東芝新快閃記憶體成本暴降SSD智能機價格春天

2025-05-08 03:21:24

    東芝將於2017年度採用新技術生產用於智慧型手機等的NAND型快閃記憶體。這是一種類似於蓋印章的電路形成技術，與原來的方式相比，工序成本被認為可降至三分之一。

    該類型存儲器的生產是處於經營重建的東芝的核心業務。將通過與大日本印刷等材料和設備廠商合作提高成本競爭力，以追趕份額持續優秀的韓國三星電子。

    東芝將導入與大日本印刷和佳能3家公司共同研究的名為「納米壓印光刻（NIL）」的新技術。計劃今後3年向半導體業務投資8600億日元，其中一部分將被用於引進採用新技術的快閃記憶體生產線。計劃於2017年度在三重縣的四日市工廠啟動生產，並在預定於2018年度投產的新製造車間完工後正式進入量產體制。

    與原來的方式相比，新技術將電路底板像印章一樣蓋壓到矽晶圓上，可將名為光刻工序的電路形成階段的成本降至三分之一左右。

    此前的方式需採用特殊光源裝置和高精度透鏡，設備成本較高。從存儲器的整個製造工序來看，預計可削減成本約10%。

    NAND型快閃記憶體在手機視頻等數據存儲用途方面的需求一直不斷增加。除了智慧型手機之外，今後面向數據中心存儲裝置的市場估計也將持續擴大。

    東芝通過出售白色家電業務及醫療設備子公司，將經營資源集中到半導體及核電設備等領域，以加緊進行經營重組。在作為半導體業務的主力、全球市場份額排名第二的NAND型快閃記憶體領域，將通過向四日市工廠進行巨額投資以及引進新技術來追趕三星。

    圍繞半導體的電路形成技術，荷蘭半導體設備廠商阿斯麥（ASML）正在美國英特爾和三星的幫助下，研發採用被稱為超紫外線的短波光「EUV曝光」技術。由於利用此前的技術已難以提高半導體的性能，因此東芝等全球半導體廠商競相開發新一代生產技術，並將其投入實用。■