膜1捲起。 最終，得到帶形光學膜1的卷繞形式的儲存卷。假設在上述形成第二光學層5的過程中處理溫度為t°C，固化狀態的第一光學層 4在(t-20)°C優選地具有大於等於3 X IO7Pa的儲能模量。這裡，處理溫度t例如為層壓輥 41的加熱溫度。例如，以第一光學層形成在第一基板如上的狀態來傳送第一光學層4，並且以第一基板如介於第一光學層4和層壓輥41之間的方式來傳送第一光學層4。因此，從經驗上可以確定的是，第一光學層4的實際溫度約為(t-20)°C。因此，在(t-20)°C，通過將第一光學層4的儲能模量設置成大於等於3X IO7Pa,可防止光學層內部界面的隨機凹凸形狀由於施加熱或施加熱和壓力而導致變形。此外，第一光學層4在25°C優選地具有小於等於3 X 109 的儲能模量。由於這樣的特性，可以使光學膜1在室溫時具有柔韌性。因此，例如，可以使用卷輥對卷輥製造工藝來製造光學膜1。考慮用作光學層或基板的樹脂的耐熱性，處理溫度t優選為200°C以下。然而，當使用具有更高耐熱性的樹脂時，可以將處理溫度t設置為200°C以上。根據第一實施方式，由於光學膜包括具有隨機凹凸形狀的漫反射表面，所以可以抑制衍射圖案的產生。此外，由於例如通過噴砂處理方法、雷射相干方法或利用光刻和蝕刻的方法來製造具有隨機凹凸表面的母版21，所以大大縮短了製造母版所需的天數。相反，例如，當為了控制被光學膜反射的光的方向而根據設計以規則的凹凸形狀製造寬度為大於等於lOOGm、直徑大於等於20cm的輥形母版時，需要花費大量的時間和財力。另一個問題在於，如果在加工的過程中出現事故(例如地震)，則母版變得不可用。此外，根據第一實施方式，由於作為部分反射層的波長選擇性反射層3形成在轉印有母版的隨機凹凸形狀的漫反射表面上，所以，可以將部分太陽光向上反射至天空。此外，由於第一光學層4嵌入有折射率與第一光學層4的折射率基本相同的第二光學層5並且第二光學層5具有平滑的表面，所以仍能夠清晰地觀察到透射圖像。<2.第二實施方式〉圖9A是示出根據第二實施方式的光學膜1的結構的一個實例的截面圖。在第二實施方式中，與第一實施方式中的那些相同或對應的部件由相同的符號的表示，並且省略了那些部件的描述。根據第二實施方式的光學膜1與根據第一實施方式的光學膜的不同之處在於前者是具有漫反射能力的半透射光學膜並且它包括作為部分反射層的半透射性層 52。具有漫反射能力的半透射光學膜漫反射部分入射光，但使入射光的剩餘部分透射通過。圖9B是說明根據第二實施方式的光學膜的功能的放大截面圖。光學膜1具有光 L在其上入射的入射表面Si。光學膜1漫反射作為進入入射表面Sl的光L的一部分的光 La,同時使剩餘的光Lb透射通過。漫反射的光優選地是主要在大於等於400nm並小於等於 2IOOnm的波長帶內的光。
用作部分反射層的半透射性層52例如為不僅阻斷紅外光而且同時阻斷可見光的半透射反射層。因此，半透射反射層例如具有在可見光範圍和近紅外範圍內的半透射性。半透射反射層可以是，例如，薄金屬層或包含半導體材料的金屬氮化物層。考慮到提高抗反射特性、色調調節、化學潤溼、對抗環境惡化的可靠性等，優選地以層疊有例如氧化物層、氮化物層或氧氮化物層的多層結構來形成半透射反射層。在可見光範圍和紅外範圍內具有高反射率的金屬層例如可以由包含Au、Ag、°C U、 Al、Ni、Cr、Ti、Pd、Co、Si、Ta、W、Mo或Ge中的單獨一種或含有從這些元素中選擇的兩種以上的合金作為主要成分的材料製成。在這些實例中，考慮到實用性，Ag-、Cu-、Al-、Si-或 Ge-基材料是優選的。為了延緩金屬層的腐蝕，優選將諸如Ti或Nd的附加材料混入到金屬層中。金屬氮化物層可由例如TiN、CrN或WN製成。半透射性層52的平均膜厚例如可以設置為在大於等於2nm至小於等於40nm的範圍內。然而，半透射性層52的平均膜厚並不限於該範圍，只要半透射性層52在可見光範圍和近紅外範圍內具有半透射性。這裡，術語「半透射性」表示在大於等於500nm並小於等於 IOOOnm的波長的透射率優選地為大於等於5%並小於等於70%，更優選地為大於等於10% 並小於等於60%，更進一步優選地為大於等於15%並小於等於55%。