一種熱升華轉印膜及其製備方法與流程

2023-12-09 19:29:31 3

本發明涉及熱轉印膜製備技術領域，具體為一種熱升華轉印膜及其製備方法。

背景技術：

熱轉印膜是熱轉印工藝的一種介質材料；熱轉印工藝是通過熱轉印膜一次性加熱，將熱轉印上的裝飾圖案轉印於承印物上，形成優質飾面膜的過程，在熱轉印過程中，利用熱和壓力的共同作用使保護層及圖案層從基片上分離，熱熔膠使整個裝飾層與基材永久膠合，熱轉印由於圖像受熱的關係，其成品後的圖像色彩會更加牢固，不易出現掉色的情況，它具有抗腐蝕，抗衝擊，耐老化，耐磨，耐高溫，防火，能保持十到數十年不變色的特點；現有的轉印膜製備工藝複雜，而且製得的轉印膜耐水耐光性能差。

技術實現要素：

本發明的目的在於提供一種熱升華轉印膜及其製備方法，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種熱升華轉印膜,包括基膜，所述基膜表面塗有塗層，所述塗層材料按重量份數包括澱粉2-8份、纖維素10-20份、聚乙烯醇2-8份、甘油4-10份、二氧化矽8-18份、硫酸鋇8-15份、氧化鋁7-16份、二氧化鈦8-20份、碳酸鈣10-20份以及聚氯乙烯樹脂4-10份。

優選的，所述基膜厚度為35-60μm，所述塗層的厚度為4-6μm。

優選的，所述塗層材料優選的成分配比為：澱粉5份、纖維素15份、聚乙烯醇5份、甘油7份、二氧化矽13份、硫酸鋇12份、氧化鋁13份、二氧化鈦14份、碳酸鈣15份以及聚氯乙烯樹脂7份。

優選的，其製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

優選的，所述步驟A中混煉機混煉溫度為80℃-90℃，混煉時間為40min-60min。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：

(1)本發明製備工藝簡單，製得的轉印膜耐光性能、耐水性能優越，同時能夠極大的減少被印面的劃傷、損傷率。

(2)本發明的製備方法中採用的塗層前將基膜表面乾燥，能夠增強塗層的附著力，提高了轉移效率。

(3)本發明採用在印刷前進行預塗層，能夠增強塗覆效果，當作被轉印體表面的保護墊，防止劃痕的出現。

具體實施方式

下面對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。

本發明提供一種技術方案：一種熱升華轉印膜,包括基膜，所述基膜表面塗有塗層，所述塗層材料按重量份數包括澱粉2-8份、纖維素10-20份、聚乙烯醇2-8份、甘油4-10份、二氧化矽8-18份、硫酸鋇8-15份、氧化鋁7-16份、二氧化鈦8-20份、碳酸鈣10-20份以及聚氯乙烯樹脂4-10份。

實施例一：

基膜厚度為35μm，塗層的厚度為4μm。

本實施例中，塗層材料按重量份數包括：澱粉2份、纖維素10份、聚乙烯醇2份、甘油4份、二氧化矽8份、硫酸鋇8份、氧化鋁7份、二氧化鈦8份、碳酸鈣10份以及聚氯乙烯樹脂4份。

本實施例的製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

本實施例中，步驟A中混煉機混煉溫度為80℃，混煉時間為40min。

實施例二：

基膜厚度為60μm，塗層的厚度為6μm。

本實施例中，塗層材料按重量份數包括澱粉8份、纖維素20份、聚乙烯醇8份、甘油10份、二氧化矽18份、硫酸鋇15份、氧化鋁16份、二氧化鈦20份、碳酸鈣20份以及聚氯乙烯樹脂10份。

本實施例的製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

本實施例中，步驟A中混煉機混煉溫度為90℃，混煉時間為60min。

實施例三：

基膜厚度為45μm，所述塗層的厚度為5μm。

本實施例中，塗層材料按重量份數包括澱粉3份、纖維素12份、聚乙烯醇3份、甘油5份、二氧化矽10份、硫酸鋇9份、氧化鋁8份、二氧化鈦10份、碳酸鈣12份以及聚氯乙烯樹脂5份。

本實施例的製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

本實施例中，步驟A中混煉機混煉溫度為82℃，混煉時間為45min。

實施例四：

基膜厚度為55μm，塗層的厚度為5μm。

本實施例中，塗層材料按重量份數包括澱粉7份、纖維素18份、聚乙烯醇7份、甘油9份、二氧化矽16份、硫酸鋇14份、氧化鋁14份、二氧化鈦18份、碳酸鈣18份以及聚氯乙烯樹脂8份。

本實施例的製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

本實施例中，步驟A中混煉機混煉溫度為88℃，混煉時間為55min。

實施例五：

基膜厚度為50μm，塗層的厚度為5μm。

本實施例中，塗層材料按重量份數包括：澱粉5份、纖維素15份、聚乙烯醇5份、甘油7份、二氧化矽13份、硫酸鋇12份、氧化鋁13份、二氧化鈦14份、碳酸鈣15份以及聚氯乙烯樹脂7份。

本實施例的製備方法包括以下步驟：

A、將澱粉、纖維素、聚乙烯醇、甘油、二氧化矽、硫酸鋇、氧化鋁、二氧化鈦、碳酸鈣以及聚氯乙烯樹脂混合後加入混煉機中混煉，混煉後加入高速攪拌機中攪拌，得到塗層；

B、將基膜放入低溫烘箱中乾燥，低溫烘箱溫度為45℃，乾燥時間為30min；

C、將步驟A得到的塗層預塗一層至步驟B得到的基膜表面，之後將基膜放入乾燥箱中乾燥，乾燥箱溫度為75℃，乾燥時間為30min；

D、在步驟C得到的基膜表面再塗一層步驟A得到的塗層即可。

本實施例中，步驟A中混煉機混煉溫度為85℃，混煉時間為50min。

本發明製備工藝簡單，製得的轉印膜耐光性能、耐水性能優越，同時能夠極大的減少被印面的劃傷、損傷率；本發明的製備方法中採用的塗層前將基膜表面乾燥，能夠增強塗層的附著力，提高了轉移效率；另外，本發明採用在印刷前進行預塗層，能夠增強塗覆效果，當作被轉印體表面的保護墊，防止劃痕的出現。

儘管已經示出和描述了本發明的實施例，對於本領域的普通技術人員而言，可以理解在不脫離本發明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發明的範圍由所附權利要求及其等同物限定。