臺積電正式公布 2nm 製程，預期2025年正式量產

2025-05-08 16:33:25

　　6月17日消息，在今日凌晨，臺積電於2022 年技術研討會上宣布旗下的N3工藝將於 2022 年內量產，後續還有 N3E、N3P、N3X 等迭代，值得注意的是，臺積電同時還宣布N2（2nm）工藝將於 2025 年量產。

　　根據臺積電官方的說法，旗下的N3工藝（3nnm製程）將會在今年進行量產，推出相對應產品。N2工藝（2nm製程）將會在2025年正式推出，並且將從現階段的 FinFET（鰭式場效應電晶體）轉換到環繞柵極電晶體 (GAAFET) 進行產品的製造，臺積電官方宣稱，N2節點也是臺積電首個採用到環繞柵極電晶體 (GAAFET) 工藝的節點。

　　根據臺積電公布的數據，新的製造工藝將提供全面的性能和功率優勢。在相同功耗下，N2 比 N3E 速度快 10~15%；相同速度下，功耗降低 25~30%。但是值得注意的是，N2工藝節點的電晶體密度僅比N3E節點高了10%左右。

　　根據臺積電官方的說法N2工藝節點後續會應用在各種移動 SoC、高性能 CPU 和 GPU，並且臺積電官方在提到的特性中寫道，N2工藝也會成為各類小晶片進行先進封裝的重要支撐。