術語「半透射性層」 表示在大於等於500nm並小於等於IOOOnm的波長的透射率優選地為大於等於5%並小於等於70%，更優選地為大於等於10%並小於等於60%，更進一步優選地為大於等於15%並小於等於55%。<3.第三實施方式〉在第三實施方式中，與第一實施方式中的那些相同或對應的部件由相同的符號的表示，並且省略了那些部件的描述。根據第三實施方式的光學膜1與根據第一實施方式的光學膜的不同之處在於，前者漫反射特定波長帶中的光，但散射特定波長帶外的光。根據第三實施方式的光學膜1包括用於散射入射光的光散射體。例如，將光散射體設置在光學層 2的表面上、光學層2內以及在波長選擇性反射層3和光學層2之間的位置中的至少一個中。優選地，將光散射體設置在波長選擇性反射層3和第一光學層4之間，第一光學層4內以及在第一光學層4的表面上的位置中的至少一個中。當將光學膜1粘貼至諸如窗構件的支撐物，它可被粘貼至支撐物的內側或外側。當將光學膜1粘貼至外側時，用於散射特定波長帶外的光的光散射體優選地僅設置在波長選擇性反射層3和支撐物(例如，窗構件)之間。原因在於，如果光散射體存在于波長選擇性反射層3和入射表面之間，就喪失了漫反射特性。此外，當將光學膜1粘貼至內側時，優選將光散射體設置在與光學膜1的粘貼表面相對的一側上的出射表面和波長選擇性反射層3之間。圖IOA是示出根據第三實施方式的光學膜1的結構的第一實例的截面圖。如圖 IOA中所示，第一光學層4包括樹脂和微小顆粒11。微小顆粒11具有與作為第一光學層4 的主要構成材料的樹脂不同的折射率。例如，可以將有機微小顆粒和無機微小顆粒中的至少一種用作微小顆粒11。微小顆粒11可以是中空的微小顆粒。微小顆粒11的實例包括由例如矽石或氧化鋁製成的無機微小顆粒和例如由苯乙烯、丙烯或前面兩種的共聚物製成的有機微小顆粒。在這些實例中，矽石微小粒子是最優選的。圖IOB是示出根據第三實施方式的光學膜1的結構的第二實例的截面圖。如圖 IOB所示，光學膜1還包括在第一光學層4的表面上的光漫射層12。光漫射層12例如包括樹脂和微小顆粒。微小顆粒可以由與上述第一實例中使用的相同的材料製成。圖IOC是示出根據第三實施方式的光學膜1的結構的第三實例的截面圖。如圖IOC 中所示，光學膜1還包括在波長選擇性反射層3和第一光學層4之間的光漫射層12。光漫射層12例如包括樹脂和微小顆粒。微小顆粒可以由與上述第一實例中使用的相同的材料製成。根據第三實施方式，能夠漫反射特定波長帶中的光(例如，紅外線)，並散射特定波長帶外的光(例如，可見光)。因此，通過使光學膜1變朦朧(clouded)而使光學膜1具有引人注目的設計。<4.第四實施方式〉圖11是示出根據第四實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖。在第四實施方式中，與第一實施方式中的那些相同或對應的部件由相同的符號的標識，並且省略了那些部件的描述。第四實施方式與第一實施方式的不同之處在於，前者還包括自身產生清潔效果的自潔效果層(self-cleaning effect layer) 51，該自潔效果層51在與光學膜1 的入射表面Sl和出射表面S2中的粘貼至粘附體的一個相對的側面上的光學膜1的暴露面上。所述自潔效果層51例如包括光催化劑。例如，可以將TiO2用作光催化劑。如上所述，光學膜1的特徵在於使部分入射光透過。當光學膜1用在室外或髒的房間中時，例如，光由於粘附在光學膜1的表面上的汙垢或灰塵而被散射，從而喪失了透射性和反射性。因此，光學膜1的表面優選地在在任何時候都是光學透明的。換句話說，優選地，光學膜1的表面具有優良的防水或親水特性並且它可以自動產生自身清潔效果。根據第四實施方式，由於光學膜1包括自潔效果層51，可使入射表面具有防水或親水特性等。因此，能夠抑制汙垢和灰塵粘附至入射表面從而抑制漫反射特性的劣化。圖12是示出根據第五實施方式的光學膜的結構的一個實例的截面圖。在第五實施方式中，與第一實施方式中的那些相同或對應的部件由相同的符號表示，第四實施方式與第一實施方式的不同之處在於，如圖12中所示，通過使用珠子53形成第一光學層4的隨機凹凸形狀。將很多珠子53埋在第二光學層5的一個主表面中使得珠子部分地從所述一個主表面突出。此外，焦點層M、波長選擇性反射層3和第一光學層4順序地堆疊在掩埋有珠子53的第二光學層5的一個主表面上。珠子53例如具有球形形狀。