GF：20nm節點即將投產EUV光刻技術！

2023-08-06 14:45:09 2

    泡泡網主板頻道12月1日 Globalfoundries副總裁Nick Kepler日前在IEEE納米技術委員會上就Globalfoundries在28nm Gate-first HKMG製程工藝及EUV光刻技術方面的進展和未來計劃做了演示說明。Kepler表示，Globalfoundries的gate-first工藝能夠提供足夠的電晶體門限電壓調整空間，其可調範圍超過了300mV,完全可以滿足產品的需求。他同時還宣稱公司在使用Gate-first工藝時並沒有出現由於費米栓現象而導致的門限電壓失控問題。另外他還指出Globalfoundries的gate-first工藝應對LVT（低門限電壓）/SLVT（超低門限電壓）產品時的性能是很穩定的。