珠子53優選地具有透明性。珠子53由無機材料(例如，玻璃)或有機材料(例如，高聚樹脂)作為主要成分而製成。優選地，珠子53以不同的量從第二光學層5突出，和/或珠子53具有不同的尺寸。 結果，第一光學層4上的波長選擇性反射層3的形狀可以隨機地變化。<6.第六實施方式〉儘管通過實例的方式，結合將本發明的實施方式應用至窗構件的情況描述了第一實施方式，但本發明的實施方式不限於上述應用並還可以被應用至除窗構件外的各種內部和外部構件等。換句話說，根據本發明的實施方式的光學膜不僅能夠應用於固定安裝的內部和外部構件(例如，牆壁和天花板)，還可以應用至能夠根據由於季節變化和時間流逝等而導致的陽光的量的改變通過移動內部或外部構件調節透射和/或反射的陽光的量，並且將陽光的調節的量照進室內空間等的裝置。在第六實施方式中，結合能夠通過改變遮陽構件組的角度，調節一組遮陽構件阻擋入射光的程度的遮陽設備(以百葉窗或遮光簾的形式)描述這種裝置的一個實例。圖13是示出根據第六實施方式的百葉窗(遮光簾)201的結構的一個實例的透視圖。如圖13所示，作為遮陽設備的一個實例的百葉窗201包括頂盒203，由多個板條(窄片)202a構成的板條組(遮陽構件組)202，和下橫檔204。頂盒203設置在由多個板條20 構成的板條組202上方。階梯弦繩(Ladder chord) 206和升降弦繩205從頂盒203開始向下延伸，並且下橫檔204懸吊在這些弦繩的下端處。用作遮陽構件的板條20 每個例如都以細長的長方形形成，並且以懸吊的狀態預定的間隔被從頂盒203開始向下延伸的梯度弦繩206支撐。此外，頂盒203設置有用於調節由多個板條20 構成的板條組202的角度的操作構件(未示出)，例如，杆。將頂盒203用作用來根據操作構件(例如，杆)的操作旋轉由多個板條20 構成的板條組202，從而調節照進例如室內空間的光的量的驅動裝置。此外，頂盒203具有用於根據操作構件(例如，升降操作弦繩207)的操作適當地升降板條組202的驅動裝置(升降裝置)的功能。圖14A是示出板條20 的結構的第一實例的截面圖。如圖14A中所示，板條20 包括基板211和光學膜1。優選地將光學膜1設置在基板211的兩個主表面中的一個上，該一個主表面位於當板條組202處於閉合狀態時包括外部光照射在其上的入射表面的一側上(例如，在面向窗構件的一側上)。光學膜1和基板211通過介於其間的粘貼層(例如， 粘結層或粘合層)彼此粘合。基板211可以以例如薄片、薄膜或薄板的形狀形成。基板211例如由玻璃、樹脂、紙或布製成。考慮使可見光照進預定的室內空間的情況，例如，優選地將具有透明性的樹脂用作基板211的材料。此處使用的玻璃、樹脂、紙或布可與在普通的捲簾中通常使用的相同。 此處使用的光學膜1可以是根據上述第一至第五實施方式的光學膜1的一種或兩種以上的組合。圖14B是示出板條20 的結構的第二實例的截面圖。在第二實例中，如圖14B中所示，將光學膜1自身用作板條20加。在這種情況下，光學膜1優選地具有以下程度的剛度，即，光學膜1可以通過階梯弦繩206支撐並可以在支撐狀態中保持其形狀。<7.第七實施方式〉下面將結合捲簾裝置，S卩，能夠通過捲起或放下遮陽構件來調節遮陽構件阻擋入射光的程度的遮陽設備的另一個實例，來描述第七實施方式。圖15A是示出根據第七實施方式的捲簾裝置301的結構的一個實例的透視圖。如圖15A中所示，作為遮陽設備的另一個實例的捲簾裝置301包括帘布302、頂盒303和芯構件304。頂盒303可以通過操作構件(例如，鏈305)的操作升降帘布302。頂盒303中包括用於捲起或放出帘布302的卷繞軸，並且帘布302的一端與所述卷繞軸相連。此外，芯構件304與帘布302的另一端相連。優選地，帘布302具有柔韌性。帘布302的形狀不限於具體的形狀，並且優選地根據捲簾裝置301所應用的例如窗構件的形狀來選擇。例如，帘布 302具有矩形形狀。15B是示出帘布302的結構的一個實例的截面圖(沿圖15A中的線XVB-XVB)。如圖15B中所示，帘布302包括基板311和光學膜1。帘布302優選地具有柔韌性。光學膜1 優選地設置在基板311的兩個主表面中的一個上，該一個主表面位於包括外部光照射在其上的入射表面的一側上(例如，在面向窗構件的一側上)。光學膜1和基板311通過介於其間的粘貼層(例如，粘結層或粘合層)彼此粘貼。注意，帘布302的結構並不限於示出的實例並且光學膜1可以將自身用作帘布302。基板311可以以例如薄片、薄膜或薄板的形狀形成。基板311例如由玻璃、樹脂、 紙或布製成。考慮使可見光照進例如預定的室內空間的情況，優選地將具有透明性的樹脂用作基板311的材料。此處使用的玻璃、樹脂、紙或布可與在普通捲簾中通常使用的相同。 此處使用的光學膜1可以是根據上述第一至第五實施方式的光學膜1的一種或兩種以上的組合。將結合將本發明應用至包括設置有具有漫反射能力的光學體的照明部分的建築配件(例如，內部或外部構件)的情況描述第八實施方式。圖16A是示出根據第八實施方式的建築配件401的結構的一個實例的透視圖。如圖16A中所示，建築配件401包括設置有光學體402的發光部分404。更具體地，建築配件 401包括光學體402和設置在光學體402的外圍部分中的框架構件403。光學體402由框架構件403固定支撐，但如果需要，通過拆卸框架構件403可以移動光學體402。建築配件 401的一個實例是障子(即，紙糊和/或安裝玻璃的滑動門)，但本發明的應用並不限於該實例並且本發明的實施方式可被應用至包括照明部分的各種類型的建築配件。圖16B是示出光學體的結構的一個實例的截面圖。如圖16B中所示，光學體402 包括基板411和光學膜1。光學膜1優選地設置在基板411的兩個主表面中的一個上，該一個主表面位於包括外部光照射在其上的入射表面的一側上(例如，在面向窗構件或向外的一側上)。光學膜1和基板411通過介於其間的粘貼層(例如粘結層或粘合劑層)彼此粘貼。注意，障子(特別是光學體402)的結構並不限於示出的實例並且光學膜1可以將自身用作光學體402。基板411例如可以由均具有柔韌性的薄片、薄膜或薄板形成。基板411例如由玻璃、樹脂、紙或布製成。考慮使可見光照進例如預定的室內空間的情況，優選地將具有透明性的樹脂用作基板411的材料。此處使用的玻璃、樹脂、紙或布可與在普通捲簾中通常使用的相同。此處使用的光學膜1可以是根據上述第一至第五實施方式的光學膜1的一種或兩種或以上的組合。[實例]儘管下面將結合實例描述本發明，但本發明並不限於下面的實例。在下面的實例和對比實例中，如下測量反射層的平均膜厚。首先，通過利用FIB(聚焦離子束)切割光學膜以形成截面。然後，通過使用 TEM(透射電子顯微鏡)沿垂直於入射表面或出射表面的方向測量反射層的膜厚。在光學膜上的任意10個點重複測量，並且將測量的結果簡單的平均(算術平均)，從而得到平均膜厚。(實例1)首先，準備由POCPhysical Optics Corporation)製成並且是利用雷射幹涉法製造的透射各向異性漫射板(商品名稱LSD40X20。，丙烯板型)(垂直於薄膜進入的入射光所產生的透射光關於薄膜平面的第一軸線和垂直於第一軸線的軸線的FWHM角度分別是 40°和20° )作為下層成形薄膜(成形樹脂層)。在下層成形薄膜上，利用具有配比為Ag/ Bi = 99. Oat% /1. Oat%的合金靶材濺射形成平均膜厚為12nm的AgBi薄膜作為反射層。接著，將定製的與透射各向異性板(商品名稱LSD40X20。)的折射率匹配的UV 固化樹脂(成分)塗覆在如上所述形成的下層薄膜上(具體地，在反射層上)，並且將具有 75 μ m厚度的PET膜(由Toyobo Co. ,Ltd.製造的A4300)設置在其上。在清除氣泡後，通過使用UV光照射塗覆的樹脂來將其固化。結果，通過固化在平滑的PET薄膜和反射層之間的樹脂成分形成了樹脂層(下文中稱為「嵌入樹脂層」)。從而，得到目標光學膜。(實例2)除了將由POC製造的透射漫射板(商品名稱DDS40° )用作下層成形薄膜(成形樹脂層)之外，通過與實例1相同的方法得到光學膜。(實例3)通過在下面的條件下斜噴砂來製造用於複製各向異性光漫射板的母版(1)用於製造母版的坯體鋁卷輥QOcm的直徑)(2)噴砂處理條件噴砂處理設備(由Fuji Manufacturing Co.，Ltd.製造，型號名稱:SGF_4⑷)研磨粉氧化鋁(目數#180，平均顆粒尺寸76μπι)噴槍和母版坯體之間的距離50mm噴槍和母版坯體之間形成的角度8°壓縮空氣的壓力0. 5MPa向母版坯體的表面噴射研磨粉的狀態圖5A和5B中所示的狀態噴槍的掃描條件在卷輥旋轉的同時噴槍沿圖5A和5B中的X-方向以5mm的間距掃描接著，聚氨酯丙烯酸酯(由T0AG0SEI CO.，LTD.製造的AR0NIX，固化後折射率為 1. 533)塗覆在厚度為75 μ m的PET膜(由Toyobo Co.，Ltd.製造的A4300)上。在通過卷輥對卷輥過程保持包括塗覆的聚氨酯丙烯酸酯的PET膜與母版緊密接觸的狀態下，用UV光從PET薄膜側照射聚氨酯丙烯酸酯來將其固化。將PET膜和由固化的聚氨酯丙烯酸酯構成的樹脂層的壓層從母版剝下。結果，在PET薄膜上形成了母版的形狀被反轉轉印至其的樹脂層(下文稱為「成形樹脂層」)。在成形樹脂層的表面上，通過與實例1相似的方法通過濺射以12nm的平均膜厚形成AgBi作為反射層。接下來，將下面給出的定製的樹脂成分塗覆在反射層上，並且將厚度為75 μ m的 PET膜(由Toyobo Co.，Ltd.製造的A4300)設置在其上。在使壓層通過軋輥並清除氣泡後，使用UV照射塗覆的樹脂使其固化。結果，通過固化在平滑的PET薄膜和反射層之間的樹脂成分形成了嵌入樹脂層。從而，得到目標光學膜。〈樹脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯⑴rethane acrylate) 99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.製造的 AR0NIX,固化後折射率為 1. 533)2-丙烯醯氧乙基磷酸酉旨(2-acryloyloxyethyl acid phosphate) 1 重量份
(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.製造的 LIGHT-ACRYLATE P-1A)(實例4)除了形成IOnm厚的AlTi薄膜作為部分反射層之外，以與實例3相同的方式得到
光學膜。(實例5)除了將如下面給出的定製樹脂成分用作嵌入樹脂層的材料，並且將嵌入樹脂層和成形樹脂層之間的折射率的差設置成0. 003之外，以與實例4相同的方式得到光學膜。〈樹脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.製造的 AR0NIX,固化後折射率為 1. 536)2-丙烯醯氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.製造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實例6)除了將如下面給出的定製樹脂成分用作嵌入樹脂層的材料，並且將嵌入樹脂層和成形樹脂層之間的折射率的差設置成0. 006之外，以與實例4相同的方式得到光學膜。〈樹脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.製造的 AR0NIX,固化後折射率為 1. 539)2-丙烯醯氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.製造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實例7)除了將如下面給出的定製樹脂成分用作嵌入樹脂層的材料，並且將嵌入樹脂層和成形樹脂層之間的折射率的差設置成0. 009之外，以與實例4相同的方式得到光學膜。〈樹脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI C0.，LTD.製造的 AR0NIX,固化後折射率為 1. 542)2-丙烯醯氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.製造的 LIGHT-ACRYLATE Ρ-ΙΑ)(實例8)除了通過從下側開始順序層疊GAZO (27nm) ,AgNdCu (9nm)和GAZO (88nm)膜來形成部分反射層(波長選擇性反射層)之外，以與實例3相同的方式得到光學膜。(實例9)除了通過從下側開始順序層疊GAZO(平均膜厚為27nm)、AgNdCu(平均膜厚為 9nm)、GAZ0 (平均膜厚為88nm)、AgNdCu (平均膜厚為9nm)和GAZO (平均膜厚為27nm)膜來形成部分反射層(波長選擇性反射層)之外，以與實例3相同的方式得到光學膜。(對比實例1)通過在具有平滑表面的PET薄膜(由Toyobo Co.，Ltd.製造的A4300，厚度為 75 μ m)上形成平均膜厚為IOnm的AlTi薄膜得到光學膜。(對比實例2)
除了將部分反射層(波長選擇性反射層)形成為平均厚度為IOOnm的AlTi薄膜之外，以與實例3相同的方式得到光學膜。(對比實例3)除了將下面給出的定製樹脂成分用作嵌入樹脂層的材料，並且將嵌入樹脂層和成形樹脂層之間的折射率的差設置成0. 012之外，以與實例4相同的方式得到光學膜。〈樹脂成分的劑型〉聚氨酯丙烯酸酯99重量份(由 T0AG0SEI CO.，LTD.製造的 AR0NIX,固化後折射率為 1. 545)2-丙烯醯氧乙基磷酸酯1重量份(由 KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.製造的 LIGHT-ACRYLATE P-1A)(光譜透射率和色度的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估光譜透射率。通過使用由Shimadzu Corporation生產的DUV3700測量可見光範圍和紅外範圍內的光譜透射率。將進入每個樣本的光的入射角都設置成0° (即，垂直入射)，對線性透射光進行測量。測量的光譜透射率波形繪製在圖18A、圖19A和圖20A中。通過將進入每個樣本的光的入射角都設置成8°並使用積分球接收反射光，使用同樣的測量設備(DUV3700)來測量光學膜的光譜反射率。測量的光譜反射率波形繪製在圖 18B、圖19B和圖20B中
(漫反射的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估反射角的分布。使用以小於等於0. 5°的平行度校準的滷光源501 (圖21)，通過從滷光源501發出並然後被半反射鏡502反射的入射光照射樣本503。樣本503反射的光由檢測器504檢測。通過在樣本503以相對於入射光傾斜45°的姿勢設置且繞著垂直於入射光的軸旋轉360° (Φπι)的同時在0 90° (em)的範圍內掃描檢測器504，從而在極坐標上繪製900nm 1550nm的波長處的反射強度的平均值(參見圖21和22)。在圖23 圖25中作為評估結果的實例示出了實例1 實例3的測量結果。注意，對於在漫反射上各向異性的實例1 實例3，通過設置其中漫反射的光傳播到Φπι 90°的更寬的角度的方向來執行測量。此外，對於實例1 實例3，在包含入射光軸線和鏡面反射的光軸線的方位角中繪製的反射強度的結果曲線表示在圖^A、圖26Β和圖27中。在圖^A、圖26Β和圖27中，θ = 0°表示垂直於樣本表面的軸線，並且「負數」表示向下的反射。向上的反射表示當樣本503設置在垂直平面中時相對於水平面向上反射的分量。儘管可以根據圖22中的極坐標圖來計算向上反射率， 但計算方法是複雜的。由於這個原因，這裡基於均表示入射面中的反射強度分布的圖2隊、 圖26Β和圖27的曲線來以簡單的方式計算向上的反射率。對於圖^A、圖26Β和圖27的曲線圖，對除了鏡面反射光之外的漫反射光補償了對應於由半反射鏡(halfmirror)502導致的強度降低的分量和對應於由雜散光導致的強度的增加的分量(參見每個曲線圖中計算數據(L2)的曲線)。在這種情況下，由於測量光學系統的特定布局導致在低於鏡面反射的方向上的反射沒有被測量到，所以在反射強度的分布關於反射強度最大的軸垂直對稱的假設下作出曲線圖。此外，通過將向上的反射定義為朝向對應於比垂直於樣本表面的軸線的角度(Om = 45° )小的角度的一側的反射，並將向上反射率定義為(向上的反射/除鏡面反射外的所有反射分量)，在表1(在以下給出)中列出了向上反射率的計算結果。從該計算結果，可以理解的是，向上反射率取決於反射層的形狀而與反射層的類型無關。此外，由於實例3中漫反射強度被最大化的方向根據光學膜的非對稱形狀而改變，所以在最大化的漫反射強度的方向和鏡面反射方向之間存在約10° Φπι的差。然而，不論選擇這兩個方向中的哪一個用於計算，向上反射率的計算結果僅彼此相差百分之幾。(透射圖像清晰度的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估透射圖像清晰度。根據JISK7105使用梳寬為2. OmmU. 0mm、0. 5mm和0. 125mm的光梳來測量透射圖像清晰度的值。用於評估的測量設備為由Suga Test Instruments Co.，Ltd製造的圖像清晰度測量設備(ICM-IT)。計算使用梳寬為2. OmmU. 0mm、0. 5mm和0. 125mm的光梳測量的透射圖像清晰度的總值。表1中列出了所得結果。此處使用的光源是D65光源。(混濁度的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估混濁度(haze)。通過使用(由 Murakami Color Research Laboratory Co.，Ltd 製造的)混濁度測量計HM-150在與JIS K7136 —致的測量條件下測量混濁度。表1中列出了測量結果。此處使用的光源是D65光源。(可見性的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估可見性。通過使用光學透明粘合劑將製造的薄膜粘貼至3mm厚的玻璃。保持該玻璃距離人眼約50cm，並且通過玻璃觀察約IOm距離的相鄰建築的內部基於以下的標準來評估可見性。表1中列出了評估結果。〇沒有由於衍射的發生而導致多重圖像或模糊，並且外部景物可以與當通過普通玻璃觀察時相似的方式觀察到Δ 在通常的使用中沒有出現問題，但如果存在具有類似反射鏡的表面的反射體， 反射體的周邊是稍微模糊的X 由於模糊，在相對(外)側出現的事物是難以辨別的X X 在相對(外)側上看不到景物(衍射圖案的評估)對於根據實例1-9和對比實例1-3的每個光學膜，如下評估衍射圖案。通過使用光學透明粘合劑將製造的薄膜粘貼至3mm厚的玻璃。保持該玻璃距離人眼約50cm，並且通過該玻璃觀察約500m距離的燈基於下面的標準來評估衍射圖案。在表1 中列出了評估結果。〇與當沒有粘貼薄膜時相似，可以沒有幹擾地觀察燈Δ 在燈周圍出現微弱的擴散區，但基本沒有感到幹擾X 在燈周圍出現斑狀強圖案(表面粗糙度的評估)如下評估使用通過傾斜噴砂製造的複製母版將隨機凹凸形狀轉印紙至其上的光學膜(實例幻的表面粗糙度。評估結果繪製在圖17Α和圖17Β中。通過使用探針型表面形狀測量儀器ΕΤ_4000(由Kosaka Laboratory Ltd.製造)測量光學膜的表面粗糙度並從二維輪廓曲線導出粗糙度曲線來獲得算數平均粗糙度Ra。按照JIS B0601 2001設置測量條件。測量條件的詳細內容如下Ac = 0.8mm，評估長度4匪，截止X 5，以及數據採樣間隔0. 5 μ m。從評估結果可發現下面的幾點。X-軸方向上的表面粗糙度間距比Y-軸方向上的表面粗糙度間距Py長。此外， 平均凹凸間隔Sm在X-軸方向上是0. 14而在Y-軸方向上是0. 08。(用於加工製造母版花費的天數的評估)對於根據實例1-9用於製造光學膜的複製母版，基於下面的標準評估了用於加工製造母版花費的天數。為了比較，基於相同的標準還評估了用於加工製造具有角錐形的複製母版花費的天數。〇2天內(在加工過程中由於地震等的發生而導致故障發生的風險是很低的。即使在加工過程中發生故障，通過再次加工可以快速簡單地製造母版，並且不影響光學膜的製造。因此，不需要特別的風險管理。)Δ 3到10天(在加工過程中存在由於地震等的發生導致故障發生的風險。如果在加工過程中發生故障，可通過進行再次加工來製造母版，但光學膜的製造可能受到影響。 因此優選考慮風險管理。)X 11天到1個月(在加工過程中由於地震等的發生導致故障發生的風險是很高的。如果在加工過程中發生故障，很難通過進行再次加工來製造母版，並且光學膜的製造受到嚴重的影響。因此，風險管理是必須的。)
權利要求
1.一種光學體，包括第一光學層，具有隨機凹凸表面；反射層，形成在所述凹凸表面上；以及第二光學層，形成在所述反射層上以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用於漫反射入射光中的特定波長帶中的光而透射所述特定波長帶之外的光的波長選擇性反射層。
2.一種光學體，包括第一光學層，具有隨機凹凸表面；反射層，形成在所述凹凸表面上；以及第二光學層，形成在所述反射層上以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用於漫反射部分入射光而透射剩餘的光的半透射性層。
3.根據權利要求1所述的光學體，其中，當使用梳寬為0.5mm的光梳按照JISK-7105 進行測量時，透射所述光學體的波長的光的透射圖像清晰度的值不小於50。
4.根據權利要求1所述的光學體，其中，當使用梳寬為0.125mm、0. 5mm、1. Omm和2. Omm 的光梳按照JIS K-7105進行測量時，透射所述光學體的波長的光的透射圖像清晰度的總值不小於230。
5.根據權利要求1所述的光學體，其中，所述第一光學層與所述第二光學層之間的折射率之差不大於0.010。
6.根據權利要求1中的光學體，其中，所述第一光學層和所述第二光學層由在可見光範圍內具有透明性的相同的樹脂製成，並且所述第二光學層包含一種以上添加劑。
7.根據權利要求1所述的光學體，其中，所述第一光學層和所述第二光學層中的至少一個吸收可見光範圍內的特定波長帶中的光。
8.根據權利要求1所述的光學體，其中，通過所述第一光學層和所述第二光學層形成光學層，以及所述光學體進一步包括在所述光學層的表面上、在所述光學層的內部以及在所述波長選擇性反射層和所述光學層之間的位置中的至少一個中的光散射體。
9.根據權利要求1所述的光學體，進一步包括在所述光學體的入射表面上的防水或親水層。
10.根據權利要求1所述的光學體，其中，所述光學體漫反射所述特定波長帶中的光以防止所述特定波長帶中光進入預定的空間，同時使所述特定波長帶之外的光透射以進入所述預定的空間。
11.根據權利要求1所述的光學體，其中，所述波長選擇性反射層由包含在可見光範圍內具有透明性的導電材料作為主要成分的透明導電膜或包含根據外部刺激的施加而可逆地改變其反射特性的含鉻材料作為主要成分的功能膜製成。
12.根據權利要求2所述的光學體，其中，所述光學體漫反射部分入射光以防止所述部分入射光進入預定的空間，同時使剩餘的光透射以進入所述預定的空間。
13.根據權利要求2所述的光學體，其中，所述半透射性層在500nm以上至IOOOnm以下的波長範圍內具有5%以上且70%以下的透射率。
14.一種窗構件，所述窗構件包括根據權利要求1所述的光學體。
15.一種建築配件，所述建築配件包括設置有根據權利要求1所述的光學體的採光部分。
16.一種遮陽設備，所述遮陽設備包括一個或多個阻擋陽光的遮陽構件， 其中，所述遮陽構件包括根據權利要求1所述的光學體。
17.一種光學體製造方法，包括以下步驟 形成具有隨機凹凸表面的第一光學層； 在所述凹凸表面上形成反射層；以及在所述反射層上形成第二光學層以嵌入所述凹凸表面；其中，所述反射層是用於漫反射特定波長帶中的光而透射所述特定波長帶之外的光的波長選擇性反射層。
18.一種光學體製造方法，包括以下步驟 形成具有隨機凹凸表面的第一光學層； 在所述凹凸表面上形成反射層；以及在所述反射層上形成第二光學層以嵌入所述凹凸表面； 其中，所述反射層是用於漫反射部分入射光而使剩餘的光透射的半透射性層。
19.根據權利要求17所述的光學體製造方法，進一步包括在母版表面形成隨機凹凸表面的步驟，其中，在形成所述第一光學層的步驟中，所述母版表面中的所述隨機凹凸表面被轉印至所述第一光學層的材料，從而形成具有所述隨機凹凸表面的所述第一光學層。
20.根據權利要求19所述的光學體製造方法，其中，在母版表面中形成隨機凹凸表面的步驟中，通過噴砂處理法、雷射幹涉法或利用光刻和蝕刻的方法來在所述母版表面中形成所述隨機凹凸表面。
全文摘要
本發明涉及光學體、牆壁構件、建築配件以及遮陽設備。一種光學體包括具有隨機凹凸表面的第一光學層，形成在凹凸表面上的反射層以及在形成反射層上以嵌入凹凸表面的第二光學層，其中，反射層是用於漫反射入射光的特定波長帶中的光而透過特定波長帶之外的光的波長選擇性反射層。
文檔編號G02B5/02GK102289018SQ201110154530
公開日2011年12月21日 申請日期2011年6月9日 優先權日2010年6月16日
發明者榎本正, 谷島勝行, 長浜勉 申請人:索尼公司